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1. 发明授权

KR101846336B1 리소그래피 장치 및 방법 有权
公开(公告)号：KR101846336B1
公开(公告)日：2018-04-06
申请号：KR1020147003960
申请日：2011-03-17
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
发明人： 야쿠닌,안드레이 , 바니네,바딤 , 루프스트라,에릭 , 반데르슈트,하르멘 , 스티븐스,루카스 , 반캠펜,마르텐
IPC分类号： G03F1/62 , G02B5/08 , G03F7/20
CPC分类号： G03F1/64 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C01B32/20 , G02B5/0816 , G02B5/0891 , G02B5/204 , G02B5/208 , G02B27/0006 , G03B27/54 , G03F1/24 , G03F1/62 , G03F7/70058 , G03F7/702 , G03F7/70916 , G03F7/70958 , G03F7/70983 , G21K1/062 , G21K2201/061 , H01B1/04 , H01B1/24
摘要： 리소그래피장치는방사선빔을생성하도록구성된방사선소스, 및패터닝디바이스를지지하도록구성된지지체를포함한다. 패터닝디바이스는패터닝된방사선빔을형성하기위해방사선빔에패턴을부여하도록구성된다. 방사선소스와패터닝디바이스사이에는챔버가위치된다. 챔버는방사선빔을반사시키도록구성된적어도 1 이상의광학구성요소를포함하고, 방사선소스로부터의방사선이이를통과하는것을허용하도록구성된다. 멤브레인(44)이멤브레인을통한방사선빔의통과를허용하고, 오염입자(54)들의통과를방지하도록구성된다. 챔버내부로부터챔버외부로우회경로를따라가스가흐르는것을허용하도록입자포획구조체(52)가구성된다. 우회경로는챔버내부로부터챔버외부로의오염입자(58)들의통과를실질적으로방지하도록구성된다.

2. 发明公开

KR20180021217A 리소그래피 장치 및 방법 审中-公开
公开(公告)号：KR20180021217A
公开(公告)日：2018-02-28
申请号：KR20187004578
申请日：2011-03-17
申请人： ASML NETHERLANDS BV
发明人： YAKUNIN ANDREI , BANINE VADIM , LOOPSTRA ERIK , VAN DER SCHOOT HARMEN , STEVENS LUCAS , VAN KAMPEN MAARTEN
IPC分类号： G03F1/62 , C01B32/20 , G02B5/08 , G02B5/20 , G03F1/24 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F1/64 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C01B32/20 , G02B5/0816 , G02B5/0891 , G02B5/204 , G02B5/208 , G02B27/0006 , G03B27/54 , G03F1/24 , G03F1/62 , G03F7/70058 , G03F7/702 , G03F7/70916 , G03F7/70958 , G03F7/70983 , G21K1/062 , G21K2201/061 , H01B1/04 , H01B1/24
摘要： 리소그래피장치는방사선빔을생성하도록구성된방사선소스, 및패터닝디바이스를지지하도록구성된지지체를포함한다. 패터닝디바이스는패터닝된방사선빔을형성하기위해방사선빔에패턴을부여하도록구성된다. 방사선소스와패터닝디바이스사이에는챔버가위치된다. 챔버는방사선빔을반사시키도록구성된적어도 1 이상의광학구성요소를포함하고, 방사선소스로부터의방사선이이를통과하는것을허용하도록구성된다. 멤브레인(44)이멤브레인을통한방사선빔의통과를허용하고, 오염입자(54)들의통과를방지하도록구성된다. 챔버내부로부터챔버외부로우회경로를따라가스가흐르는것을허용하도록입자포획구조체(52)가구성된다. 우회경로는챔버내부로부터챔버외부로의오염입자(58)들의통과를실질적으로방지하도록구성된다.

