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1. 发明授权

KR101910302B1 펠리클, 펠리클의 제조 방법 및 펠리클을 사용한 노광 방법 有权
公开(公告)号：KR101910302B1
公开(公告)日：2018-10-19
申请号：KR1020177006032
申请日：2015-09-18
申请人： 미쯔이가가꾸가부시끼가이샤
发明人： 고무라가즈오 , 다네이치다이키 , 고제키다카시 , 오노요스케 , 이시카와히사코 , 비야지마츠네아키 , 오쿠보아츠시 , 사토야스유키 , 히로타도시아키
IPC分类号： G03F1/64 , H01L21/027 , G03F7/20 , G03F1/66
CPC分类号： G03F1/64 , G03F1/62 , G03F7/2008
摘要： 극단자외광리소그래피용펠리클, 그제조방법및 노광방법을제공한다. 본발명에따른펠리클은, 펠리클막을배치한제1 프레임체와, 상기제1 프레임체를지지하는제2 프레임체와, 상기제1 프레임체를관통하는관통구멍과, 상기제1 프레임체의상기펠리클막이배치된면 측에서상기관통구멍을덮는필터를구비한다. 상기관통구멍은, 상기펠리클막을관통하고, 상기필터는, 상기펠리클막위에배치되어도된다. 또한, 상기필터가상기펠리클막에인접하여, 상기제1 프레임체위에배치되어도된다.

2. 发明授权

KR101900720B1 극자외선 리소그래피용 펠리클 및 그의 제조방법 有权
公开(公告)号：KR101900720B1
公开(公告)日：2018-09-20
申请号：KR1020170149847
申请日：2017-11-10
申请人： 주식회사 에스앤에스텍
发明人： 남기수 , 이창훈 , 홍주희 , 박철균
IPC分类号： G03F1/66 , G03F7/20 , H01L21/027 , H01L21/768
CPC分类号： G03F7/70983 , G03F1/22 , G03F1/62 , G03F1/64 , G03F1/66 , G03F7/70033 , H01L21/0274 , H01L21/76829
摘要： 극자외선리소그래피용펠리클이개시된다. 펠리클은, 지지층을식각하여형성되는지지층패턴, 지지층패턴의상부에형성되는펠리클층, 및지지층패턴과펠리클층사이에형성되어지지층의식각시 식각을저지하는식각저지층을식각함으로써형성되는식각저지층패턴을구비한다. 극자외선용노광광에대해두께를최소화하여높은투과율을유지하면서기계적강도와열적특성이우수한극자외선포토마스크용펠리클이제공된다.

3. 发明授权

KR101864171B1 리소그래피용 펠리클 有权
公开(公告)号：KR101864171B1
公开(公告)日：2018-06-04
申请号：KR1020120028246
申请日：2012-03-20
申请人： 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤
发明人： 츠카다준이치 , 시라사키토루
IPC分类号： G03F1/62
CPC分类号： G03F1/64 , G03F1/62
摘要： [과제] 펠리클을노광원판에부착했을때의노광원판의변형을저감할수 있는리소그래피용펠리클을제공한다. [해결수단] 자중을포함하는 0.008∼5kgf의부착하중으로노광원판에부착했을때에에어패스가발생되지않는점착층을갖는것을특징으로하는리소그래피용펠리클이다. 상기점착층은영률이 0.01∼0.10㎫, 인장접착강도가 0.02∼0.10N/㎟이며, 표면의평탄도가 0∼15㎛인점착층이다.

4. 发明公开

KR20180050444A 패턴 검사 방법 및 그를 사용한 레티클 제조 방법 审中-公开
公开(公告)号：KR20180050444A
公开(公告)日：2018-05-15
申请号：KR20160146376
申请日：2016-11-04
IPC分类号： G03F1/84 , G03F1/20 , G03F7/20 , G03F7/30 , H01L21/66
CPC分类号： H01L22/20 , G03F1/62 , H01L21/0274
摘要： 본발명은패턴검사방법및 그를사용한레티클제조방법을개시한다. 그의검사방법은, 기판상에박막패턴들을형성하는단계와, 박막패턴들상에제 1 방전층을형성하는단계와, 제 1 방전층을투과하는제 1 하전입자빔을제공하여박막패턴들을측정하는단계를포함한다. 제 1 방전층은박막패턴들사이를연결하고, 박막패턴들사이의기판으로부터분리될수 있다.

