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1. 发明授权

KR101858280B1 열광원을 갖는 EUV 마이크로리소그래피 투영 노광 장치 有权
公开(公告)号：KR101858280B1
公开(公告)日：2018-05-15
申请号：KR1020137008560
申请日：2011-09-02
申请人： 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하
发明人： 피올카,다미안
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , G03F7/26
CPC分类号： G03F7/702 , G03F7/2004 , G03F7/70158 , G03F7/70891
摘要： 본발명은 5nm 내지 15nm의제 1 스펙트럼범위의방사선을생성하기위한노광광원및 1 내지 50 μm의제 2 스펙트럼범위의방사선을생성하기위한열 광원을갖는 EUV 마이크로리소그래피투영노광장치에관한것이다. 장치는광 경로를따라제 1 스펙트럼범위로부터의방사선을가이드하기위한미러들의제 1 그룹을가져서제 1 그룹의각각의미러가노광광원의동작동안제 1 스펙트럼범위에서각 미러에적용된제 1 관련된강도분포를가질수 있는광학시스템을또한포함한다. 이런경우에, 열광원은, 제 1 그룹의적어도하나의미러가열 광원의동작동안적어도하나의미러에적용된제 2 스펙트럼범위에서의제 2 관련된강도분포를가질수 있고, 여기서제 1 강도분포가위치독립적팩터에의해필수적으로제 1 강도분포와상이하도록배열된다.

2. 发明公开

KR20180010242A 마이크로리소그래픽 투영 장치의 작동 방법 审中-公开
标题翻译：操作微光刻投影设备的方法
公开(公告)号：KR20180010242A
公开(公告)日：2018-01-30
申请号：KR20177036766
申请日：2016-05-14
IPC分类号： G03F7/20 , G02B26/08
CPC分类号： G03F7/70116 , G02B26/0833 , G03F7/702
摘要： 마이크로리소그래픽투영장치의작동방법은마스크(16), 상기마스크를조명하도록구성된조명시스템(12), 및감광성표면(22) 상에위치된이미지필드상에, 마스크평면의상기마스크(16) 상에조명되는오브젝트필드(14)의이미지를형성하도록구성되는투영오브젝티브(20)를제공하는단계를포함한다. 에지배치에러는상기이미지필드의상이한필드지점에서결정된다. 마스크(16)는각도조도분포의개선된필드의존도를갖는투영광으로조명된다. 상기개선된필드의존도에따른상기각도조도분포는, 단계 b)에서결정된상기에지배치에러가상이한필드지점들에서감소되도록상기오브젝트필드(14)에걸쳐서변한다.
摘要翻译：一种操作微光刻投影设备的方法包括以下步骤：提供掩模（16），配置成照亮掩模的照明系统（12）和位于感光表面（22）上的像场，并且提供被配置为形成要被照亮的物场（14）的图像的投影物镜（20）。边缘放置错误在图像字段中的不同字段点处确定。用具有改善的角强度分布的场依赖性的投影光照射掩模16。根据改善的场依赖性的角度强度分布在物场14上变化，使得在步骤b）中确定的边缘布置误差在不同的场点处减小。

3. 发明授权

KR101809343B1 마이크로리소그래픽 장치 有权
标题翻译：微刻光刻装置
公开(公告)号：KR101809343B1
公开(公告)日：2017-12-14
申请号：KR1020157028411
申请日：2013-03-13
申请人： 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하
发明人： 비트너보리스 , 바브라노르베르트 , 슈나이더소냐 , 슈나이더리카르다 , 호덴베르크마르틴폰 , 바그너헨드릭 , 일리에프루멘
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70191 , G03F7/702 , G03F7/70891
摘要： 마이크로리소그래픽투영노광장치의투영대물부는투영광이통과하는두 개의반대측광학표면(46, 48)과두 개의광학표면(46, 48) 사이에서연장되는원주방향림 표면(50)을구비하는미러기판(44; 44a, 44b)을포함하는파면보정장치(42)를포함한다. 제1 및제2 광학시스템(OS1, OS2)이제1 및제2 가열광(HL1, HL2)의적어도일부분이미러기판(44; 44a, 44b)에들어가도록상기제1 및제2 가열광을림 표면(50)의다양한부분에지향시키도록구성된다. 가열광(HL1, HL2)의부분적인흡수에의해유발되는온도분포는파면오차를보정하는굴절률분포를미러기판(44; 44a, 44b) 내부에생성한다. 적어도제1 광학시스템(OS1)은초점영역(56)으로부터나오는제1 가열광이림 표면(50)에입사하도록제1 가열광을초점영역(56)에집속시키는집속광학요소(55)를포함한다.
摘要翻译：具有微光刻两个侧光学面（46，48）源厨房hyangrim表面50的光学面（46，48），用于穿过所述图形投影曝光装置中的投影物镜部分投射光的髁之间延伸的相对的反射镜衬底（44; 44a，44b）。第一和第二光学系统OS1和OS2第一和第二光学系统OS1和OS2以第一和第二加热光HL1和HL2照射到边缘表面50的方式布置如图所示。由加热光HL1和HL2的部分吸收引起的温度分布在镜基板44（44a和44b）内部产生用于校正波前误差的折射率分布。至少第一光学系统OS1包括聚焦光学元件55，该聚焦光学元件55将第一加热光聚焦到聚焦区域56上，以便入射到从聚焦区域56出来的第一加热光出射面50上。