3. 发明授权

KR101709376B1 깊은 초점 심도를 갖는 주기적 패턴을 인쇄하는 방법 및 장치 有权
标题翻译：用于打印大量深度聚焦的周期性图案的方法和装置
公开(公告)号：KR101709376B1
公开(公告)日：2017-03-08
申请号：KR1020137003128
申请日：2011-07-05
申请人： 유리타 아. 게.
发明人： 클루베프랜시스 , 다이스크리스티안 , 솔라크하룬
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/26 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70408 , G03B27/54 , G03F7/70325 , G03F7/7035
摘要： 제1 방향에평행한선형특징부의패턴을지니는마스크를제공하는단계, 마스크에평행하고마스크로부터분리된층을배열하는단계, 사실상단색광을생성하는단계, 사실상상기제1 방향에평행한평면에서일정범위의각도에걸쳐상기광으로마스크패턴을조명하는단계로서, 이에의해마스크에의해투과된조명의각각의각도의광이탈보트평면들사이에일정범위의횡방향강도분포를형성하고층에광 필드성분을형성하며, 상기성분들의중첩이원하는패턴을인쇄하는, 조명하는단계를포함하고, 각도의범위는상기성분들의중첩이상기각도들중 하나로광에의해형성된횡방향강도분포의범위의평균과사실상동등하도록파장, 분리거리및 주기와관련하여선택되는, 원하는패턴을감광층에인쇄하는방법.
摘要翻译：一种用于将期望图案印刷到感光层中的方法，其包括提供具有平行于第一方向的线性特征图案的掩模，将该层与所述掩模平行并分离，产生基本上单色的光并照射该掩模在平行于所述第一方向的平面中的入射角范围内的所述光的图案，在正交入射平面中基本上为单个角度，并且由掩模传播的每个入射角的光形成光场其中所述部件的集成打印出所需的图案，其中选择角度范围，使得所述部件的整合基本上等于在Talbot图像平面之间形成的横向强度分布范围的平均值发生角度之一。

4. 发明授权

KR101019821B1 도광 부재 및 이를 이용한 선형 광원 장치 失效
标题翻译：光引导构件和线性光源装置使用相同
公开(公告)号：KR101019821B1
公开(公告)日：2011-03-04
申请号：KR1020087013780
申请日：2006-12-25
申请人： 로무 가부시키가이샤
发明人： 사와다히데끼 , 이마무라노리히로 , 쇼오지모또아리
IPC分类号： F21S2/00 , F21V8/00 , G03B27/54
CPC分类号： G02B6/0038 , F21S43/235 , G02B6/0018 , G02B6/0068 , G03B27/54 , H04N1/02815 , H04N1/02835 , H04N1/0289 , H04N1/0311 , H04N1/0315 , H04N2201/03112 , H04N2201/03125 , H04N2201/03133 , H04N2201/03141 , H04N2201/03145 , H04N2201/0317
摘要： 본 발명의 도광 부재는 투광성을 갖는 재질에 의해 형성되어 있고, x 방향을 따라 연장되어 있고, y 방향에 있어서의 집광 효과를 갖는 렌즈면(31)을 포함하는 광 출사면(13)과, x 방향에 있어서의 일단부에 위치하는 광 입사면(11)을 구비한다. 광 출사면(13) 중 광 입사면(11)측 부분에는 렌즈면(31)과 원기둥면(32)을 포함하는 천이 영역(13a)이 형성되어 있다. 천이 영역(13a)은 x 방향에 있어서 렌즈면(31)이 차지하는 비율이 광 입사면(11)에 근접할수록 작게 되어 있다.
도광 부재, 고무 커넥터, 글래스 커버, 수광 소자, 반사 부재

5. 发明授权

KR101004769B1 광유체적 리소그래피 시스템 및 마이크로구조물 제조방법 有权
标题翻译：光电光刻系统和三维微结构的制造方法
公开(公告)号：KR101004769B1
公开(公告)日：2011-01-04
申请号：KR1020080088683
申请日：2008-09-09
申请人： 서울대학교산학협력단
发明人： 권성훈 , 이승아 , 박욱 , 정수은
IPC分类号： B81C1/00 , G03F7/20 , G02B27/00
CPC分类号： G03F7/70341 , B29C64/106 , B29L2031/756 , B33Y30/00 , B81C99/0095 , B81C2201/0159 , F15B7/08 , F15B15/10 , G03B27/54 , G03F7/20 , G03F7/70416
摘要： 막(membrane), 유체관 및 공기 체임버를 구비하는 광유체적 리소그래피 시스템이 개시된다. 상기 막은 상기 유체관과 상기 공기 체임버 사이에 위치한다. 상기 유체관은 내부에 유체가 있고, 상기 막의 변위에 대응하는 높이를 가진다. 상기 공기 체임버는 내부 기압에 따라 상기 막의 변위를 유도한다.
摘要翻译：提供了包括膜，微流体通道和气动室的光流体光刻系统。膜可以位于气动室和微流体通道之间。微流体通道可以具有对应于膜的位移的高度并且具有在其中流动的流体，流体由从底部照射的光固化以形成微结构。气动室可以根据其内部大气压力而引起膜的移位。