5. 发明公开

KR20180031812A 리소그래피 장치 및 방법 审中-公开
标题翻译：光刻设备和方法
公开(公告)号：KR20180031812A
公开(公告)日：2018-03-28
申请号：KR20187007749
申请日：2011-03-17
申请人： ASML NETHERLANDS BV
发明人： YAKUNIN ANDREI , BANINE VADIM , LOOPSTRA ERIK , VAN DER SCHOOT HARMEN , STEVENS LUCAS , VAN KAMPEN MAARTEN
IPC分类号： G03F1/62 , C01B32/20 , G02B5/08 , G02B5/20 , G03F1/24 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F1/64 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C01B32/20 , G02B5/0816 , G02B5/0891 , G02B5/204 , G02B5/208 , G02B27/0006 , G03B27/54 , G03F1/24 , G03F1/62 , G03F7/70058 , G03F7/702 , G03F7/70916 , G03F7/70958 , G03F7/70983 , G21K1/062 , G21K2201/061 , H01B1/04 , H01B1/24
摘要： 리소그래피장치는방사선빔을생성하도록구성된방사선소스, 및패터닝디바이스를지지하도록구성된지지체를포함한다. 패터닝디바이스는패터닝된방사선빔을형성하기위해방사선빔에패턴을부여하도록구성된다. 방사선소스와패터닝디바이스사이에는챔버가위치된다. 챔버는방사선빔을반사시키도록구성된적어도 1 이상의광학구성요소를포함하고, 방사선소스로부터의방사선이이를통과하는것을허용하도록구성된다. 멤브레인(44)이멤브레인을통한방사선빔의통과를허용하고, 오염입자(54)들의통과를방지하도록구성된다. 챔버내부로부터챔버외부로우회경로를따라가스가흐르는것을허용하도록입자포획구조체(52)가구성된다. 우회경로는챔버내부로부터챔버외부로의오염입자(58)들의통과를실질적으로방지하도록구성된다.
摘要翻译：光刻设备包括被配置为产生辐射束的辐射源。该光刻设备还包括被配置为支撑图案形成装置的支撑件。图案形成装置被配置为将辐射束赋予图案以形成图案化的辐射束。该支撑件提供有包括石墨烯层的薄膜。

6. 发明公开

KR20180030673A 멤브레인 조립체를 제조하는 방법 审中-公开
标题翻译：制造膜组件的方法
公开(公告)号：KR20180030673A
公开(公告)日：2018-03-23
申请号：KR20187004729
申请日：2016-07-04
申请人： ASML NETHERLANDS BV
发明人： KLOOTWIJK JOHAN HENDRIK , VAN DEN EINDEN WILHELMUS THEODORUS ANTHONIUS JOHANNES
IPC分类号： G03F1/62 , G03F1/80 , G03F7/20 , H01L21/02 , H01L21/027
CPC分类号： G03F1/62 , G03F7/70916
摘要： EUV 리소그래피를위한멤브레인조립체를제조하는방법이개시되며, 상기방법은: 평면기판및 적어도하나의멤브레인층을포함한스택을제공하는단계 -상기평면기판은내부구역및 내부구역주위의보더구역을포함함- ; 및평면기판의내부구역을선택적으로제거하는단계를포함한다. 멤브레인조립체는: 적어도하나의멤브레인층으로부터형성되는멤브레인; 및멤브레인을유지하는보더를포함하고, 보더는평면기판의보더구역으로부터형성된다. 스택에는평면기판의내부구역을선택적으로제거하는단계동안보더구역을기계적으로보호하도록구성되는기계적보호재료가제공된다.
摘要翻译：公开了一种用于制造用于EUV光刻的膜组件的方法，该方法包括：提供包括平面衬底和至少一个膜层的叠层，该平面衬底包括围绕内部区域和内部区域的边界区域 - ; 并有选择地去除平面衬底的内部区域。膜组件包括：由至少一个膜层形成的膜; 以及用于保持膜的边界，其中边界由平坦基板的边界区域形成。该堆叠设置有机械保护材料，该机械保护材料被配置为在选择性地移除平面衬底的内部区域的步骤期间机械地保护边界区域。

