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1. 发明公开

KR20180059936A 리소그래피 장치의 물체를 유지하는 척과 클램프 및 리소그래피 장치의 클램프에 의해 유지되는 물체의 온도를 제어하는 방법 审中-公开
公开(公告)号：KR20180059936A
公开(公告)日：2018-06-05
申请号：KR20187012922
申请日：2016-10-05
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/67 , H01L21/683
CPC分类号： G03F7/70875 , G03F7/707 , G03F7/70783 , H01L21/67109 , H01L21/67115 , H01L21/67248 , H01L21/6831
摘要： 리소그래피장치는물체(402)를수용하도록구성된클램프(406)를포함한다. 상기클램프는제1유체온도에서유체를통과시키도록구성된적어도하나의채널(408)을형성한다. 또한, 상기리소그래피장치는상기클램프에결합된척(404)을포함한다. 상기척(404)은상기척을상기클램프로부터열적으로절연시키도록구성된적어도하나의보이드(464)를형성한다.

2. 发明公开

KR1020170141741A 리소그래피 장치 审中-实审
标题翻译：光刻设备
公开(公告)号：KR1020170141741A
公开(公告)日：2017-12-26
申请号：KR1020177033567
申请日：2016-04-04
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
发明人： 코에보에츠,아드리아누스,헨드릭 , 알레마크,에릭,요한 , 덕스,샌더,카타리나,레이니르 , 돈더스,수어드,니콜라스,람베르토 , 엔덴디크,윌프레드,에드워드 , 얀센,프란치스코,요하네스,요셉 , 라파레,레이몬드,빌헬무스,루이스 , 레바시에르,레옹,마틴 , 오버캠프,짐,빈센트 , 텐케이트,니콜라스 , 반데르산덴,야코버스,코르넬리스,헤라르뒤스
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70875 , G03F7/2041 , G03F7/70258 , G03F7/70783 , H01L21/67098 , H01L21/683
摘要： 기판테이블상에유지된기판에노광영역을형성하기위해패터닝된방사선빔을투영하도록구성되는투영시스템을포함한리소그래피장치가개시되고, 리소그래피장치는기판을냉각하는냉각장치(40)를더 포함하며, 냉각장치는노광영역에인접하고기판테이블위에위치되는냉각요소(42, 44)를포함하며, 냉각요소는기판으로부터열을제거하도록구성된다.
摘要翻译：公开包括被配置为投射图案化辐射束以形成在衬底台上保持的基片上暴露的区域的投影系统的光刻设备，一种光刻设备，包括：冷却装置40 reuldeo用于冷却基板，冷却该设备包括与曝光区域相邻并位于衬底台上方的冷却元件（42,44），其中冷却元件被配置为从衬底去除热量。

3. 发明公开

KR1020170091789A 스테이지 장치, 노광 장치, 노광 방법, 및 디바이스 제조 방법 审中-实审
标题翻译：舞台设备，曝光设备，曝光方法和设备制造方法
公开(公告)号：KR1020170091789A
公开(公告)日：2017-08-09
申请号：KR1020177021531
申请日：2009-02-02
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 나가사카히로유키
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70875 , G03F7/70341 , G03F7/70891 , H01L21/027
摘要： 스테이지장치 (2) 는, 제 1 물체를유지하는테이블부재 (17) 와, 테이블부재에형성되고, 제 1 액체를회수하기위한액체회수구 (40) 와, 테이블부재의내부에형성되고, 액체회수구와접속되어테이블부재의온도를조정하기위한제 2 액체가흐르는제 1 유로 (41) 와, 제 1 유로의압력을조정하는압력조정장치 (47) 를구비하고있다. 스테이지장치 (2) 는기화열에의한온도변화를억제할수 있다. 스테이지장치 (2) 를구비하는노광장치 (EX) 가제공된다.
摘要翻译：载物台装置2包括用于保持第一物体的工作台部件17，形成在工作台部件上用于回收第一液体的液体回收口40，用于调节与球体连接的工作台部件的温度的第二液体流过的第一流路41以及用于调节第一流路的压力的压力调节装置47。平台装置2可以抑制由于汽化热而引起的温度变化。提供配备有台架装置2的曝光装置EX。

4. 发明授权

KR101747662B1 노광 장치 및 디바이스 제조 방법 有权
公开(公告)号：KR101747662B1
公开(公告)日：2017-06-15
申请号：KR1020157010305
申请日：2005-06-07
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 시라이시겐이치
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70875 , G03B27/42 , G03F7/70341 , G03F7/70916
摘要： 액침법에기초하는노광처리및 계측처리를고정밀도로실시할수 있는노광장치를제공한다. 노광장치 (EX) 는투영광학계 (PL) 의이미지면측에액체 (LQ) 의액침영역 (AR2) 을형성하고, 투영광학계 (PL) 와액침영역 (AR2) 의액체 (LQ) 를개재하여기판 (P) 을노광하는것으로서, 액침영역 (AR2) 을형성하기위한액체 (LQ) 의성질및 성분중 적어도어느일방을계측하는계측장치 (60) 를구비하고있다.