6. 发明公开

KR1020100088093A 직접 방사 및 재순환된 방사를 이용한 기판 처리 有权
标题翻译：使用直接和循环辐射处理基板
公开(公告)号：KR1020100088093A
公开(公告)日：2010-08-06
申请号：KR1020100008081
申请日：2010-01-28
申请人： 울트라테크 인크.
发明人： 마클데이비드에이 , 장스위
IPC分类号： H01L21/268 , H01L21/324
CPC分类号： H01L21/268 , B23K26/0643 , B23K26/0665 , G01N2021/215 , G03B27/54 , G03B27/72
摘要： PURPOSE: A substrate processing method is provided to secure a uniform and efficient substrate annealing process by improving the uniformity of radiation which is absorbed with a substrate. CONSTITUTION: A radiation source(110) is located to guide a radiation image towards a beam image forming system which forms a beam image(150). A recycling system condenses radiation which is reflected from a substrate surface and guides the reflection towards the beam image on the substrate with a +1X method. The radiation which is absorbed on the substrate and is reflected from the substrate is recycled through a plurality of cycles.
摘要翻译：目的：提供基板处理方法，以通过改善被基板吸收的辐射的均匀性来确保均匀且有效的基板退火工艺。构造：辐射源（110）被定位成将辐射图像引导到形成束图像（150）的束图像形成系统。再循环系统凝结从基板表面反射的辐射，并以+ 1X方法将反射引向基板上的光束图像。吸收在衬底上并从衬底反射的辐射通过多个循环再循环。

7. 发明公开

KR1020100064443A 평판표시장치용 노광장비 有权
标题翻译：用于平板显示设备的外观设备
公开(公告)号：KR1020100064443A
公开(公告)日：2010-06-15
申请号：KR1020080122878
申请日：2008-12-05
申请人： 엘지디스플레이 주식회사
发明人： 김한희
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , G02F1/13
CPC分类号： G03B27/54 , G03F7/70066 , G03F7/70075 , G03F7/70916 , G03F7/70908
摘要： PURPOSE: An exposure apparatus for a flat panel display device is provided to improve process efficiency of an exposure process by preventing a photoresist fume from being deposited on a reflective mirror and a lens of a slit imaging system on the exposure apparatus. CONSTITUTION: A slit imaging system(140) selectively controls light emitted from a light source and includes a plurality of lenses and a mirror. A mask(120) is placed on a progressing path of the light and a basic pattern is formed on the mask. An air knife(150) is positioned between the slit imaging system and the mask. An air knife sprays the gas between the slit imaging system and the mask. A substrate is coated with a photoresist on the upper side of a thin film layer of a fixed material.
摘要翻译：目的：提供一种用于平板显示装置的曝光装置，以通过防止光致抗蚀剂烟雾沉积在曝光装置上的反射镜和狭缝成像系统的透镜上来提高曝光处理的处理效率。构成：狭缝成像系统（140）选择性地控制从光源发射的光，并且包括多个透镜和反射镜。将掩模（120）放置在光的前进路径上，并且在掩模上形成基本图案。气刀（150）位于狭缝成像系统和面罩之间。气刀在狭缝成像系统和面罩之间喷射气体。基板在固定材料的薄膜层的上侧涂覆有光致抗蚀剂。

