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1. 发明公开

KR1020170048509A 방향 선택적 광 감쇠를 부여하기 위한 장치 및 방법 审中-实审
标题翻译：用于赋予定向选择性光衰减的设备和方法
公开(公告)号：KR1020170048509A
公开(公告)日：2017-05-08
申请号：KR1020177008786
申请日：2015-09-10
申请人： 칼 짜이스 에스엠에스 엘티디
发明人： 드미트리에프,블라디미르
IPC分类号： G03F1/72 , G03F1/50 , G03F1/60 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70125 , G03F1/38 , G03F1/50 , G03F1/60 , G03F1/70 , G03F1/72 , G03F7/70191 , G03F7/70283 , G03F7/70325 , G03F7/7055
摘要： 포토마스크에방향선택적광 감쇠를부여하는방법. 본발명은상이한입사방향의광선에상이한감쇠레벨을지정하는단계를포함할수 있다. 상기방법은또한상기광선의입사의방향에따라, 지정된상이한감쇠레벨을가지고상기광선을감쇠하도록쉐이딩요소의어레이를연산하는단계를포함할수 있다. 본발명은상기포토마스크의기판내에서쉐이딩요소의어레이를기입하는단계를더 포함할수 있다.
摘要翻译：一种将方向选择性红光衰减赋予光掩模的方法。本发明可以包括为不同入射方向上的光线指定不同衰减等级的步骤。该方法还可以包括根据光束的入射方向来计算遮光元件的阵列以用不同的指定衰减水平来衰减光束。本发明还可以包括在光掩模的衬底中写入遮光元件阵列。

2. 发明授权

KR101709376B1 깊은 초점 심도를 갖는 주기적 패턴을 인쇄하는 방법 및 장치 有权
标题翻译：用于打印大量深度聚焦的周期性图案的方法和装置
公开(公告)号：KR101709376B1
公开(公告)日：2017-03-08
申请号：KR1020137003128
申请日：2011-07-05
申请人： 유리타 아. 게.
发明人： 클루베프랜시스 , 다이스크리스티안 , 솔라크하룬
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/26 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70408 , G03B27/54 , G03F7/70325 , G03F7/7035
摘要： 제1 방향에평행한선형특징부의패턴을지니는마스크를제공하는단계, 마스크에평행하고마스크로부터분리된층을배열하는단계, 사실상단색광을생성하는단계, 사실상상기제1 방향에평행한평면에서일정범위의각도에걸쳐상기광으로마스크패턴을조명하는단계로서, 이에의해마스크에의해투과된조명의각각의각도의광이탈보트평면들사이에일정범위의횡방향강도분포를형성하고층에광 필드성분을형성하며, 상기성분들의중첩이원하는패턴을인쇄하는, 조명하는단계를포함하고, 각도의범위는상기성분들의중첩이상기각도들중 하나로광에의해형성된횡방향강도분포의범위의평균과사실상동등하도록파장, 분리거리및 주기와관련하여선택되는, 원하는패턴을감광층에인쇄하는방법.
摘要翻译：一种用于将期望图案印刷到感光层中的方法，其包括提供具有平行于第一方向的线性特征图案的掩模，将该层与所述掩模平行并分离，产生基本上单色的光并照射该掩模在平行于所述第一方向的平面中的入射角范围内的所述光的图案，在正交入射平面中基本上为单个角度，并且由掩模传播的每个入射角的光形成光场其中所述部件的集成打印出所需的图案，其中选择角度范围，使得所述部件的整合基本上等于在Talbot图像平面之间形成的横向强度分布范围的平均值发生角度之一。

3. 发明授权

KR101707294B1 노광 장치 및 디바이스 제조 방법 有权
标题翻译：曝光装置和装置制造方法
公开(公告)号：KR101707294B1
公开(公告)日：2017-02-15
申请号：KR1020147032263
申请日：2005-03-23
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 하라히데아키
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03B27/42 , G03F7/2041 , G03F7/70325 , G03F7/70758 , G03F7/70833 , G03F7/709
摘要： 액체의공급및 회수를소망상태에서행할수 있고, 기판상에투영되는패턴이미지의열화를억제할수 있는노광장치를제공한다. 노광장치는, 액체(LQ) 를공급하는공급구 (12) 및액체 (LQ) 를회수하는회수구 (22) 를갖는노즐부재 (70) 와, 메인칼럼 (1) 의하측단부 (7) 에대하여노즐부재 (70) 를방진지지하는방진기구 (60) 를구비하고있다.
摘要翻译：本发明提供一种曝光装置，其能够在期望的状态下进行液体的供给和回收，抑制投影到基板上的图案图像的劣化。该曝光装置具有喷嘴构件70，该喷嘴构件70具有用于供给液体LQ的供给口12和回收液体LQ的回收口22以及位于主柱1的下端7的喷嘴构件70 （60），用于支撑喷嘴构件（70）以防止振动。

