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1. 发明授权

KR101862001B1 물체 처리 장치, 노광 장치 및 노광 방법, 및 디바이스 제조 방법 有权
公开(公告)号：KR101862001B1
公开(公告)日：2018-05-29
申请号：KR1020127005322
申请日：2010-08-17
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 아오키야스오 , 하마다도모히데 , 시라스히로시 , 도구치마나부
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/68 , B65G49/06 , H01L21/683
CPC分类号： G03F7/70716 , B65G49/065 , B65G2249/04 , G03F7/70791 , G03F7/70816 , H01L21/68 , H01L21/6838 , Y10T29/49998
摘要： 기판 (P) 의하방에는, 기판 (P) 의하면에에어를분출하는복수의에어부상유닛 (50) 이배치되고, 기판 (P) 은, 대체로수평이되도록비접촉지지를받는다. 또, 기판 (P) 은, 정점스테이지 (40) 에의해피노광부분이하방으로부터비접촉유지되고, 그피노광부분의면위치가핀포인트방식으로조정된다. 따라서, 기판 (P) 에고정밀도로노광을실시할수가있고, 또한기판스테이지장치 (PST) 의구성을간단하게할 수있다.

2. 发明授权

KR101830565B1 노광 장치 및 디바이스 제조방법 有权
公开(公告)号：KR101830565B1
公开(公告)日：2018-02-20
申请号：KR1020167032936
申请日：2004-06-18
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 에비하라아키미츠
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027 , B82Y10/00
CPC分类号： G03F7/70333 , B82Y10/00 , G03F7/70225 , G03F7/70325 , G03F7/70341 , G03F7/70716 , G03F7/70725 , G03F7/70733 , G03F7/70758 , G03F7/70816 , Y10T29/49826
摘要： 수압패드 (32) 와수압패드 (34) 에의해, 웨이퍼 (W) 및그 웨이퍼가재치된테이블 (TB) 이협지되어있다. 수압패드 (32) 에의해, 그베어링면과웨이퍼 (W) 의투영광학계 (PL) 의광축방향에관한간격이소정치수로유지된다. 또, 수압패드는기체정압베어링과는달리베어링면과지지대상물 (기판) 사이의비압축성유체 (액체) 의정압을이용하기때문에, 베어링의강성이높고베어링면과기판의간격이안정되어더욱일정하게유지된다. 또액체 (예를들어순수) 는기체 (예를들어공기) 에비하여점성이높고, 액체는진동감쇠성이기체에비하여양호하다. 따라서, 초점위치검출계등을반드시형성하지않고도디포커스가거의없는웨이퍼 (기판) 상에대한패턴의전사가실현된다.

3. 发明公开

KR20180016621A 노광 장치 및 디바이스 제조방법 有权
标题翻译：曝光装置和装置制造方法
公开(公告)号：KR20180016621A
公开(公告)日：2018-02-14
申请号：KR20187003214
申请日：2004-06-18
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 에비하라아키미츠
IPC分类号： G03F7/20 , B82Y10/00 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70333 , B82Y10/00 , G03F7/70225 , G03F7/70325 , G03F7/70341 , G03F7/70716 , G03F7/70725 , G03F7/70733 , G03F7/70758 , G03F7/70816 , Y10T29/49826
摘要： 수압패드 (32) 와수압패드 (34) 에의해, 웨이퍼 (W) 및그 웨이퍼가재치된테이블 (TB) 이협지되어있다. 수압패드 (32) 에의해, 그베어링면과웨이퍼 (W) 의투영광학계 (PL) 의광축방향에관한간격이소정치수로유지된다. 또, 수압패드는기체정압베어링과는달리베어링면과지지대상물 (기판) 사이의비압축성유체 (액체) 의정압을이용하기때문에, 베어링의강성이높고베어링면과기판의간격이안정되어더욱일정하게유지된다. 또액체 (예를들어순수) 는기체 (예를들어공기) 에비하여점성이높고, 액체는진동감쇠성이기체에비하여양호하다. 따라서, 초점위치검출계등을반드시형성하지않고도디포커스가거의없는웨이퍼 (기판) 상에대한패턴의전사가실현된다.
摘要翻译：流体静力垫（32）和流体静力垫（34）保持其上安装晶片的晶片（W）和台（TB）。流体静力垫（32）将投影光学系统（PL）的光轴方向上的支承面与晶片（W）之间的距离保持为预定值。另外，由于与静态气体轴承不同，静水压力垫片利用承载表面和支撑物体（基底）之间的不可压缩流体（液体）的静态压力，所以轴承的刚度高，轴承表面与衬底保持稳定和恒定。另外，液体（例如纯水）的粘度比气体（例如空气）高，并且与气体相比在振动阻尼方面优越。因此，可以实现基本没有散焦的晶片（衬底）上的图案转移，而不必设置焦点位置检测系统。