8. 发明公开

KR1020090124179A 노광 장치의 빔위치 오차 측정 방법 및 이를 이용한 노광장치 无效
标题翻译：光束位置误差的测量方法及其设备
公开(公告)号：KR1020090124179A
公开(公告)日：2009-12-03
申请号：KR1020080050236
申请日：2008-05-29
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 박상현 , 장상돈 , 이희국 , 김정민
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03B27/54 , G03F7/70291 , G03F7/70516 , G03F7/7085
摘要： PURPOSE: An exposure apparatus, and a method for measuring the beam position error of the exposure apparatus are provided to reduce the measurement time and to allow the beam position error to be determined simply and precisely without moving a mask. CONSTITUTION: A method for measuring the beam position error of an exposure apparatus comprises the steps of aligning a mask(500) having a pin hole(510) arranged in matrices, to a DMD device comprising a plurality of micromirrors matriceses modulating and transferring the beam provided from a light source and the exposure beams passing through an optical system; operating the each micromirror of the DMD device in turn; measuring the dosage arrived after passing through the each pin hole by using a sensor unit(550); and determining whether the micromirror of the DMD device is used or not.
摘要翻译：目的：提供曝光装置和用于测量曝光装置的光束位置误差的方法以减少测量时间，并且允许在不移动掩模的情况下简单且精确地确定光束位置误差。构成：用于测量曝光设备的光束位置误差的方法包括以下步骤：将具有排列成矩阵的针孔（510）的掩模（500）对准到包括多个微镜矩阵的DMD器件，DMD器件调制和传输光束由光源提供，曝光光束通过光学系统; 依次操作DMD设备的每个微反射镜; 测量通过使用传感器单元（550）穿过每个销孔之后到达的剂量; 并且确定是否使用DMD设备的微镜。

9. 发明公开

KR1020090071431A 노광 장치, 검출 방법 및 디바이스 제조 방법 无效
标题翻译：曝光装置，检测方法和制造装置的方法
公开(公告)号：KR1020090071431A
公开(公告)日：2009-07-01
申请号：KR1020080133003
申请日：2008-12-24
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 아카마츠아키오
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03B27/32 , G03B27/54 , G03F7/70791 , G03F9/7011 , G03F9/7019 , G03F9/7026 , G03F9/7046 , G06T2207/10016 , H01L21/682
摘要： An exposure apparatus, a detecting method, and a device manufacturing method are provided to improve throughput by measuring the reference mark position. The light emitted from an illumination optical system(1) illuminates a reticle(2). The reticle is arranged by the reticle alignment detection system. The light penetrating the pattern on the reticle images on a wafer(6) by a projection optical system(3) and forms the exposure pattern on the wafer. The wafer is maintained on a wafer stage(8). A reference mark(15) of the measurement of base line is comprised on the wafer stage. The location of the wafer stage is measured by the interferometer.
摘要翻译：提供曝光装置，检测方法和装置制造方法，以通过测量参考标记位置来提高生产率。从照明光学系统（1）发射的光照射光罩（2）。掩模版通过标线片对准检测系统布置。光通过投影光学系统（3）穿过晶片（6）上的标线图像上的图案，并在晶片上形成曝光图案。将晶片保持在晶片台（8）上。基线测量的参考标记（15）包括在晶片台上。晶片台的位置由干涉仪测量。

10. 发明公开

KR1020090068123A 도장장치 无效
标题翻译：涂装装置
公开(公告)号：KR1020090068123A
公开(公告)日：2009-06-25
申请号：KR1020080125501
申请日：2008-12-10
申请人： 쥬가이로 고교 가부시키가이샤
发明人： 니시오츠토무 , 우에이지단 , 구로키다카시
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： B05B1/005 , B05C11/1002 , G03B27/54 , G03F7/16 , G03F7/70258
摘要： A coating apparatus is provided to improve accuracy of a thickness of a coated layer by adjusting properly the transferring amount of paints. A coating apparatus includes a tube(2), a housing, a paint injection unit, a paint discharge unit, and a pump(7). A fluid is supplied to the tube. The tube is expanded or contracted by the fluid. A manifold(3) for receiving the tube is formed in the housing. The paint injection unit is formed by connecting the manifold with the housing. The paint discharge unit is formed by connecting the manifold with the housing. The pump is connected to the tube. The pump is used for contracting the tube in order to fill the manifold with the paints or for expanding the tube in order to discharge the paints from the manifold.
摘要翻译：提供涂布装置，通过适当调整涂料的转印量来提高涂层厚度的精度。一种涂布装置，包括管（2），壳体，涂料注入单元，涂料排出单元和泵（7）。流体被供应到管中。管被流体膨胀或收缩。用于容纳管的歧管（3）形成在壳体中。油漆喷射单元通过将歧管与壳体连接而形成。涂料排出单元通过将歧管与壳体连接而形成。泵连接到管。泵用于收缩管，以便用油漆填充歧管或用于膨胀管，以便从歧管排出油漆。

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