4. 发明授权

KR101686762B1 노광 장치 및 디바이스 제조방법 有权
公开(公告)号：KR101686762B1
公开(公告)日：2016-12-28
申请号：KR1020157031632
申请日：2004-06-18
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 에비하라아키미츠
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70333 , B82Y10/00 , G03F7/70225 , G03F7/70325 , G03F7/70341 , G03F7/70716 , G03F7/70725 , G03F7/70733 , G03F7/70758 , G03F7/70816 , Y10T29/49826
摘要： 수압패드 (32) 와수압패드 (34) 에의해, 웨이퍼 (W) 및그 웨이퍼가재치된테이블 (TB) 이협지되어있다. 수압패드 (32) 에의해, 그베어링면과웨이퍼 (W) 의투영광학계 (PL) 의광축방향에관한간격이소정치수로유지된다. 또, 수압패드는기체정압베어링과는달리베어링면과지지대상물 (기판) 사이의비압축성유체 (액체) 의정압을이용하기때문에, 베어링의강성이높고베어링면과기판의간격이안정되어더욱일정하게유지된다. 또액체 (예를들어순수) 는기체 (예를들어공기) 에비하여점성이높고, 액체는진동감쇠성이기체에비하여양호하다. 따라서, 초점위치검출계등을반드시형성하지않고도디포커스가거의없는웨이퍼 (기판) 상에대한패턴의전사가실현된다.

5. 发明授权

KR101619724B1 노광 방법 및 노광 장치, 그리고 디바이스 제조 방법 有权
标题翻译：曝光方法曝光装置和装置制造方法
公开(公告)号：KR101619724B1
公开(公告)日：2016-05-10
申请号：KR1020157011154
申请日：2004-05-24
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 나가사카히로유키
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03B27/42 , G03F7/2041 , G03F7/70325 , G03F7/70725 , G03F7/70775
摘要： 노광방법은, 투영광학계 (PL) 와액체 (1) 를통하여패턴의이미지를기판상에투영함으로써기판을노광할때, 기판상의액체접촉면에형성되는막부재 (SP) 에따라서, 기판에대하여실시되는액침조건, 예를들어, 액체종류를결정하는것을포함한다. 액체종류는, 제 1 및제 3 액체공급부 (11, 21) 를전환함으로써선정된다. 상이한포토레지스트층이형성되는기판 (P) 에대하여, 액침노광을원활하게행할수 있다.
摘要翻译：通过经由投影光学系统（PL）和液体（1）将图案图像投影到基板上而使基板（P）曝光时，曝光方法包括确定要对基板执行的液浸条件，例如液体型，取决于形成为基板的液体接触表面的膜（SP）。通过在第一液体供应部分（11）和第三液体供应部分（21）之间切换来选择液体类型。可以平滑地对设置有不同光致抗蚀剂层的基板（P）进行浸渍曝光。

6. 发明授权

KR101485669B1 극자외선 리소그래피 방법 有权
标题翻译：超极紫外光刻过程
公开(公告)号：KR101485669B1
公开(公告)日：2015-01-22
申请号：KR1020130050757
申请日：2013-05-06
申请人： 타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드
发明人： 루옌-쳉 , 유쉰-쉥 , 옌앤소니
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70325 , G03F1/24 , G03F7/70033 , G03F7/70091 , G03F7/70125 , G03F7/70191 , G03F7/702 , G03F7/70308 , G03F7/70316 , G03F7/70408 , G21K1/062
摘要： 극자외선 리소그래피 공정이 개시된다. 본 발명 방법은 극자외선(extreme ultraviolet; EUV) 마스크, EUV 광원과 조명기를 수용하는 단계를 포함한다. 방법은 EUV 광원으로부터 유래하고, 3도 미만의 물체측 주 광선 입사각(chief ray angle of incidence at the object side; CRAO)으로 조명기에 의해 지향되는 광선에 의해 EUV 마스크를 노출시키는 단계를 또한 포함한다. 방법은 타겟(target)을 노출시키도록, 비회절광의 대부분을 제거하는 단계와, 투사 광학 박스(projection optics box; POB)에 의해 회절광과 제거되지 않은 비회절광을 집광하고 지향시키는 단계를 포함한다.
摘要翻译：公开了一种极紫外光刻技术。该方法包括接收极紫外（EUV）掩模，EUV辐射源和照明器。该方法还包括通过来自EUV辐射源并由照明器引导的辐射暴露EUV掩模，在物体侧具有小于三度的主射线入射角（CRAO）。该方法还包括去除大部分非衍射光并且通过投影光学盒（POB）收集和引导衍射光和未被去除的非衍射光以暴露靶。

