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1. 发明授权

KR101895825B1 조명 장치, 조명 방법, 노광 장치, 노광 방법 및 디바이스 제조 방법 有权
公开(公告)号：KR101895825B1
公开(公告)日：2018-09-07
申请号：KR1020167020176
申请日：2008-10-23
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 다니츠오사무
IPC分类号： F21V8/00 , G02B27/09 , G02B26/08 , G03F7/20 , G02B27/18
CPC分类号： G02B26/0833 , G02B26/02 , G02B27/0905 , G03F7/70058 , G03F7/70075 , G03F7/70108 , G03F7/70116
摘要： 본발명은조명동공면에다중레벨의광 강도분포를선택적으로형성할수 있는구조를갖는조명장치에관한것이다. 조명장치는광원으로부터의빛에근거하여조명동공면에형성된소정의광 강도분포를광원으로서사용하여피조사면에쾰러조명을실행한다. 조명장치는공간광변조기, 집광광학계및 제어유닛을구비한다. 공간광변조기는이차원적으로배열되고그 자세가서로독립적으로제어되는복수의반사면을구비한다. 집광광학계는반사면들로부터의빛을집광하여, 조명동공면에소정의광 강도분포를형성한다. 제어유닛은조명동공면에형성하고자하는광 강도분포에따라서광 강도분포를형성하는조명동공면상의각각의지점에도달하는빛에기여하는반사면의수를제어한다.

2. 发明授权

KR101853008B1 리소그래피 장치 및 방법 有权
公开(公告)号：KR101853008B1
公开(公告)日：2018-04-30
申请号：KR1020137001957
申请日：2011-03-17
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
发明人： 야쿠닌,안드레이 , 바니네,바딤 , 루프스트라,에릭 , 반데르슈트,하르멘 , 스티븐스,루카스 , 반캠펜,마르텐
IPC分类号： G03F7/20 , G21K1/06 , G02B5/08 , G02B5/20 , C01B31/04
CPC分类号： G03F1/64 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C01B32/20 , G02B5/0816 , G02B5/0891 , G02B5/204 , G02B5/208 , G02B27/0006 , G03B27/54 , G03F1/24 , G03F1/62 , G03F7/70058 , G03F7/702 , G03F7/70916 , G03F7/70958 , G03F7/70983 , G21K1/062 , G21K2201/061 , H01B1/04 , H01B1/24
摘要： 리소그래피장치는방사선빔을생성하도록구성된방사선소스, 및패터닝디바이스를지지하도록구성된지지체를포함한다. 패터닝디바이스는패터닝된방사선빔을형성하기위해방사선빔에패턴을부여하도록구성된다. 방사선소스와패터닝디바이스사이에는챔버가위치된다. 챔버는방사선빔을반사시키도록구성된적어도 1 이상의광학구성요소를포함하고, 방사선소스로부터의방사선이이를통과하는것을허용하도록구성된다. 멤브레인(44)이멤브레인을통한방사선빔의통과를허용하고, 오염입자(54)들의통과를방지하도록구성된다. 챔버내부로부터챔버외부로우회경로를따라가스가흐르는것을허용하도록입자포획구조체(52)가구성된다. 우회경로는챔버내부로부터챔버외부로의오염입자(58)들의통과를실질적으로방지하도록구성된다.

3. 发明公开

KR1020170119736A 조명 광학계 审中-实审
标题翻译：照明光学系统
公开(公告)号：KR1020170119736A
公开(公告)日：2017-10-27
申请号：KR1020177029947
申请日：2011-06-16
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 시게마츠고지
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70108 , G02B5/3083 , G02B27/0927 , G02B27/286 , G03F7/70058 , G03F7/70075 , G03F7/701 , G03F7/70191 , G03F7/702 , G03F7/70558 , G03F7/70566
摘要： 실시형태중 하나는, 편광변환부재의후속광학계에의한리타데이션의영향을작게억제해서, 소요의편광상태의광으로피조사면을조명할수 있는조명광학계에관한것이다. 일실시형태에의하면, 광원(LS)으로부터의광에의해피조사면(M)을조명하는조명광학계(1~12)는, 입사광의편광상태를변환하여, 조명광학계의조명동공에소정의편광상태의동공강도분포를형성하는편광변환부재(5A)와, 편광변환부재보다피조사면측의광로중에배치되며, 편광변환부재와피조사면사이의후속광학계에의한리타데이션의영향을저감하기위해서, 동공강도분포를형성하는광 중제 1 방향으로편광된직선편광의광이소요의타원편광의광으로변환되고, 또한제 1 방향과비스듬하게교차하는제 2 방향(X 방향또는 Y 방향)으로편광한직선편광의광의편광상태가유지되도록통과시키는위상변조부재(5B)를구비하고있다.
摘要翻译：一个示例性的形式中，本发明涉及一种照明光学系统，其以抑制延迟的影响，可以照亮与由偏振转换bujaeui后续光学系统中的干扰光的偏振状态被照射的表面。根据一个实施例，所述照明光学系统（1-12），用于照明快乐照射从所述光源（LS）的光的表面（M）转换入射光的偏振状态，预定偏振的照明系统的照明光瞳设置在成形的状态下的光瞳强度分布的光路和偏振转换构件（5A），偏振转换元件的被照射面侧，以减少所造成的偏振转换元件和所述表面之间的随后的光学系统中的延迟的影响被照射在光学jungje第一方向上形成的光的光瞳强度分布偏振的线性偏振光被转换成所需的椭圆偏振，并且在第二方向上的偏振光（X方向或Y方向）上的光倾斜地相交的第一方向以及用于使直线偏振光通过以维持光的偏振状态的相位调制部件5B。

