专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明授权

KR101156073B1 칩 코팅 방법 및 칩 코팅 시스템 有权
标题翻译：涂层芯片的方法和系统
公开(公告)号：KR101156073B1
公开(公告)日：2012-06-20
申请号：KR1020090093027
申请日：2009-09-30
申请人： 서울대학교산학협력단
发明人： 권성훈 , 정수은 , 이승아 , 장지성 , 한상권
IPC分类号： H01L23/28
摘要： 칩 코팅 방법에 관한 기술이 개시(disclosure)된다. 일 실시 예에 있어서, 칩 코팅 방법은 유연성 기판 위에 배치된 복수의 칩들을 준비하는 과정, 상기 유연성 기판을 변형하여 상기 제1 배열을 제2 배열로 변경하는 과정, 상기 기판 및 상기 복수의 칩들 표면의 적어도 일부 영역 위에 포토레지스트를 형성하는 과정 및 상기 포토레지스트에 선택적으로 광을 노출하여, 상기 복수의 칩들 표면에 제1 코팅층을 형성하는 과정을 포함한다. 상기 복수의 칩들은 상기 기판 위에서 제1 배열을 가진다. 상기 제1 코팅층은 경화된 상기 포토레지스트이다.

2. 发明授权

KR101101315B1 영상 처리 기반 리소그래피 시스템 및 표적물 코팅 방법 有权
标题翻译：基于图像处理的光刻系统和涂覆目标物体的方法
公开(公告)号：KR101101315B1
公开(公告)日：2011-12-30
申请号：KR1020100005094
申请日：2010-01-20
申请人： 서울대학교산학협력단
发明人： 권성훈 , 정수은 , 장지성 , 한상권
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
摘要： 리소그래피 시스템에 관한 기술이 개시된다. 일 실시 예에 있어서, 리소그래피 시스템은 기판 위에 배치된 적어도 하나의 표적물(target object), 상기 표적물을 영상 처리하여 상기 표적물의 코팅층을 위한 광 패턴을 정하는 처리기 및 상기 처리기에 의해 정해진 상기 광 패턴을 가지는 광을 상기 기판에 제공하는 노광 장치를 포함한다.

3. 发明授权

KR101004769B1 광유체적 리소그래피 시스템 및 마이크로구조물 제조방법 有权
标题翻译：光电光刻系统和三维微结构的制造方法
公开(公告)号：KR101004769B1
公开(公告)日：2011-01-04
申请号：KR1020080088683
申请日：2008-09-09
申请人： 서울대학교산학협력단
发明人： 권성훈 , 이승아 , 박욱 , 정수은
IPC分类号： B81C1/00 , G03F7/20 , G02B27/00
CPC分类号： G03F7/70341 , B29C64/106 , B29L2031/756 , B33Y30/00 , B81C99/0095 , B81C2201/0159 , F15B7/08 , F15B15/10 , G03B27/54 , G03F7/20 , G03F7/70416
摘要： 막(membrane), 유체관 및 공기 체임버를 구비하는 광유체적 리소그래피 시스템이 개시된다. 상기 막은 상기 유체관과 상기 공기 체임버 사이에 위치한다. 상기 유체관은 내부에 유체가 있고, 상기 막의 변위에 대응하는 높이를 가진다. 상기 공기 체임버는 내부 기압에 따라 상기 막의 변위를 유도한다.
摘要翻译：提供了包括膜，微流体通道和气动室的光流体光刻系统。膜可以位于气动室和微流体通道之间。微流体通道可以具有对应于膜的位移的高度并且具有在其中流动的流体，流体由从底部照射的光固化以形成微结构。气动室可以根据其内部大气压力而引起膜的移位。

4. 发明授权

KR101118533B1 발광장치에 사용되는 복합필름, 발광장치 및 그 제조방법 有权
标题翻译：发光装置用复合膜，发光装置及其制造方法
公开(公告)号：KR101118533B1
公开(公告)日：2012-03-12
申请号：KR1020090091441
申请日：2009-09-28
申请人： 서울대학교산학협력단
发明人： 권성훈 , 정수은 , 이승아 , 장지성 , 한상권
IPC分类号： G02B5/00
CPC分类号： G02B5/02 , G02B19/0023 , G02B19/0066 , G02B27/09 , H01L33/50 , H01L33/58 , H01L2924/0002 , H05B33/10 , H05B33/14 , H01L2924/00
摘要： 발광소자를 포함하는 발광장치에 사용되는 복합필름에 관한 기술이 개시(disclosure)된다. 일 실시 예에 있어서, 복합필름은 형광체를 포함하는 형광막 및 상기 형광막 위에 배치되며, 상기 발광소자에 의해 방사되는 광, 상기 형광체에 의하여 방사되는 광 및 이들의 혼합광 중 적어도 어느 한 광을 확산, 축소 또는 혼합하는 광학플레이트를 포함한다.