7. 发明授权

KR101475634B1 노광 장치 및 디바이스 제조방법 有权
标题翻译：曝光装置和装置的制造方法
公开(公告)号：KR101475634B1
公开(公告)日：2014-12-22
申请号：KR1020137005135
申请日：2004-06-18
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 에비하라아키미츠
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70333 , B82Y10/00 , G03F7/70225 , G03F7/70325 , G03F7/70341 , G03F7/70716 , G03F7/70725 , G03F7/70733 , G03F7/70758 , G03F7/70816 , Y10T29/49826
摘要： 수압패드 (32) 와수압패드 (34) 에의해, 웨이퍼 (W) 및그 웨이퍼가재치된테이블 (TB) 이협지되어있다. 수압패드 (32) 에의해, 그베어링면과웨이퍼 (W) 의투영광학계 (PL) 의광축방향에관한간격이소정치수로유지된다. 또, 수압패드는기체정압베어링과는달리베어링면과지지대상물 (기판) 사이의비압축성유체 (액체) 의정압을이용하기때문에, 베어링의강성이높고베어링면과기판의간격이안정되어더욱일정하게유지된다. 또액체 (예를들어순수) 는기체 (예를들어공기) 에비하여점성이높고, 액체는진동감쇠성이기체에비하여양호하다. 따라서, 초점위치검출계등을반드시형성하지않고도디포커스가거의없는웨이퍼 (기판) 상에대한패턴의전사가실현된다.

8. 发明授权

KR101464098B1 노광 방법 및 노광 장치, 그리고 디바이스 제조 방법 有权
公开(公告)号：KR101464098B1
公开(公告)日：2014-11-21
申请号：KR1020137030195
申请日：2004-05-24
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 나가사카히로유키
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03B27/42 , G03F7/2041 , G03F7/70325 , G03F7/70725 , G03F7/70775
摘要： 노광 방법은, 투영 광학계 (PL) 와 액체 (1) 를 통하여 패턴의 이미지를 기판 상에 투영함으로써 기판을 노광할 때, 기판 상의 액체 접촉면에 형성되는 막부재 (SP) 에 따라서, 기판에 대하여 실시되는 액침 조건, 예를 들어, 액체 종류를 결정하는 것을 포함한다. 액체 종류는, 제 1 및 제 3 액체 공급부 (11, 21) 를 전환함으로써 선정된다. 상이한 포토레지스트층이 형성되는 기판 (P) 에 대하여, 액침 노광을 원활하게 행할 수 있다.

9. 发明授权

KR101419663B1 노광 장치 및 디바이스 제조방법 有权
公开(公告)号：KR101419663B1
公开(公告)日：2014-07-15
申请号：KR1020137005136
申请日：2004-06-18
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 에비하라아키미츠
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70333 , B82Y10/00 , G03F7/70225 , G03F7/70325 , G03F7/70341 , G03F7/70716 , G03F7/70725 , G03F7/70733 , G03F7/70758 , G03F7/70816 , Y10T29/49826
摘要： 수압 패드 (32) 와 수압 패드 (34) 에 의해, 웨이퍼 (W) 및 그 웨이퍼가 재치된 테이블 (TB) 이 협지되어 있다. 수압 패드 (32) 에 의해, 그 베어링면과 웨이퍼 (W) 의 투영광학계 (PL) 의 광축 방향에 관한 간격이 소정 치수로 유지된다. 또, 수압 패드는 기체 정압 베어링과는 달리 베어링면과 지지대상물 (기판) 사이의 비압축성 유체 (액체) 의 정압을 이용하기 때문에, 베어링의 강성이 높고 베어링면과 기판의 간격이 안정되어 더욱 일정하게 유지된다. 또 액체 (예를 들어 순수) 는 기체 (예를 들어 공기) 에 비하여 점성이 높고, 액체는 진동감쇠성이 기체에 비하여 양호하다. 따라서, 초점위치 검출계 등을 반드시 형성하지 않고도 디포커스가 거의 없는 웨이퍼 (기판) 상에 대한 패턴의 전사가 실현된다.

10. 发明公开

KR1020130086649A 노광 장치 및 디바이스 제조 방법 有权
标题翻译：曝光装置和装置制造方法
公开(公告)号：KR1020130086649A
公开(公告)日：2013-08-02
申请号：KR1020137015943
申请日：2005-03-23
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 하라히데아키
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03B27/42 , G03F7/2041 , G03F7/70325 , G03F7/70758 , G03F7/70833 , G03F7/709 , H01L21/0274
摘要： 액체의 공급 및 회수를 소망 상태에서 행할 수 있고, 기판 상에 투영되는 패턴 이미지의 열화를 억제할 수 있는 노광 장치를 제공한다. 노광 장치는, 액체(LQ) 를 공급하는 공급구 (12) 및 액체 (LQ) 를 회수하는 회수구 (22) 를 갖는 노즐 부재 (70) 와, 메인 칼럼 (1) 의 하측 단부 (7) 에 대하여 노즐 부재 (70) 를 방진 지지하는 방진 기구 (60) 를 구비하고 있다.
摘要翻译：提供一种曝光装置，其能够以期望的状态进行液体的供给和回收，抑制投影到基板上的图案图像的劣化。的曝光装置中，喷嘴构件70的下端部7和（1）具有用于回收供应口12和用于供给液体的液体（LQ）的数（22）的主柱（LQ）（60），用于支撑喷嘴构件（70）以防振动。

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