7. 发明公开

KR1020170118696A 펠리클 프레임 파지 장치 및 펠리클 프레임 파지 방법 审中-实审
标题翻译：薄膜框架持有装置和薄膜框架持有方法
公开(公告)号：KR1020170118696A
公开(公告)日：2017-10-25
申请号：KR1020177019004
申请日：2016-02-15
申请人： 브이 테크놀로지 씨오. 엘티디
发明人： 스기모토시게토
IPC分类号： G03F1/66 , G03F1/62 , H01L21/677
CPC分类号： G03F1/62 , G03F1/66 , H01L21/677
摘要： 펠리클프레임등에비틀림이생기고있는경우에도, 작업자가개재하는일이없이펠리클프레임을파지할수가있다. 소정의간격으로대략수평으로보유되는 2개의봉(213, 214)의각각에복수씩설치된펠리클파지부재에각각설치된계측부에의해펠리클파지부재및 펠리클(100)의측면에형성된홈의높이를연속하여취득한다. 용기본체(11)를상방으로이동시키고, 펠리클파지부재의높이와홈의높이가대략일치한경우에는, 펠리클파지부재를홈에삽입하고, 펠리클파지부재가홈에삽입되면용기본체(11)를하방으로이동시킨다.
摘要翻译：即使当薄膜框架扭曲时，操作者也可以在不介入的情况下抓住薄膜框架。连续的槽的高度形成在防尘薄膜组件夹紧构件和由每个已安装的测量防尘薄膜组件夹持由多个在各两个杆213和214的设置部件的薄膜（100）的侧面基本上与预定的空间水平地保持它得到。以移动容器单元11向上，在hangyeongwoo防护膜噬菌体bujaeui高度的高度和槽大致匹配，插入时的防尘薄膜组件夹持部件进入槽，该防尘薄膜组件的保持构件被插入到在下部容器主体中的槽（11）移动。

8. 发明公开

KR1020170109056A 마스크 어셈블리 및 연관된 방법 审中-实审
标题翻译：面罩组装和相关方法
公开(公告)号：KR1020170109056A
公开(公告)日：2017-09-27
申请号：KR1020177024723
申请日：2016-02-01
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
发明人： 브라운스더크세르바티우스거트루다 , 드그라프데니스 , 드크루이프로베르투스코르넬리스마르티누스 , 얀센폴 , 크루이징아마티아스 , 노텐붐아누드빌럼 , 스미스다니엘앤드류 , 버브러지베아트리스루이즈마리-요셉카트린 , 윌리제임스노만
IPC分类号： G03F1/66 , G03F1/62 , G03F1/84 , G03F7/20
CPC分类号： G03F1/62 , G03F1/66 , G03F1/84 , G03F7/70033
摘要： 펠리클프레임에의해홀딩된착탈식 EUV 투과펠리클및 마스크를포함하는마스크어셈블리를수용하는단계, 상기마스크로부터상기펠리클프레임및 EUV 투과펠리클을제거하는단계, 검사툴을사용하여상기마스크상의마스크패턴을검사하는단계, 및후속하여, 펠리클프레임에의해홀딩된 EUV 투과펠리클을상기마스크에부착하는단계를포함하는, 방법. 이러한방법은, 상기펠리클프레임및 EUV 투과펠리클을상기마스크로부터제거한이후에, 상기검사툴의검사빔을실질적으로투과시키는재료로형성된대체펠리클을홀딩하는대체펠리클프레임을상기마스크에부착하는단계, 및상기검사툴을사용하여상기마스크상의마스크패턴을검사한이후에, 상기펠리클프레임에의해홀딩된 EUV 투과펠리클을상기마스크에부착하기위하여, 상기대체펠리클프레임에의해홀딩된대체펠리클을상기마스크로부터제거하는단계를더 포함할수 있다.
摘要翻译：进一步包括：接收的掩模组件，其包括可移除的EUV透射薄膜并且通过薄膜框架保持的掩模，所述方法包括：移除所述防尘薄膜组件框架，并从掩模EUV透射防护薄膜组件，使用掩模上的掩模图案的检查工具检查随后将由防护薄膜组件框架保持的EUV透射薄膜粘贴到掩模上。该方法包括安装该防护薄膜组件框架，并从掩模去除后更换防尘薄膜组件框架的EUV透射薄膜，认为检查工具的掩模的扫描光束基本上透射的材料形成的可替代防护膜的步骤，并且为了掩模图案的检查后使用检查工具上的掩模附着由防尘薄膜组件框架，以该掩模保持的EUV透射防护薄膜组件，并通过除去从掩模更换防尘薄膜组件框架保持的替换防护薄膜组件你可以包含。