5. 发明公开

KR1020170016532A 노광 장치 및 디바이스 제조 방법 审中-实审
标题翻译：曝光系统和装置生产方法
公开(公告)号：KR1020170016532A
公开(公告)日：2017-02-13
申请号：KR1020177003247
申请日：2005-06-07
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 시라이시겐이치
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , G03B27/42
CPC分类号： G03F7/70875 , G03B27/42 , G03F7/70341 , G03F7/70916 , H01L21/0274 , G03F7/20 , G03F7/2041 , G03F7/70258
摘要： 액침법에기초하는노광처리및 계측처리를고정밀도로실시할수 있는노광장치를제공한다. 노광장치 (EX) 는투영광학계 (PL) 의이미지면측에액체 (LQ) 의액침영역 (AR2) 을형성하고, 투영광학계 (PL) 와액침영역 (AR2) 의액체 (LQ) 를개재하여기판 (P) 을노광하는것으로서, 액침영역 (AR2) 을형성하기위한액체 (LQ) 의성질및 성분중 적어도어느일방을계측하는계측장치 (60) 를구비하고있다.
摘要翻译：提供一种能够精确地进行基于液浸法的曝光处理和测量处理的曝光装置。在投影光学系统（PL）的像面侧形成液体（LQ）的液浸区域（AR2）的曝光装置（EX），经由投影光学系统（PL）露出基板）和浸渍区域（AR2）的液体（LQ）之间设置有测量装置（60），其测量用于形成液浸区域（AR2）的液体（LQ）的性质和成分中的至少一种。

6. 发明公开

KR1020160091979A 장치, 디바이스 및 디바이스 제조 방법 审中-实审
标题翻译：装置，装置和装置制造方法
公开(公告)号：KR1020160091979A
公开(公告)日：2016-08-03
申请号：KR1020167017201
申请日：2014-11-04
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
发明人： 더크스,산더르카타리나레이니어 , 카시미리,에릭빌렘펠릭스 , 디에리치,마르셀마티스테오도르마리에 , 움라우싱,수만트수크듀라마누잔 , 반덴아인덴,빌헬무스테오도루스안토니우스요한네스 , 벨트후이스,요한네스프란시스쿠스마리아 , 즈라브코프,알렉산더니코로프 , 제인에딘,와심
IPC分类号： G03F7/20 , H01J5/18 , H05G2/00 , G02B5/00 , G02B5/20
CPC分类号： G03F7/70033 , G02B5/003 , G02B5/208 , G02B5/22 , G03F7/70191 , G03F7/70575 , G03F7/70633 , G03F7/70875 , G03F7/70883 , G03F7/70933 , H01J5/18 , H05G2/001
摘要： 장치의상이한구역들(50; 60) 간의계면에서연장되는내표면(42)을갖는중공부(41)를포함한적어도하나의밀봉어퍼처(40); 및계면에서실질적으로 EUV 방사선을투과시키고실질적으로비-EUV 방사선을필터링하도록구성되는중공부내에위치된부재(43)를포함하는장치가개시되며, 중공부의내표면은부재에의해중공부로전달되는비-EUV 방사선의흡수를증가시키도록구성된표면처리부를갖는다.

7. 发明授权

KR101585310B1 기판 유지 장치, 노광 장치 및 디바이스 제조방법 有权
标题翻译：基板控制装置曝光装置及装置制造方法
公开(公告)号：KR101585310B1
公开(公告)日：2016-01-14
申请号：KR1020137031821
申请日：2005-12-14
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 시부타마코토
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/2041 , G03F7/707 , G03F7/70716 , G03F7/70875 , H01L21/6838 , H01L21/68735 , H01L21/6875
摘要： 기판의이면측에침입한액체를신속하게회수할수 있는기판유지장치를제공한다. 기판유지장치 (PH) 는, 기재 (PHB) 와, 기재 (PHB) 상에형성되며기판 (P) 의이면 (Pb) 을지지하는제 1 지지부 (46) 와, 기재 (PHB) 상에형성되며기판 (P) 의이면 (Pb) 에대향하고제 1 지지부 (46) 를둘러싸도록설치된제 1 주벽부 (42) 와, 제 1 주벽부 (42) 의외측에형성된제 1 회수구 (51) 를구비하며, 제 1 주벽부 (42) 를따른기체의흐름에의해, 제 1 주벽부 (42) 외측의액체 (LQ) 를제 1 회수구 (51) 까지이동시켜회수한다.
摘要翻译：提供一种能够快速地回收渗透到基板的背面侧的液体的基板保持装置。基板保持装置（PH）包括：基座（PHB）; 第一支撑部分（46），其形成在基部（PHB）上并且支撑待处理基板（P）的后表面（Pb）; 第一周壁部分（42），其形成在基座（PHB）上并且设置成使其与被处理基板（P）的背面（Pb）相对并围绕第一支撑部分（46）; 以及设置在所述第一周壁部（42）的外侧的第一回收口（51）。其特征在于，沿着所述第一周壁部（42）的气体的流动使所述第一周壁部（42）的外侧的液体（LQ）向所述液体回收的第一回收口（51）移动。