4. 发明授权

KR101688905B1 리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법 有权
标题翻译： LITHOGRAPHIC装置和装置制造方法
公开(公告)号：KR101688905B1
公开(公告)日：2016-12-22
申请号：KR1020147018844
申请日：2012-12-05
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
发明人： 버틀러한스 , 블리커아르노 , 헨누스피테르 , 획스마르티누스 , 홀스벤안토인요한 , 반더슈트하르멘 , 슬래그헤크베르나르뒤스 , 티네만스패트리시우스 , 반데르위스트마크 , 자알코엔 , 캐디테오도루스페트루스마리아 , 비렌스루드 , 피셔올로프 , 안젠넌트바우터 , 보쉬니엘스요하네스마리아
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70258 , G03F7/70275 , G03F7/70366 , G03F7/70391 , G03F7/704 , G03F7/70558 , G03F7/70816 , G03F7/709
摘要： 노광장치로서, 복수의방사선빔을타겟상에투영하도록구성되는투영시스템; 축근방에서적어도회전가능한가동프레임; 및상기가동프레임을상기가동프레임의기하학적중심에대응하는축으로부터멀어지는축을향하여변위시키고, 그리고상기프레임이상기프레임의질량중심을통과하는축 근방에서회전하게하도록구성되는액추에이터시스템을포함하는, 노광장치.
摘要翻译：一种曝光装置，包括：投影系统，被配置为将多个辐射束投影到目标上; 至少可绕轴旋转的可移动框架; 以及致动器系统，其构造成将可移动框架移动到远离与可移动框架的几何中心对应的轴线的轴线上，并使框架围绕通过框架的质心的轴线旋转。

5. 发明授权

KR101682181B1 공작물 테이블과 마스크 테이블이 공용하는 균형질량 시스템 및 노광기 有权
标题翻译：工作台和面板和平面机共享的平衡质量系统
公开(公告)号：KR101682181B1
公开(公告)日：2016-12-02
申请号：KR1020157013745
申请日：2013-09-23
申请人： 상하이 마이크로 일렉트로닉스 이큅먼트(그룹) 컴퍼니 리미티드
发明人： 왕톈밍
IPC分类号： F16F15/00 , F16F15/28 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/709 , F16F7/10 , F16F7/1005 , F16F15/002 , G03F7/70716 , G03F7/70766 , G03F7/70808 , G03F7/70816 , G03F7/70833
摘要： 본발명은공작물테이블과마스크테이블이공용하는균형질량시스템에관한것으로서, 공작물테이블시스템을설치하기위한제1부분(11); 마스크테이블시스템을설치하기위한제2부분(20); 및제1부분(11)과제2부분(20)을연결하기위한제3부분(14)을포함하는균형질량체와드리프트방지및 보상장치(16)를포함하며, 균형질량체의제1부분(11)은노광기의베이스프레임(1)에부유되도록지지되고, 균형질량체의제3부분(14)은드리프트방지및 보상장치(16)를통해베이스프레임(1)과서로연결되며, 드리프트방지및 보상장치(16)는전체균형질량체의무게중심위치에가깝게설치된다. 균형질량시스템을이용하면마스크테이블시스템의외부홀더를절약할수 있고, 노광기의부피와무게를줄일수 있으며, 필요한균형질량의질량을절감할수 있어, 전체적인구조를더 치밀하게한다.
摘要翻译：由工件台和掩模台共用的平衡质量系统包括平衡块和防漂移补偿装置（16）。平衡块包括用于安装工件台系统的第一部分（11），用于在其上安装掩模台系统的第二部分（20）和用于将第一部分（11）和第二部分第（20）部分。平衡块的第一部分（11）浮动地支撑在平版印刷机的基架（1）上，平衡块的第三部分（14）通过防反射板与基架（1）连接，漂移和补偿装置（16）。防漂移补偿装置（16）整体上配置在平衡块的重心附近。该平衡质量系统可以消除对掩模台系统使用额外的支撑的需要，并允许构造具有更高结构紧凑性，减小尺寸和重量的平版印刷机，并减少使用的平衡质量的总质量。