4. 发明公开

KR1020170091169A 광학 시스템에서 적어도 하나의 광학 요소를 작동시키기 위한 배열체 审中-实审
标题翻译：用于在光学系统中操作至少一个光学元件的装置
公开(公告)号：KR1020170091169A
公开(公告)日：2017-08-08
申请号：KR1020177021028
申请日：2013-11-07
申请人： 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하
发明人： 하우프마르쿠스 , 포클러알렉산더
IPC分类号： G03F7/20 , G02B7/182 , G02B26/08
CPC分类号： G03F7/702 , G02B7/181 , G02B7/182 , G02B7/1828 , G02B26/0816 , G02B26/0833 , G03F7/70075 , G03F7/70116 , G03F7/70825
摘要： 본발명은광학시스템, 특히투영노광기기의광학시스템에서요소를작동시키기위한배열체에관한것으로, 광학요소(101)은조인트강성을갖는적어도하나의조인트(102)에의해적어도하나의경사축을중심으로경사가능하고, 광학요소(101)에힘을인가하기위한적어도하나의작동기(104)를포함하며, 작동기(104)는조인트강성을적어도부분적으로보상하는작동기강성을갖는다.
摘要翻译：本发明涉及一种光学系统，特别是用于操作投影曝光设备的光学系统中的元件的装置，其中光学元件（101）包括至少一个接头（102）并且至少一个致动器104用于向光学元件101施加力，致动器104具有致动器刚度，该致动器刚度至少部分地补偿关节刚度。

5. 发明授权

KR101731735B1 분할된 미러를 구비한 리소그래피 장치 有权
公开(公告)号：KR101731735B1
公开(公告)日：2017-04-28
申请号：KR1020157000288
申请日：2013-06-19
申请人： 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하
发明人： 하르트예스요하임
IPC分类号： G03F7/20 , G01L21/22
CPC分类号： G03F7/7085 , G01B7/14 , G01B13/12 , G01L21/22 , G03F7/702 , G03F7/70233 , G03F7/70591
摘要： 본원발명에따르면, 리소그래피장치(100)가개시되며, 상기장치는, 적어도 2개의미러세그먼트들(210)을가지며상기미러세그먼트들이사이공간(214)이미러세그먼트들(210) 사이에형성되는방식으로서로결합되는, 미러(200)와, 미러세그먼트들(210)의상대위치를검출하기위한센서(220, 300)를포함하고, 센서(220, 300)는미러세그먼트들(210) 사이의사이공간(214) 내에배열된다.