9. 发明公开

KR1020170103819A 펠리클용 지지 프레임 审中-实审
标题翻译：支持框架为薄膜
公开(公告)号：KR1020170103819A
公开(公告)日：2017-09-13
申请号：KR1020177019390
申请日：2015-10-29
申请人： 니폰게이긴조쿠가부시키가이샤
发明人： 기요미하야토 , 고무라나오토
IPC分类号： G03F1/64 , G03F1/66 , H01L21/027
CPC分类号： G03F1/64 , G03F1/62 , H01L21/027 , G03F1/66
摘要： 알루미늄합금제의프레임체(10)의표면(10a)에펠리클막(2)이접착되고, 프레임체(10)의이면(10b)에투명기판(M)이접착되는펠리클(P)용지지프레임(1)이다. 프레임체(10)의이면(10b)에는, 프레임체(10)의주위방향으로연장되는오목홈(20)이형성됨과함께, 프레임체(10)의외주면(10c)으로부터오목홈(20)의내면에이르는통기구멍(30)이형성되어있다. 이구성에서는, 투명기판(M)으로부터지지프레임(1)을떼어낼때, 지지프레임(1)의변형을억제할수 있다.
摘要翻译：铝合金提出的帧体的表面（10A）10艾菲尔躺椅膜（2）的背面的支承框架（10b）的星辰者基板（M）防护薄膜组件，其中该被结合的粘接剂（P），框体10（ 1 a）中。框体的背面10（10B）具有，沿尽快20释放在框体10，框构件10，凹槽20的从意外主表面的内表面（10C）的圆周方向上延伸的凹槽形成通气孔30。在该构造中，当支撑框架1从透明基板M分离时，可以抑制支撑框架1的变形。

10. 发明授权

KR101768214B1 포토마스크와 펠리컬프레임의 부착 장치 및 방법 有权
公开(公告)号：KR101768214B1
公开(公告)日：2017-08-30
申请号：KR1020160171368
申请日：2016-12-15
申请人： 주식회사 네오세미텍
发明人： 김선각 , 이상이 , 정민식 , 정승일
IPC分类号： G03F1/62 , G03F1/64 , G03F1/66 , G03F1/00 , H01L21/18 , H01L21/67
CPC分类号： G03F1/62 , G03F1/142 , G03F1/64 , G03F1/66 , H01L21/185 , H01L21/67098 , H01L21/67778
摘要： 본발명은마스크의왜곡을최소화시킬수 있는포토마스크와펠리컬프레임의부착방법에관한것으로서, 펠리컬막이부착된펠리컬프레임을펠리컬막이하부로가도록고정시키고, 상기펠리컬프레임에타측면에접착제가도포시켜준비된포토마스크와펠리컬프레임의부착장치에있어서, 포토마스크및 펠리컬프레임중 적어도어느하나에열을가하여펠리컬프레임에도포된접착제가작용하여포토마스크와펠리컬프레임이효율적으로접착되도록구성되는히터; 및상기포토마스크를 4개의마스크가이드로받쳐들어올려이송시켜접착제가도포된상기펠리컬프레임의상부에올려놓아자중에의해접착되도록하는마스크지그;를포함하여구성되어마스크의자중또는펠리컬프레임의자중에의해왜곡없이마스크와펠리컬프레임을접착시킬수 있는효과가있다.

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