6. 发明公开

KR1020160121575A 리소그래피 스테이지 및 수직 위치 초기화 방법 审中-实审
标题翻译：立体机床工作台及其垂直位置初始化方法
公开(公告)号：KR1020160121575A
公开(公告)日：2016-10-19
申请号：KR1020167025728
申请日：2015-02-12
申请人： 상하이 마이크로 일렉트로닉스 이큅먼트(그룹) 컴퍼니 리미티드
发明人： 리아오,페이홍 , 주,웨빈 , 지아,헤일리 , 후,슈핑
IPC分类号： G03F7/20 , G03F9/00
CPC分类号： G03F7/70725 , G03F7/70758 , G03F7/70775 , G03F7/70816 , G03F7/70716 , G03F9/7046
摘要： 리소그래피스테이지를위한마이크로모션모듈은, 베이스(201); 마이크로모션보드(210); 상기베이스및 마이크로모션보드사이에고정되는복수개의수직모터(203); 일단이상기베이스상에고정되고, 타단이상기마이크로모션보드를지지하기위한복수개의중력보상기(202); 마이크로모션보드의절대위치를측정하고, 측정해낸 절대위치에근거하여상기복수개의중력보상기의압력을조절하여, 마이크로모션보드의절대위치를기설정된수직초기위치로조절하는복수개의절대위치센서(205, 211); 및베이스및 마이크로모션보드사이의상대위치를측정하기위한복수개의상대위치센서(204, 207)를포함하고, 상기복수개의수직모터는측정해낸 상대위치에근거하여마이크로모션보드를상대제로비트로이동하도록제어한다.
摘要翻译：一种用于光刻工具的晶片台的精细运动模块包括：基座（201）; 微动板（210）; 多个垂直马达（203），固定在基座和微动板之间; 多个重力补偿器（202），每个重力补偿器的一端固定在基座上，另一端构造成支撑微动板; 多个绝对位置传感器（205,211），被配置为基于所获得的绝对位置测量值来测量所述精细运动板的绝对位置并且调整所述重力补偿器中的压力，使得所述精细运动板的绝对位置，运动板被改变到预定的初始垂直位置; 以及多个相对位置传感器（204,207），其被配置为测量所述微动板与所述基座的相对位置，并且基于所获得的相对位置测量来控制所述微动板，由此移动所述精细运动板 - 运动板到相对零位置。

7. 发明授权

KR101529844B1 노광 장치 및 디바이스 제조방법 有权
标题翻译：曝光装置和装置的制造方法
公开(公告)号：KR101529844B1
公开(公告)日：2015-06-17
申请号：KR1020147016500
申请日：2004-06-18
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 에비하라아키미츠
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , H01L21/677
CPC分类号： G03F7/70333 , B82Y10/00 , G03F7/70225 , G03F7/70325 , G03F7/70341 , G03F7/70716 , G03F7/70725 , G03F7/70733 , G03F7/70758 , G03F7/70816 , Y10T29/49826
摘要： 수압패드 (32) 와수압패드 (34) 에의해, 웨이퍼 (W) 및그 웨이퍼가재치된테이블 (TB) 이협지되어있다. 수압패드 (32) 에의해, 그베어링면과웨이퍼 (W) 의투영광학계 (PL) 의광축방향에관한간격이소정치수로유지된다. 또, 수압패드는기체정압베어링과는달리베어링면과지지대상물 (기판) 사이의비압축성유체 (액체) 의정압을이용하기때문에, 베어링의강성이높고베어링면과기판의간격이안정되어더욱일정하게유지된다. 또액체 (예를들어순수) 는기체 (예를들어공기) 에비하여점성이높고, 액체는진동감쇠성이기체에비하여양호하다. 따라서, 초점위치검출계등을반드시형성하지않고도디포커스가거의없는웨이퍼 (기판) 상에대한패턴의전사가실현된다.

8. 发明公开

KR1020150036516A 자기 디바이스 및 리소그래피 장치 有权
标题翻译：磁性装置和光刻装置
公开(公告)号：KR1020150036516A
公开(公告)日：2015-04-07
申请号：KR1020157003548
申请日：2013-06-18
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
发明人： 분피델루스아드리아누스 , 피셔올로프마르티누스요세푸스
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70716 , G03F7/70758 , G03F7/70816 , H01F7/0252 , H01L21/0274
摘要： 자기디바이스로서, 제 1 부분(FP), 제 2 부분(SP), 상기제 1 부분에커플링되고제 1 자기분극을가지는제 1 자기부(MP1), 상기제 2 부분에커플링되고제 2 자기분극을가지는제 2 자기부(MP2), 및상기제 1 부분에커플링되고및 추가적자기분극을가지는추가적자기부(AMP)를포함하고, 상기제 1 자기부및 제 2 자기부는서로자기적으로상호작용하도록구성되며, 상기제 1 자기부는제 1 힘을상기제 2 자기부상에작용시키고, 상기제 2 자기부는제 2 힘을상기제 1 자기부상에작용시키며, 그리고상기제 1 힘및 제 2 힘은기준방향(RD)에평행한반대방향을가지고, 상기제 1 자기분극은상기기준방향에실질적으로평행하고, 상기제 2 자기분극은상기기준방향에실질적으로수직이며, 상기추가적자기분극은상기제 1 자기분극과소정각도를이루고, 그리고상기각도는약 90° 내지약 270°의범위내에있는, 자기디바이스.
摘要翻译：磁性装置包括第一和第二部分，具有耦合到第一部分的具有第一磁极化的第一磁性部分，具有耦合到第二部分的第二磁极化的第二磁性部分和耦合到第二部分的附加磁性部分第一部分并具有额外的磁极化。第一和第二磁性部件彼此磁性地相互作用。第一磁性部件在第二磁性部件上施加第一力，第二磁性部件在第一磁性部件上施加第二力，并且第一和第二力具有与参考方向平行的相反方向。第一磁极化基本上平行于参考方向，第二磁极化基本上垂直于参考方向，附加的磁极化与第一磁极化成一定角度并且具有大约在90°-270° 。

