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1. 发明授权

KR101688444B1 리소그래피 장치용 회전 가능 프레임 有权
标题翻译：可旋转的框架用于平面设备
公开(公告)号：KR101688444B1
公开(公告)日：2016-12-21
申请号：KR1020147029049
申请日：2013-01-30
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
发明人： 블리커아르노 , 카스텐밀러토마스 , 드야거피터 , 멀더하이네 , 자알코엔 , 캐디테오도루스페트루스마리아 , 필립스대니 , 비렌스루드 , 티머만스로저
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70716 , G03F7/20 , G03F7/7005 , G03F7/70075 , G03F7/70275 , G03F7/70291 , G03F7/70366 , G03F7/70383 , G03F7/70391 , G03F7/704 , G03F7/70425 , G03F7/70475
摘要： 방사빔을타겟상으로투영하도록구성된투영시스템은, 접선방향및 방사상방향을정하는축을중심으로회전하도록구성되는회전가능프레임(8)과, 여기서회전가능프레임은접선방향또는방사상방향으로만방사빔을포커싱하도록구성된렌즈를유지함; 접선방향또는방사상방향중의다른하나의방향으로만방사빔을포커싱하도록구성된실질적으로정지상태의렌즈를포함하는정지부를포함한다. 회전가능프레임에의해유지된렌즈에모멘트가가해지는것을방지하기위한방안이제공된다.
摘要翻译：配置成将辐射束投影到目标上的投影系统包括可旋转的框架（8），其被配置为围绕限定切线方向和径向方向的轴线旋转，其中可旋转框架保持配置成将辐射束聚焦在只有切向或径向; 以及固定部分，其包括基本上固定的透镜，其被配置为仅将所述辐射束聚焦在所述切向或径向方向中的另一个中。作出规定以防止在由可旋转框架保持的镜片上施加力矩。

2. 发明授权

KR101678070B1 마스크리스 노광장치 및 그 제어방법 有权
标题翻译：无掩膜曝光装置及其控制方法
公开(公告)号：KR101678070B1
公开(公告)日：2016-11-22
申请号：KR1020090130749
申请日：2009-12-24
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 백동석 , 장상돈 , 최호석 , 이희국 , 김의석
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03B27/52 , G03B27/72 , G03F7/70291 , G03F7/70508 , G03F7/7085
摘要： 측정광학계를이용하여획득한멀티빔의세기정보, 중심위치정보, 포커스정보, 형상정보중 적어도하나이상의정보를이용하여노광데이터를생성또는보정하는마스크리스노광장치및 그제어방법을개시한다. 이를위해마스크리스노광장치는포토센서와이미지센서를포함하는측정광학계와측정광학계에서획득한정보를이용하여노광데이터를생성또는보정하는제어부를구비한다.

3. 发明授权

KR101675044B1 리소그래피 장치 및 시스템, 리소그래피 장치를 캘리브레이션하는 방법, 그리고 디바이스 제조 방법 有权
标题翻译：一种算术装置和系统一种校准装置的方法和装置的制造方法
公开(公告)号：KR101675044B1
公开(公告)日：2016-11-22
申请号：KR1020147025002
申请日：2013-01-24
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
发明人： 틴네만스,파트리시우스
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70558 , G03F7/70275 , G03F7/70291 , G03F7/70391 , G03F7/704 , G03F7/70516 , G03F7/70525
摘要： 본명세서는리소그래피또는노광장치및 시스템, 리소그래피또는노광장치를캘리브레이션하는방법, 및장치제조방법을개시한다. 일실시예에서, 제 1 노광장치및 제 2 노광장치를포함하는노광시스템이제공되고, 여기서제 1 장치및 제 2 장치의각각의데이터처리장치는응답함수를이용하여제어신호를계산하도록구성되며; 제 1 장치및 제 2 장치의각각의프로그램가능한패터닝디바이스및 투영시스템의조합성능은, 적어도제조오차로인해서로상이하고; 그리고제 1 장치에사용된응답함수는상기제 2 장치에사용된응답함수와동일하다.

4. 发明授权

KR101657056B1 가공물 상에 이미지를 기록 또는 판독하는 회전 아암 有权
标题翻译：旋转ARM用于书写或阅读工作中的图像
公开(公告)号：KR101657056B1
公开(公告)日：2016-09-13
申请号：KR1020117015450
申请日：2009-12-04
申请人： 마이크로닉 아베
发明人： 잔트스트룀,토르브외른 , 린다우,슈텐
IPC分类号： G03F7/20 , G02B26/10 , B41J2/47
CPC分类号： B41J2/47 , G02B26/105 , G03F7/70291 , G03F7/70366 , G03F7/70391 , G03F7/704
摘要： 본출원은이미지를기록및 판독하기위하여대형평판을스캐닝하는기술에관한것이다. 평판디스플레이, PCB 및광전지패널이예시되어있다. 기록과판독은광의로해석되어야하며, 즉판독은대형가공물에대한현미경관찰, 검출, 계측, 분광, 간섭, 산란등을의미할수 있고, 기록은포토레지스트의노출, 광열에의한소둔, 흡열또는광빔에의한표면변화생성을의미할수 있다. 특히, 본발명자들은, 통상의직선운동을따르는대신, 스캐닝할때 가공물(1111,1112)을가로질러원호를형성하는회전아암또는스윙암(1140A, 1140B, 1140C)을이용한기술을개시한다.