8. 发明公开

KR1020150126295A 이온 주입된 레지스트 제거를 향상시키기 위한 플라즈마 건식 스트립 전처리 审中-实审
标题翻译：等离子体干燥条纹预处理，以增强离子印刷电阻去除
公开(公告)号：KR1020150126295A
公开(公告)日：2015-11-11
申请号：KR1020150060707
申请日：2015-04-29
申请人： 램 리써치 코포레이션
发明人： 베리3세이반엘. , 길크리스트글렌
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/02
CPC分类号： G03F7/36 , G03F7/70341 , G03F7/70875 , H01L21/266 , H01L21/31138 , H01L21/67115 , H01L21/67201 , H01L21/67207 , H01L21/67248
摘要： 기판을프로세싱하기위한시스템들및 방법들은미리결정된파장범위를갖는 UV 광원으로부터의 UV 광에기판을노출시키는것을포함한다. 기판은이온충격을받았던포토레지스트층을포함한다. 방법은기판을 UV 광에노출시키는동안기판의온도를제 1 온도이하의온도로제어하는단계를포함한다. 방법은기판을 UV 광에노출시키는단계후에, 상기기판의온도를스트립프로세스온도이하의온도로유지하는동안플라즈마를사용하여상기포토레지스트층을제거하는단계를포함한다.
摘要翻译：用于处理衬底的系统和方法包括将衬底暴露于具有预定波长范围的UV光源的UV光。基板包括已经接收离子轰击的光致抗蚀剂层。该方法包括在将衬底暴露于UV光的同时将衬底的温度控制在小于或等于第一温度的温度的步骤。该方法包括在将衬底暴露于UV光的步骤之后，通过使用等离子体，同时将衬底的温度保持在小于或等于条带处理温度的步骤。

9. 发明公开

KR1020150082678A 기판 유지 장치, 노광 장치 및 디바이스 제조방법 有权
标题翻译：基板保持装置，曝光装置和装置制造方法
公开(公告)号：KR1020150082678A
公开(公告)日：2015-07-15
申请号：KR1020157017190
申请日：2005-12-14
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 시부타마코토
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/2041 , G03F7/707 , G03F7/70716 , G03F7/70875 , H01L21/6838 , H01L21/68735 , H01L21/6875
摘要： 기판의이면측에침입한액체를신속하게회수할수 있는기판유지장치를제공한다. 기판유지장치 (PH) 는, 기재 (PHB) 와, 기재 (PHB) 상에형성되며기판 (P) 의이면 (Pb) 을지지하는제 1 지지부 (46) 와, 기재 (PHB) 상에형성되며기판 (P) 의이면 (Pb) 에대향하고제 1 지지부 (46) 를둘러싸도록설치된제 1 주벽부 (42) 와, 제 1 주벽부 (42) 의외측에형성된제 1 회수구 (51) 를구비하며, 제 1 주벽부 (42) 를따른기체의흐름에의해, 제 1 주벽부 (42) 외측의액체 (LQ) 를제 1 회수구 (51) 까지이동시켜회수한다.
摘要翻译：提供一种能够快速地回收渗透到基板的背面侧的液体的基板保持装置。基板保持装置（PH）包括：基座（PHB）; 第一支撑部分（46），其形成在基部（PHB）上并且支撑待处理基板（P）的后表面（Pb）; 第一圆周壁部分（42），其形成在基部（PHB）上并且设置成与待处理基板（P）的后表面（Pb）相对并围绕第一支撑部分（46）; 以及设置在所述第一周壁部（42）的外侧的第一回收口（51）。其特征在于，沿着所述第一周壁部（42）的气体的流动使所述第一周壁部（42）的外侧的液体（LQ）向所述液体回收的第一回收口（51）移动。

10. 发明公开

KR1020150048921A 노광 장치 및 디바이스 제조 방법 有权
标题翻译：曝光装置和装置制造方法
公开(公告)号：KR1020150048921A
公开(公告)日：2015-05-07
申请号：KR1020157010305
申请日：2005-06-07
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 시라이시겐이치
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70875 , G03B27/42 , G03F7/70341 , G03F7/70916
摘要： 액침법에기초하는노광처리및 계측처리를고정밀도로실시할수 있는노광장치를제공한다. 노광장치 (EX) 는투영광학계 (PL) 의이미지면측에액체 (LQ) 의액침영역 (AR2) 을형성하고, 투영광학계 (PL) 와액침영역 (AR2) 의액체 (LQ) 를개재하여기판 (P) 을노광하는것으로서, 액침영역 (AR2) 을형성하기위한액체 (LQ) 의성질및 성분중 적어도어느일방을계측하는계측장치 (60) 를구비하고있다.
摘要翻译：提供一种能够以高精度进行基于浸液法的曝光处理和测定处理的曝光装置。的曝光装置（EX）通过液体的投影光学系统的（LQ）（PL），液体（LQ）液浸区域投影光学系统具有一个基底上以形成上的像面侧的（AR2）和（PL）与液浸区域（AR2）（ P并测量用于形成液浸区域AR2的液体LQ的质量和成分中的至少一个。

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