5. 发明授权

KR100984126B1 발광소자 코팅 방법, 광커플러 및 광커플러 제조 방법 有权
标题翻译：用于涂覆发光装置的方法，光耦合器和用于制造光耦合器的方法
公开(公告)号：KR100984126B1
公开(公告)日：2010-09-28
申请号：KR1020090026991
申请日：2009-03-30
申请人： 서울대학교산학협력단
发明人： 권성훈 , 정수은
IPC分类号： H01L33/44
CPC分类号： H01L33/50 , H01L33/52 , H01L2933/0041 , H01L2933/005
摘要： PURPOSE: A method for coating a light emitting device, a light coupler and a method for fabricating the light coupler are provided to coat a phosphor on a desired area as much as desired times. CONSTITUTION: A plurality of emitting devices(220) are located on a substrate(210). A plurality of emitting devices are dipped in the first photocurable liquid(240A). A first light(250A) selectively exposes to the first photocurable liquid. A first coating layer(242) is formed of at least some area of a plurality of emitting device surfaces. A plurality of emitting devices formed on the first coating layer are dipped in a second photocurable liquid(240B). The second coating layer(244) is formed on at least some area of a plurality of emitting devices or the first coating layer.
摘要翻译：目的：提供一种用于涂覆发光器件的方法，光耦合器和用于制造光耦合器的方法，以在期望的面积上多次涂覆荧光体。构成：多个发光器件（220）位于衬底（210）上。将多个发光装置浸入第一光固化液体（240A）中。第一光（250A）选择性地暴露于第一可光固化液体。第一涂层（242）由多个发射装置表面的至少一些区域形成。形成在第一涂层上的多个发光装置浸入第二光固化液体（240B）中。第二涂层（244）形成在多个发光装置或第一涂层的至少一些区域上。

6. 发明公开

KR1020100029962A 광유체적 리소그래피 시스템 및 마이크로구조물 제조방법 有权
标题翻译：光学光刻系统，两层微流体通道的制造方法和三维微结构的制造方法
公开(公告)号：KR1020100029962A
公开(公告)日：2010-03-18
申请号：KR1020080088683
申请日：2008-09-09
申请人： 서울대학교산학협력단
发明人： 권성훈 , 이승아 , 박욱 , 정수은
IPC分类号： B81C1/00 , G03F7/20 , G02B27/00
CPC分类号： G03F7/70341 , B29C64/106 , B29L2031/756 , B33Y30/00 , B81C99/0095 , B81C2201/0159 , F15B7/08 , F15B15/10 , G03B27/54 , G03F7/20 , G03F7/70416
摘要： PURPOSE: An optofluidic lithography system, a manufacturing method of a two-layered microfluidic channel, and a manufacturing method of a three-dimensional microstructure are provided to control the height of a fluid channel by deforming a membrane. CONSTITUTION: An optofluidic lithography system comprises a membrane(15), a fluid channel(14), and a pneumatic chamber(12). The membrane is located between the pneumatic chamber and the fluid channel. The fluid channel has the height corresponding to the displacement of the membrane. The fluid channel accepts fluid. A microstructure is formed by hardening the fluid using light irradiated from the bottom of the fluid channel. The pneumatic chamber leads the displacement of the membrane.
摘要翻译：目的：提供光流体光刻系统，双层微流体通道的制造方法和三维微结构的制造方法，以通过使膜变形来控制流体通道的高度。构成：光流体光刻系统包括膜（15），流体通道（14）和气动室（12）。膜位于气动室和流体通道之间。流体通道的高度对应于膜的位移。流体通道接受流体。通过使用从流体通道的底部照射的光来硬化流体而形成微结构。气动室导致膜的位移。

7. 发明授权

KR101135093B1 발광 다이오드의 균일 코팅 방법 有权
标题翻译：在发光二极管上生产均匀涂层的方法
公开(公告)号：KR101135093B1
公开(公告)日：2012-04-16
申请号：KR1020110015698
申请日：2011-02-22
申请人： 서울대학교산학협력단
发明人： 최용준 , 한상권 , 장지성 , 정수은 , 권성훈
IPC分类号： H01L33/50 , H01L33/52
CPC分类号： H01L33/44 , H01L33/50 , H01L2924/12041 , H01L2933/0025 , H01L2933/0041
摘要： PURPOSE: A method for uniformly coating a light emitting diode is provided to efficiently uniformly coat a fluorescent substance by applying energy to the same area around an LED. CONSTITUTION: A substrate(110), in which a plurality of LEDs(120) is arranged, is prepared. A curable liquid(140) including a fluorescent substance on the substrate and the plurality of LEDs is applied. Energy is selectively applied to the substrate on which the curable liquid is spread. The curable liquid is patterned. Fluorescent substance coating having a predetermined thickness is formed on each surface of the plurality of LEDs by patterning.
摘要翻译：目的：提供均匀涂覆发光二极管的方法，通过向LED周围的相同区域施加能量来有效均匀地涂覆荧光物质。构成：准备布置有多个LED（120）的基板（110）。涂敷在基板上的荧光物质和多个LED的可固化液体（140）。能量被选择性地施加到可固化液体在其上的基底上。可固化液体被图案化。通过图案化在多个LED的每个表面上形成具有预定厚度的荧光物质涂层。