5. 发明授权

KR101653213B1 디지털 노광 방법 및 이를 수행하기 위한 디지털 노광 장치 有权
标题翻译：用于实施曝光方法的数字曝光方法和数字曝光装置
公开(公告)号：KR101653213B1
公开(公告)日：2016-09-02
申请号：KR1020100015114
申请日：2010-02-19
申请人： 삼성디스플레이 주식회사
发明人： 윤상현 , 이희국 , 배상우 , 김차동 , 박정인
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03B27/526 , G03B27/52 , G03F7/70291 , G03F7/70508 , G03F7/70541
摘要： 디지털노광방법및 이를수행하기위한디지털노광장치에서, 기판에형성되는적어도 2개이상의패턴각각에대하여그래픽데이터시스템(GDS) 파일을제작한다. 상기그래픽데이터시스템(GDS) 파일로부터디지털마이크로미러디바이스(DMD) 온/오프데이터를생성한다. 상기디지털마이크로미러디바이스(DMD) 온/오프데이터에따라상기기판을노광한다. 따라서, 표시패널의패턴을형성하는메인노광과, 각표시패널과기판의고유번호를형성하고기판의주변부를제거하는주변노광을한번에일괄수행함에따라공정을단순화하여비용을절감할수 있다.

6. 发明公开

KR1020160087420A 마스크리스 노광 장치 및 이를 이용한 마스크리스 노광 방법 审中-实审
标题翻译：无障碍曝光装置和使用其的无障碍曝光方法
公开(公告)号：KR1020160087420A
公开(公告)日：2016-07-22
申请号：KR1020150005915
申请日：2015-01-13
申请人： 삼성디스플레이 주식회사
发明人： 서갑종 , 이희국 , 장재혁 , 이기범
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70141 , G03F7/7005 , G03F7/704 , G03F7/2051 , G03F7/70291
摘要： 마스크리스노광장치는기판으로노광원으로부터제공된소스빔을반사하여상기기판상에노광빔들을스캔하는디지털마이크로미러디바이스(digital micro-mirror device, DMD)를포함하고, 제1 열과제2 열에서로엇갈리게배치되는복수의노광헤드들, 상기노광헤드들의측면에배치되며, 반사면이평행하게배치되는복수의반사부재들, 상기반사부재들에광을제공하는발광부및 상기발광부로부터제공된광을상기반사부재들을경유하여수신하는수광부를포함한다.
摘要翻译：提供一种可以感测曝光头的行为的无掩模曝光装置。无掩模曝光装置包括：多个曝光头，其包括用于将从光源提供的源光束反射到基板上以扫描基板上的曝光光束的数字微镜装置（DMD），并且交替地布置在第一行中第二排布置在曝光头侧面的多个反射部件，其中反射平面平行布置; 向所述反射部件供给光的发光部; 以及受光部，其经由所述反射部件接收从所述发光部供给的光。

7. 发明授权

KR101633744B1 리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법 有权
标题翻译： LITHOGRAPHIC装置和装置制造方法
公开(公告)号：KR101633744B1
公开(公告)日：2016-06-27
申请号：KR1020147003810
申请日：2012-07-20
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
发明人： 블리커아르노 , 드빈터로렌티우스
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70608 , G03F7/70191 , G03F7/70291 , G03F7/70558
摘要： 리소그래피장치가제공되며패터닝된방사선빔을기판상에투영하도록구성된다. 이러한장치는상기기판상의레지스트층의두께에관련된측정데이터를제공하기위한측정시스템, 및기판상에투영될패터닝된빔의방사선세기레벨이측정데이터에기반하여측정되도록, 리소그래피장치의동작을제어하기위한콘트롤러를포함한다.
摘要翻译：光刻设备被提供和配置成将图案化的辐射束投影到衬底上。该装置具有测量系统，以提供与衬底上的抗蚀剂层的厚度相关的测量数据，以及控制器，用于控制光刻设备的操作，使得待投影到衬底上的图案化束中的辐射强度水平为根据测量数据进行控制。

