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1. 发明公开

KR20180042383A 리소그래피 시스템용 센서 배열체, 리소그래피 시스템, 및 리소그래피 시스템을 동작하기 위한 방법 审中-公开
公开(公告)号：KR20180042383A
公开(公告)日：2018-04-25
申请号：KR20187008160
申请日：2016-08-19
申请人： ZEISS CARL SMT GMBH
发明人： BIHR ULRICH , HOLZ MARKUS , HORN JAN
IPC分类号： G03F7/20 , G01D5/24 , G02B26/08
CPC分类号： G03F7/7085 , G01D5/24 , G02B26/0841 , G03F7/70116
摘要： 리소그래피시스템내의광학요소의위치를감지하기위한센서배열체(1)이며, 센서배열체(1)는제1 여기신호(V)를사용하여감지될수 있는위치의존성가변제1 센서커패시턴스(C)를갖는제1 용량성센서디바이스(2); 제2 여기신호(V)를사용하여감지될수 있는위치의존성가변제2 센서커패시턴스(C)를갖는제2 용량성센서디바이스(3); 및제1 센서디바이스(2)와연계가능한기생커패시턴스상에존재하는전하가제1 및/또는제2 여기신호경로외부의신호경로를거쳐제2 센서디바이스(3)와연계가능한기생커패시턴스상에존재하는전하에의해적어도부분적으로보상되는방식으로제1 및제2 여기신호(V, V)를생성하도록구성된제어디바이스(8)를포함한다. 센서배열체는리소그래피시스템내에유리하게사용될수 있고, 센서요소및 액추에이터를위한높은판독및 작동주파수를허용한다.

2. 发明授权

KR101810327B1 노광 장치 및 이를 이용한 디바이스 제조 방법 有权
标题翻译：曝光装置和装置制造方法
公开(公告)号：KR101810327B1
公开(公告)日：2017-12-18
申请号：KR1020160102354
申请日：2016-08-11
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 스즈키아츠시 , 히라노신이치
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70191 , G03F7/70066 , G03F7/7015 , G03F7/7085
摘要： 본발명의노광장치는, 기판면에공액인면에배치되고, 상기기판상의원형경계선외측의외주영역에광이입사하지않도록광을차단하는차광판과; 상기차광판을상기조명계의광축에평행한축을중심으로회전구동시키는제1 구동유닛과; 상기차광판을상기광축에수직인면 내에서직선구동시키는제2 구동유닛과; 차광위치를검출하는검출유닛과; 기준시점에서의차광위치와, 상기기준시점후에상기차광판이변경된경우상기차광판의변경전후의차광위치를저장하고, 상기차광판이변경된후의임의의시점에서상기검출유닛에의해검출되는차광위치와, 상기기준시점에서의차광위치와, 상기차광판이변경되기전후의차광위치사이의차분에기초하여, 상기차광위치의변화량을산출하는제어유닛을포함한다.
摘要翻译：本发明的曝光设备包括：遮光板，设置在基板表面的共轭表面上并遮挡光线，使得光线不进入基板上的圆形边界线外部的外围区域; 第一驱动单元，用于围绕与照明系统的光轴平行的轴旋转地驱动遮光板; 第二驱动单元，用于在垂直于光轴的平面内线性驱动遮光板; 检测单元，用于检测阴影位置; 标准如果eseoui遮蔽位置的时间点，其中，所述遮光板之前，并且其中所述屏蔽板由所述检测部在改变位置之后的特定时间检测到的遮光板和阴影的变化之后存储的遮光位置的基准时间点之后改变，并且参考 eseoui基于遮光位置之间的差时，屏蔽板之前改变和遮光位置时，在光阻挡位置计算的变化量的控制单元之后。

3. 发明授权

KR101790830B1 간섭계, 리소그래피 장치, 및 물품 제조 방법 有权
标题翻译：干涉仪，光刻设备和物品制造方法
公开(公告)号：KR101790830B1
公开(公告)日：2017-10-26
申请号：KR1020140088285
申请日：2014-07-14
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 야마구치와타루 , 마츠모토다카히로 , 이나히데키
IPC分类号： G03F9/00 , G01B9/02 , G01B11/06 , H01L21/66
CPC分类号： G03F9/7034 , G01B9/0209 , G01B11/0675 , G03F7/7085 , G03F9/7049
摘要： 본발명의간섭계는, 광원으로부터의광을분할하고, 참조광과측정광을합성하여, 간섭광을생성하도록구성된광학계와; 상기광학계에의해서생성된상기간섭광을검출하도록구성된검출기와; 상기검출기가상기광원으로부터의광을검출하기전에상기광원으로부터의광에대해공간가간섭을부여하도록구성된광학부재를포함한다. 상기광학부재는, 상기광학부재상으로입사되는광의빔의단면과, 상기광학계에의해서분할되기전의상기광원으로부터의광, 상기참조광, 상기측정광및 상기간섭광의광로를포함하는평면의교차선의방향으로서제공되는제2 방향으로, 상기평면에수직한제1 방향보다큰 공간가간섭을부여한다.
摘要翻译：本发明的干涉仪，由分割光从一光源，与参照光并测定光，被配置成产生干涉光的光学系统相结合; 检测器，被配置为检测由光学系统产生的干涉光; 以及光学构件，其构造成在检测器检测到来自光源的光之前对来自光源的光施加空间虚拟干涉。所述光学部件包括所述光束的横截面的平面，其是在光学部件上入射，包括光，参考光和测量光与来自光源的干涉光路之前，通过光学系统分割的交叉线方向在第二方向上，该第二方向被设置为垂直于该平面的第一方向。