8. 发明公开

KR1020110035355A 칩 코팅 방법 및 칩 코팅 시스템 有权
标题翻译：涂料芯片的方法和系统
公开(公告)号：KR1020110035355A
公开(公告)日：2011-04-06
申请号：KR1020090093027
申请日：2009-09-30
申请人： 서울대학교산학협력단
发明人： 권성훈 , 정수은 , 이승아 , 장지성 , 한상권
IPC分类号： H01L23/28
CPC分类号： H01L21/56 , H01L21/0274 , H01L21/78 , H01L23/5387 , H01L24/26 , H01L25/0753
摘要： PURPOSE: A method and system for coating a chip are provided to selectively expose a first coater and a photo resist to light wherein the first coater forms a photo resist on a partial area on a board and chips, thereby forming coating layers on the chips. CONSTITUTION: A plurality of chips is arranged on a flexible board(110). The flexible board is deformed to change the arrangement of the chips(120). A photo resist is formed on a partial area of the board and the chips. A first coating layer is formed on the chips by selectively exposing the photo resist(140). The photo resist comprises a fluorescent substance.
摘要翻译：目的：提供用于涂覆芯片的方法和系统以选择性地暴露第一涂布机和光抗蚀剂，其中第一涂布机在板和芯片上的部分区域上形成光致抗蚀剂，从而在芯片上形成涂层。构成：多个芯片布置在柔性板（110）上。柔性板变形以改变芯片（120）的布置。光电抗蚀剂形成在板的部分区域和芯片上。通过选择性地曝光光致抗蚀剂（140），在芯片上形成第一涂层。光致抗蚀剂包含荧光物质。

9. 发明授权

KR101101310B1 코드화된 입자 기반의 플랫폼을 이용하는 분석방법 有权
标题翻译：使用基于代码粒子的平台的测定方法
公开(公告)号：KR101101310B1
公开(公告)日：2011-12-30
申请号：KR1020110046183
申请日：2011-05-17
申请人： 서울대학교산학협력단
发明人： 권성훈 , 정수은 , 오스틴제임스헤인츠 , 이승훈 , 박욱 , 송영훈 , 장지성 , 김효기 , 이호원
IPC分类号： G01N33/48 , G01N33/58 , G01N35/10
CPC分类号： G01N33/585 , G01N33/54313 , Y10T436/143333
摘要： PURPOSE: An analysis method using a coded particle-based platform is provided to form various kinds of codes in particles containing a target material. CONSTITUTION: An analysis method using a coded particle-based platform comprises: a step of preparing a plurality of coded particles with distinguishable codes according to the kinds of a target material(210); a step of providing coded particles to a plate having plural wells by pipetting for placing the plural coded particles inside the plural wells by self-assembly(220); a step of providing an analyte to the plural wells(230); a step of decoding the code of the particles(240); and a step of reacting the target material and the analyte(250).
摘要翻译：目的：提供使用基于编码粒子的平台的分析方法，以形成包含目标材料的粒子中的各种代码。构成：使用基于编码粒子的平台的分析方法包括：根据目标材料（210）的种类，制备具有可区分代码的多个编码粒子的步骤; 通过自动组装（220）将经编码的颗粒提供给具有多个井的板的步骤，通过移液将多个编码颗粒放置在多个井内部; 向多个井（230）提供分析物的步骤; 解码颗粒（240）的代码的步骤; 和使靶材与分析物（250）反应的工序。

10. 发明公开

KR1020110085349A 영상 처리 기반 리소그래피 시스템 및 표적물 코팅 방법 有权
标题翻译：基于图像处理的图像系统和涂覆目标对象的方法
公开(公告)号：KR1020110085349A
公开(公告)日：2011-07-27
申请号：KR1020100005094
申请日：2010-01-20
申请人： 서울대학교산학협력단
发明人： 권성훈 , 정수은 , 장지성 , 한상권
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70383 , G03F7/2051 , G03F7/70391 , G03F7/7055
摘要： PURPOSE: An image processing based lithography system and a method for coating a target object are provided to thermally harden a coating layer, thereby compensating for ununiform coating on a lateral wall. CONSTITUTION: One target object is arranged on a substrate. A processing device(140) makes the target object by an image to determine an optical pattern for a coating layer of the target object. A light exposure device(150) provides light with a light pattern determined by the processing device to the substrate. A first coating device supplies photoresist to partial areas of the surfaces of the substrate and the target object. The photoresist includes a fluorescent substance. A second coating device forms a conductive film or an insulating film on at least partial areas of the surfaces of the substrate and the target object.
摘要翻译：目的：提供基于图像处理的光刻系统和涂覆目标物体的方法以热涂覆涂层，从而补偿侧壁上的不均匀涂层。构成：将一个目标物体排列在基板上。处理装置（140）通过图像使目标物体确定目标物体的涂层的光学图案。曝光装置（150）将由处理装置确定的光图案的光提供给基板。第一涂层装置将光致抗蚀剂供应到基板和目标物体的表面的部分区域。光致抗蚀剂包括荧光物质。第二涂覆装置在基板和目标物体的表面的至少部分区域上形成导电膜或绝缘膜。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式