8. 发明公开

KR1020160073415A 능동 정렬을 이용하는 롤 투 롤 마스크-없는 리소그래피 审中-实审
标题翻译：滚动以无主动对齐的方式滚动无障碍的LITHOGRAPHY
公开(公告)号：KR1020160073415A
公开(公告)日：2016-06-24
申请号：KR1020167013451
申请日：2014-09-24
申请人： 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
发明人： 화이트,존맥네일
IPC分类号： G03F7/20 , G03F7/24 , G03F9/00
CPC分类号： G03F7/70716 , G03F7/2008 , G03F7/2057 , G03F7/24 , G03F7/70291 , G03F7/70508 , G03F7/70791 , G03F9/7038 , G03F9/7088 , H01L21/67742 , H01L22/20 , H01L31/1876 , H01L51/0014 , H01L51/56 , H01L2251/5338
摘要： 본발명의실시예들은, 능동정렬(active alignment)을이용하는, 가요성기판에대한마스크없는(maskless) 리소그래피를위한장치및 방법들에관한것이다. 일실시예에서, 리소그래피장치는, 중심축을중심으로회전가능하고, 원통형기판지지표면상에서가요성기판을이송하도록구성된원통형롤러를포함한다. 각각, 이미지감지디바이스및 이미징프린팅디바이스를포함하는복수의프린팅유닛들은, 기판지지표면을향하여포지셔닝될수 있다. 복수의프린팅유닛들은, 가요성기판이계속해서이송될때, 가요성기판상의사전에-존재하는패턴들및/또는마커들(markers)의이미지들을캡쳐링할수 있고, 각각의프린팅유닛에대한노출패턴들은캡쳐링된이미지에따라 "온-더-플라이(on-the-fly)" 조정될수 있으며, 따라서능동정렬을달성한다.
摘要翻译：本发明的实施例涉及在具有主动对准的柔性基板上进行无掩模光刻的装置和方法。在一个实施例中，光刻设备包括可围绕中心轴线旋转并且被配置为将柔性基板传送到圆柱形基板支撑表面上的圆柱形滚柱。每个包括图像感测装置和成像打印装置的打印单元可以被定位成面对基板支撑表面。多个打印单元可以在柔性基板被连续地传送的情况下捕获柔性基板上的预先存在的图案和/或标记的图像，并且可以根据捕获的“即时”调整每个印刷单元的曝光图案图像，从而实现主动对准。

9. 发明公开

KR1020160059114A 기판 처리 장치 无效
标题翻译：加工基材的装置
公开(公告)号：KR1020160059114A
公开(公告)日：2016-05-26
申请号：KR1020140160460
申请日：2014-11-18
申请人： 주식회사 에스에프에이
发明人： 최교원 , 김신 , 김두환
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027 , G02B26/08 , G06F1/04
CPC分类号： G03F7/70291 , G03F7/2051 , G03F7/70383
摘要： 기판처리장치가개시된다. 본발명의일 실시예에따른기판처리장치는, 레이저광을조사하는레이저광조사유닛과, 레이저광조사유닛으로부터조사되는레이저광을반사시키는폴리곤스캐너와, 레이저광조사유닛과폴리곤스캐너를제어하는컨트롤러를구비하며, 복수로마련되어직렬로배치되는패턴형성모듈; 및기판의처리를위해복수의패턴형성모듈사이의시그널을동기화하는시그널동기화유닛을포함한다.
摘要翻译：公开了一种基板处理装置。根据本发明实施例的基板处理装置包括：多个图案形成模块，其线性排列并具有用于照射激光束的激光束照射单元，用于反射从激光束照射单元照射的激光束的多边形扫描器，以及控制器，用于控制激光束照射单元和多边形扫描器; 以及用于使图案形成模块之间的信号同步以处理衬底的信号同步单元。可以同时处理衬底，因此即使大尺寸衬底也可以在短时间内容易地加工，并且可以提高大尺寸衬底的加工精度。

10. 发明授权

KR101595259B1 반도체 제조 장치 有权
标题翻译：半导体制造设备
公开(公告)号：KR101595259B1
公开(公告)日：2016-02-18
申请号：KR1020100080577
申请日：2010-08-20
申请人： 삼성전자주식회사 , 매사추세츠 인스티튜트 오브 테크놀로지
发明人： 조지바바스타디스 , 조세안토니오도밍게스까발레로 , 이성진 , 사토시타카하시
IPC分类号： H01L21/26 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70291 , G03F7/70316 , G03F7/70533
摘要： 반도체제조장치를개시한다. 반도체제조과정에서기판에형성되는광 스팟의위치와크기를정밀하게조절하여빠르고정확하게목적하는패턴을형성하거나또는불필요한패턴의제거가가능하도록하는데그 목적이있다. 반도체제조장치는, 광원과; 광원으로부터조사되는광을목적하는패턴에대응하도록복수의빔으로변조하는광 변조기와; 복수의빔 각각의진행방향을조절하는회절소자와; 회절소자에의해방향이제어된복수의빔들이목적하는크기의광 스팟을형성하도록하는제 3 광학계를포함한다.

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