9. 发明公开

KR1020150036273A 이동가능 요소를 위한 지지대, 지지대 시스템, 리소그래피 장치, 이동가능 요소를 지지하는 방법, 및 디바이스 제조 방법 有权
标题翻译：支持移动元件和平面设备
公开(公告)号：KR1020150036273A
公开(公告)日：2015-04-07
申请号：KR1020157002515
申请日：2013-05-15
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
发明人： 분피델루스 , 홀스벤 , 피셔올로프
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70833 , F16C32/0459 , G03F7/70058 , G03F7/704 , G03F7/70816 , H01L21/0274
摘要： 이동가능요소(8)를위한지지대(40)는고정자요소(52), 상기고정자요소상에탑재되는중력보상기필드유도요소(80); 및상기고정자요소상에탑재되는복수의토크보상기필드유도요소(66A-D)를포함하고, 이때상기중력보상기필드유도요소는상기고정자요소와상기이동가능요소사이의갭(42) 내의자기장(81)을제어하여상기이동가능요소에병진력(46)을인가하도록구성되고, 상기토크보상기필드유도요소는상기고정자요소와상기이동가능요소사이의갭 내의자기장(77, 79)을제어하여상기이동가능요소에토크를인가하도록구성되고, 상기토크는상기중력보상기필드유도요소에의해인가된병진력의방향에실질적으로수직인제1 축(48, 50)에대한것이다.
摘要翻译：可移动元件的支撑件包括定子元件，安装在定子元件上的重力补偿器场感应元件，重力补偿器场引发元件被配置为通过控制定子之间的间隙中的磁场向可移动元件施加平移力元件和可移动元件以及安装在定子元件上的多个扭矩补偿器场诱导元件，扭矩补偿器场诱导元件被配置为通过控制定子元件和定子元件之间的间隙中的磁场向可移动元件施加扭矩所述扭矩大约是基本上垂直于由重力补偿器场诱导元件施加的平移力的方向的第一轴线。

10. 发明授权

KR101364928B1 액침 리소그래피 장치용 진공 배출을 포함하는 환경 시스템 有权
公开(公告)号：KR101364928B1
公开(公告)日：2014-02-19
申请号：KR1020137000740
申请日：2004-03-29
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 헤이즐턴앤드류제이 , 소가드마이클
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70875 , G03F7/2041 , G03F7/70341 , G03F7/70775 , G03F7/70816 , G03F7/70866 , G03F7/709
摘要： 광학 어셈블리 (16) 와 디바이스 (30) 사이의 갭 (246) 내의 환경을 제어하는 환경 시스템 (26) 은 유체 배리어 (254) 및 액침유체 시스템 (252) 을 포함한다. 유체 배리어 (254) 는 디바이스 (30) 부근에 위치결정된다. 액침유체 시스템 (252) 은 그 갭 (246) 을 채우는 액침유체 (248) 를 전달한다. 액침유체 시스템 (252) 은 직접적으로 유체 배리어 (254) 와 디바이스 (30) 사이에 있는 액침유체 (248) 를 수집한다. 유체 배리어 (254) 는 디바이스 (30) 부근에 위치결정되는 배출 입구 (scavenge inlet) (286) 를 포함할 수 있고, 액침유체 시스템 (252) 은 배출 입구 (286) 와 유체 소통하는 저압 소스 (392A) 를 포함할 수 있다. 유체 배리어 (254) 는 액침유체 (248) 의 임의의 증기 (249) 를 제한하며, 이 증기 (249) 가 측정 시스템 (22) 을 교란시키는 것을 방지한다. 부가적으로, 환경 시스템 (26) 은 디바이스 (30) 에 대하여 유체 배리어 (254) 를 지지하도록 유체 배리어 (254) 와 디바이스 (30) 사이에 베어링 유체 (290C) 를 제공하는 베어링 유체 소스 (290B) 를 포함할 수 있다.

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