4. 发明公开

KR1020170107102A 노광 장치, 노광 방법 및 디바이스 제조 방법, 그리고 광학 부품 审中-实审
公开(公告)号：KR1020170107102A
公开(公告)日：2017-09-22
申请号：KR1020177025716
申请日：2004-12-03
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 나가사카히로유키 , 다카이와히로아키 , 히루카와시게루 , 호시카류이치 , 이시자와히토시
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/7085 , G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/7075 , G03F7/20 , G03F7/2041 , H01L21/0274
摘要： 노광장치 (EX) 는투영광학계 (PL) 와액체 (1) 를통해기판 (P) 상에노광광 (EL) 을조사하여기판 (P) 을노광하는것으로서, 기판 (P) 을유지하기위한기판테이블 (PT) 을구비하고, 기판테이블 (PT) 에발액성의평탄면 (30A) 을갖는플레이트부재 (30) 를교환가능하게형성하여액체가잔류하는것을방지하고, 양호한노광정밀도를유지할수 있다.

5. 发明公开

KR1020170105247A 마스크리스 노광 장치 및 이를 이용한 누적 광량의 측정 방법 审中-实审
标题翻译：使用该设备测量累积光量的无掩模曝光设备和方法
公开(公告)号：KR1020170105247A
公开(公告)日：2017-09-19
申请号：KR1020160028205
申请日：2016-03-09
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 주지영 , 크리시나시바람 , 김태현 , 배상우 , 장상돈 , 주원돈
IPC分类号： G03F7/20 , G03F1/44
CPC分类号： G03F7/70391 , G03F7/7005 , G03F7/70133 , G03F7/70208 , G03F7/70275 , G03F7/70291 , G03F7/70383 , G03F7/704 , G03F7/70425 , G03F7/70558 , G03F7/7085
摘要： 마스크리스노광장치및 이를이용한누적광량의측정방법이제공된다. 마스크리스노광장치는광을출사하는광원, 기판이배치되는스테이지, 상기광을복수의행과복수의열을포함하는빔 스팟어레이로변환하여상기스테이지상으로조사하는광학계, 상기빔 스팟어레이가조사되고, 상기빔 스팟어레이의제n번째(n은자연수) 열을통과시키는슬릿, 상기슬릿을통과한상기빔 스팟어레이의상기제n 열을센싱하는광 센서및 상기광 센서가센싱한상기빔 스팟어레이의상기제n 열의누적광량을측정하는측정부를포함한다
摘要翻译：提供了一种使用无掩模曝光设备的无掩模曝光设备和用于测量累积光量的方法。掩模无曝光装置包括：光学系统转换光源，所述阶段，其中基片被布置为光束点阵列包括多个行和照射到阶段多个热，其中所述光束点阵列照射在发光的光并且，光束点的第n个（N隐士训练）狭缝，光学传感器和感测hansanggi束斑阵列，用于感测通过狭缝hansanggi束斑阵列，其发送所述阵列的热传递的第n列的光学传感器的以及用于测量第n列的累积光量的测量单元

6. 发明授权

KR101764094B1 이동체 구동 방법 및 이동체 구동 시스템, 패턴 형성 방법 및 장치, 노광 방법 및 장치, 그리고 디바이스 제조 방법 有权
公开(公告)号：KR101764094B1
公开(公告)日：2017-08-14
申请号：KR1020167006822
申请日：2007-09-03
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 시바자키유이치
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70725 , G03F7/70758 , G03F7/70775 , G03F7/7085 , G03F7/70975 , Y10T29/49117
摘要： 제어장치는, 이동체 (WST) 의 XY 평면에대한경사각을계측하는간섭계의계측값에기초하여, 그레이팅 (39Y, 39Y) 의주기방향에관하여 XY 평면에대해이동체를각도α 경사시켜, 그경사전후의인코더시스템 (62A, 62C) 의계측값과각도α 의정보에기초하여, XY 평면내에있어서의이동체의위치제어의기준이되는기준면 (예를들어, 투영광학계의이미지면) 에대한그레이팅표면의아베이탈량를산출한다. 그리고, 제어장치는, 인코더시스템에의해계측된 XY 평면내에있어서의이동체의위치정보와, 그레이팅표면의아베이탈량에서기인하는 XY 평면에대한이동체의경사각에따른인코더시스템의계측오차에기초하여 XY 평면을따라이동체를구동시킨다.