6. 发明公开

KR1020170032198A 반도체 웨이퍼로부터 집적회로를 형성하기 위한 제조 설비 및 제조 설비용 와플 부재 审中-实审
标题翻译：用于由半导体晶片和华夫饼构件形成集成电路的制造设备
公开(公告)号：KR1020170032198A
公开(公告)日：2017-03-22
申请号：KR1020160117914
申请日：2016-09-13
申请人： 엠+베 그룹 게엠베하
发明人： 슈나이더,하르트무트 , 에베를레,프레이야 , 퀼러,스테펜 , 크사타리,피터 , 블라쉬츠,헤르베르트
IPC分类号： G03F1/22 , G03F7/20 , H01L21/027 , H01L21/02
CPC分类号： E04F15/02177 , E04B5/43 , E04B5/48 , E04F2290/02 , E04H5/02 , G03F7/702 , G03F7/708 , G03F7/70991 , H01L21/67225
摘要： 본발명의제조설비는반도체웨이퍼위에집적회로를형성하기위해사용되고 EUV 방사선을발생시키는적어도하나의방사선발생기를갖고있다. 상기 EUV 방사선은웨이퍼의노광을위한적어도하나의리소그래피기계에공급된다. 상기리소그래피기계는제작건물동에수용되어있다. 상기방사선발생기는제작건물동으로부터분리된건물동또는건물동일부에제공되어있다. 상기 EUV 방사선은적어도하나의방사선안내부를통해제작건물동에공급된다. 상기방사선안내부로부터둔각으로적어도하나의공급관이분기되고, 상기공급관을통해 EUV 방사선의적어도일부가리소그래피기계에공급된다. 와플부재는직사각형형태를갖고와플부재를위에서봤을때 와플부재의중앙면과예각을형성하는적어도하나의통로를갖고있다. 상기제조설비및 와플부재는 EUV 방사선을리소그래피기계에비용면에서유리하면서단순한구성으로공급할수 있게한다.
摘要翻译：本发明的制造设备具有至少一个辐射发生器，其用于在半导体晶片上形成集成电路并且生成EUV辐射。 EUV辐射被提供给至少一台平版印刷机以暴露晶片。平版印刷机被安置在建筑物框架中。辐射发生器设置在建筑铜或与建筑铜分离的建筑铜的一部分中。 EUV辐射通过至少一个辐射指导提供给生产建筑核心。至少一个供应管与辐射导管成钝角分叉，并且至少一部分EUV辐射通过供应管供应到光刻设备。华夫饼构件具有矩形形状并且具有至少一个当从上方观察时与华夫饼构件的中心平面形成锐角的通道。制造设备和松饼构件允许EUV辐射以成本有效和简单的配置供应到光刻机。

7. 发明公开

KR1020170029596A 다층 스택을 갖는 극 자외선 반사 엘리먼트 및 그 제조 방법 审中-实审
标题翻译：具有多层堆叠的极端超紫外反射元件及其制造方法
公开(公告)号：KR1020170029596A
公开(公告)日：2017-03-15
申请号：KR1020177003862
申请日：2015-07-03
申请人： 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
发明人： 호프만,랄프 , 하산,비나야크비쉬와나쓰 , 비즐리,카라 , 포아드,마지드에이.
IPC分类号： G03F7/20 , G03F1/24 , H01J37/34 , H01J37/32 , G21K1/06 , C23C14/06 , C23C14/14 , C23C16/44
CPC分类号： G03F7/702 , C23C14/0605 , C23C14/0635 , C23C14/14 , C23C16/44 , G02B1/14 , G02B5/085 , G02B5/0891 , G03F1/24 , G03F1/48 , G03F1/52 , G03F7/70033 , G03F7/70316 , G03F7/70916 , G03F7/70958 , G21K1/062 , H01J37/32798 , H01J37/3429
摘要： 극자외선반사엘리먼트의제조의장치및 방법은, 기판; 기판상의다층스택― 다층스택은, 브랙반사기를형성하기위해, 실리콘으로형성된제 1 반사층, 및니오븀또는니오븀탄화물로형성된제 2 반사층을갖는복수의반사층 쌍들을포함함―; 및산화및 기계적인부식을감소시킴으로써다층스택을보호하기위한, 다층스택상의그리고위의캐핑층을포함한다.
摘要翻译：一种制造极紫外反射元件的设备和方法包括：基片; 所述多层叠层包括多个反射层对，所述多个反射层对具有由硅形成的第一反射层和由用于形成布拉格反射器的铌或碳化铌形成的第二反射层; 以及在多层堆叠上和上方的覆盖层，用于通过减少氧化和机械侵蚀来保护多层堆叠。