7. 发明公开

KR1020170058458A 노광장치, 노광방법 및 디바이스 제조방법 审中-实审
公开(公告)号：KR1020170058458A
公开(公告)日：2017-05-26
申请号：KR1020177013519
申请日：2004-09-29
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 니시나가히사시 , 히키마이쿠오 , 도요다미츠노리 , 나카가와마사히로 , 하기와라츠네유키 , 미즈노야스시 , 기타나오노리 , 다니츠오사무 , 에무라노조무
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/7015 , G03F7/70058 , G03F7/70341 , G03F7/706 , G03F7/7085
摘要： 투영광학계 (PL) 로부터액체 (LQ) 에입사한노광광중, 광투과부 (44) 에입사한노광광은기체속을통과하지않고광학부재 (41) 에입사하여수렴된다. 노광장치는투영광학계의개구수가증대하여도투영광학계로부터의노광광을수광하여각종계측을할 수있다.

8. 发明授权

KR101739711B1 노광장치, 노광방법 및 디바이스 제조방법 有权
公开(公告)号：KR101739711B1
公开(公告)日：2017-05-24
申请号：KR1020167006334
申请日：2004-09-29
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 니시나가히사시 , 히키마이쿠오 , 도요다미츠노리 , 나카가와마사히로 , 하기와라츠네유키 , 미즈노야스시 , 기타나오노리 , 다니츠오사무 , 에무라노조무
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/7015 , G03F7/70058 , G03F7/70341 , G03F7/706 , G03F7/7085
摘要： 투영광학계 (PL) 로부터액체 (LQ) 에입사한노광광중, 광투과부 (44) 에입사한노광광은기체속을통과하지않고광학부재 (41) 에입사하여수렴된다. 노광장치는투영광학계의개구수가증대하여도투영광학계로부터의노광광을수광하여각종계측을할 수있다.

9. 发明公开

KR1020170051514A 방사선 소스를 모니터링하는 디바이스, 방사선 소스, 방사선 소스를 모니터링하는 방법, 디바이스 제조 방법 审中-实审
标题翻译：一种用于监视辐射源的装置，一种辐射源，一种用于监视辐射源的方法，一种装置制造方法
公开(公告)号：KR1020170051514A
公开(公告)日：2017-05-11
申请号：KR1020177009703
申请日：2015-08-11
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
发明人： 보가트,에릭,빌렘 , 자오,추앙신
IPC分类号： G03F7/20 , G01N27/22
CPC分类号： G03F7/20 , G01N27/22 , G01N2027/222 , G03F7/70033 , G03F7/7085 , G03F7/70908 , H05G2/001
摘要： 리소그래피장치를위한방사선소스에서증기또는증기로부터의침적물을모니터링하는용량성측정들에관한것이다. 측정들은방사선소스의작동을제어하는데 사용될수 있다. 특정한일 구성에서, 복수의캐패시터들로부터의측정들은증기에의해야기된커패시턴스의변화들과증기로부터의침적물에의해야기되는커패시턴스의변화들을구별하는데 사용된다.
摘要翻译：用于监视光刻设备的辐射源处的用于监测来自蒸气或蒸气的沉积的电容测量。测量可以用来控制辐射源的操作。在特定的布置中，使用来自多个电容器的测量结果来区分由蒸气引起的电容变化和由蒸气沉积引起的电容变化。

10. 发明公开

KR1020170041909A 리소그래피 장치 및 방법 审中-实审
标题翻译：光刻设备和方法
公开(公告)号：KR1020170041909A
公开(公告)日：2017-04-17
申请号：KR1020177007022
申请日：2015-06-25
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
发明人： 나키보글루,귀네스 , 코신스,수잔느 , 반복스텔,프랭크요한네스야코부스 , 반데르파쉬,엥겔베르투스 , 퀴스트,안네 , 소스니악,루카즈
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/7085 , G03F7/70775 , G03F7/709
摘要： 리소그래피장치는광학센서(24), 이동가능한몸체(20), 지지체, 디플렉터시스템(22), 제 1 구동시스템및 제 2 구동시스템을포함한다. 이동가능한몸체는센서에대해이동가능하다. 지지체는센서를유지하기위한것이다. 제 1 구동시스템은센서에대해이동가능한몸체를이동시키도록배치된다. 제 2 구동시스템은센서에대해제 1 구동시스템을이동시키도록배치된다. 제 2 구동시스템은센서에대해디플렉터시스템을이동시키도록배치된다. 이동가능한몸체의이동에의해외란이유도된다. 디플렉터시스템은지지체로부터멀리외란을반사시키는편향영역을생성하도록배치된다.
摘要翻译：光刻设备包括光学传感器24，可移动体20，支撑件，偏转器系统22，第一驱动系统和第二驱动系统。可移动体可相对于传感器移动。支持用于保持传感器。第一驱动系统布置成相对于传感器移动可移动体。第二驱动系统布置成相对于传感器移动第一驱动系统。第二驱动系统布置成相对于传感器移动偏转器系统。这也是海外移动到活动身体的原因。偏转器系统布置成产生反射离开支撑件的干扰的偏转区域。

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