8. 发明授权

KR101681785B1 ＥＵＶ 마이크로리소그래피용 조명 광학 유닛 有权
标题翻译：用于EUV微光刻的照明光学单元
公开(公告)号：KR101681785B1
公开(公告)日：2016-12-12
申请号：KR1020100125681
申请日：2010-12-09
申请人： 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하
发明人： 엔드레스,마르틴 , 되른,세바스챤 , 비엘링,스티그 , 키르흐,마르크
IPC分类号： G03F7/20 , G02B5/09
CPC分类号： G03F7/70233 , G02B5/09 , G03F7/70075 , G03F7/70116 , G03F7/702
摘要： 본발명은복수의제1 반사면요소(3)를갖는제1 광학요소(1) 및복수의제2 반사면요소(7)를갖는제2 광학요소(5)를포함하는 EUV 마이크로리소그래피용조명광학유닛에관한것이다. 이경우에, 상기복수의제1 반사면요소(3)로부터의각 제1 반사면요소(3)는, 제2 반사면요소(7)로이루어진 - 상기제1 면요소와관련된 - 세트를정의하는각각의최대수의상이한위치를갖고, 상기세트는모든제2 면요소(7)로이루어져상기조명광학유닛이동작하는동안상기제1 면요소(3)가자신의상이한위치에방사선을지향시키는방식으로구현된다. 이경우에, 상기복수의제2 반사면요소(7)는복수의분리된그룹을형성하고, 상기그룹의각각및 상기세트의각각은적어도 2개의제2 면요소(7)를포함하며, 동일한그룹에속하는세트의 2개의제2 면요소(7)는존재하지않는다. 이구성으로인해, 오브젝트필드의위치에막대한수의상이한각도의존강도분포를제공하도록사용될수 있는조명광학유닛을제공하는것이가능하게된다.
摘要翻译：本发明涉及一种用于EUV微光刻的照明光学单元，其包括具有多个第一反射小面元件（3）的第一光学元件（1）和具有多个第二反射小面元件（7）的第二光学元件（5）。在这种情况下，来自多个第一反射小面元件（3）的每个第一反射小平面元件（3）以这样一种方式实施，使得它具有相应的最大数目的不同位置，其定义与所述第一面元件 - 由第二反射小面元件（7）组成，其中该组由所有第二小面元件（7）组成，所述第一小面元件（3）在照明光学单元的操作期间将辐射引导到其不同的位置。在这种情况下，多个第二反射小面元件（7）形成多个不相交组，其中每个组和每个组包含至少两个第二小面元件（7），并且不存在两个第二小面元件（7）属于同一组的集合。这种结构使得可以提供一种照明光学单元，其可用于在物场的位置处提供大量不同的取决于角度的强度分布。

9. 发明授权

KR101653009B1 조명 광학계, 노광 장치, 및 노광 방법 有权
标题翻译：照射光学系统曝光装置和曝光方法
公开(公告)号：KR101653009B1
公开(公告)日：2016-08-31
申请号：KR1020117003060
申请日：2009-07-10
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 시라이시마사유키
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , G02B19/00
CPC分类号： G03F7/702 , G03F7/70075 , G03F7/70083
摘要： 광원으로부터의광속(光束)을제1 플라이아이광학계(22)에입사시키고, 제1 플라이아이광학계(22)를구성하는복수의미러소자(22a)로부터의광속을제2 플라이아이광학계(23) 및콘덴서광학계를통해조명영역(27R)에조사하는조명광학계(ILS)에있어서, 복수의미러소자(22a)의반사면은각각한 방향의폭이그것에직교하는방향의폭보다좁고, 미러소자(22a)의한 방향의반사율분포는사다리꼴형상이된다. 조명영역의강도분포를똑같지않은분포로설정하고, 조명영역내의각 점을거의동일한개방각의분포의광속으로조명할수 있다.

10. 发明授权

KR101591610B1 마이크로리소그래피용 투영 노광 장치에 사용하기 위한 패싯 미러 有权
标题翻译：用于微型计算机投影曝光装置的FACET MIRROR
公开(公告)号：KR101591610B1
公开(公告)日：2016-02-03
申请号：KR1020147002581
申请日：2009-02-06
申请人： 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하
发明人： 딩거,우도 , 엔드레스,마틴 , 베르버,아민 , 뮐뵈르거,노베르트 , 바흐,플로리안
IPC分类号： G02B5/09 , G02B26/08 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/702 , G02B5/09 , G02B26/06 , G02B26/0816 , G02B26/0833 , G02B27/0927 , G03F7/70075 , G03F7/70116
摘要： 마이크로리소그래피용투영노광장치에서다발-가이드광학부품으로서패킷미러가사용되게된다. 패싯미러는복수의분리미러들(21)을갖는다. 입사조명광의개별적인편향을위해, 이분리미러들(21)이각각의경우에, 그것들이적어도하나의틸트축(x, y)에대해틸트될수 있도록, 액츄에이터에연결된다. 액츄에이터에연결되는제어디바이스는, 각각의경우에적어도 2개의분리미러들(21)을포함하는분리미러그룹들(19)로그룹화될수 있도록, 구성된다. 그결과는, 투영노광장치내에설치될때, 투영노광장치에의해조명될오브젝트필드의다양한조명기하학적구조를설정하기위한변화성을향상시키는패싯미러이다. 패싯미러들을형성하기위한분리미러들의다양한실시예들이기술된다.

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