4. 发明授权

KR101789855B1 조명 광학계 및 노광 장치 有权
标题翻译：照明光学系统和曝光设备
公开(公告)号：KR101789855B1
公开(公告)日：2017-10-25
申请号：KR1020137001254
申请日：2011-06-16
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 시게마츠고지
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70108 , G02B5/3083 , G02B27/0927 , G02B27/286 , G03F7/70058 , G03F7/70075 , G03F7/701 , G03F7/70191 , G03F7/702 , G03F7/70558 , G03F7/70566
摘要： 실시형태중 하나는, 편광변환부재의후속광학계에의한리타데이션의영향을작게억제해서, 소요의편광상태의광으로피조사면을조명할수 있는조명광학계에관한것이다. 일실시형태에의하면, 광원(LS)으로부터의광에의해피조사면(M)을조명하는조명광학계(1~12)는, 입사광의편광상태를변환하여, 조명광학계의조명동공에소정의편광상태의동공강도분포를형성하는편광변환부재(5A)와, 편광변환부재보다피조사면측의광로중에배치되며, 편광변환부재와피조사면사이의후속광학계에의한리타데이션의영향을저감하기위해서, 동공강도분포를형성하는광 중제 1 방향으로편광된직선편광의광이소요의타원편광의광으로변환되고, 또한제 1 방향과비스듬하게교차하는제 2 방향(X 방향또는 Y 방향)으로편광한직선편광의광의편광상태가유지되도록통과시키는위상변조부재(5B)를구비하고있다.
摘要翻译：一个示例性的形式中，本发明涉及一种照明光学系统，其以抑制延迟的影响，可以照亮与由偏振转换bujaeui后续光学系统中的干扰光的偏振状态被照射的表面。根据一个实施例，所述照明光学系统（1-12），用于照明快乐照射从所述光源（LS）的光的表面（M）转换入射光的偏振状态，预定偏振的照明系统的照明光瞳设置在成形的状态下的光瞳强度分布的光路和偏振转换构件（5A），偏振转换元件的被照射面侧，以减少所造成的偏振转换元件和所述表面之间的随后的光学系统中的延迟的影响被照射在光学jungje第一方向上形成的光的光瞳强度分布偏振的线性偏振光被转换成所需的椭圆偏振，并且在第二方向上的偏振光（X方向或Y方向）上的光倾斜地相交的第一方向以及用于使直线偏振光通过以维持光的偏振状态的相位调制部件5B。

5. 发明授权

KR101751581B1 마이크로리소그래픽 투영 노광 장치의 조명 시스템 有权
公开(公告)号：KR101751581B1
公开(公告)日：2017-06-27
申请号：KR1020140163298
申请日：2014-11-21
申请人： 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하
发明人： 데구엔테르,마르쿠스 , 다비덴코,블라디미르 , 코르브,토마스 , 슐레세너,프랑크 , 힐트,스테파니 , 오에겔레,볼프강
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70058 , G02B26/0833 , G03F7/70066 , G03F7/70075 , G03F7/70116 , G03F7/70191 , G03F7/70425
摘要： 마이크로리소그래픽투영노광장치(10)의조명시스템은, 마스크평면(88)에서적어도실질적으로중첩하는이미지를갖는복수의광 진입패싯(75)을갖는광학적분기(60)를포함한다. 공간광 변조기(52)는충돌투영광을공간적으로분해되는방식으로투과또는반사한다. 동공형성유닛은투영광을공간광 변조기상에보낸다. 오브젝티브(58)는공간광 변조기(52)의광 출사표면(57)을광학적분기(60)의광 입사패싯(75) 상에이미징하여, 광출사표면(57) 상의오브젝트영역(110)의이미지(110')는광 입사패싯(75) 중하나와완전하게일치한다. 제어유닛(90)은, 스캔방향(Y)을따라서오브젝트영역의광 패턴으로부터마스크(16) 상에형성된이미지의길이가스캔사이클의시작시에점진적으로증가하며, 스캔사이클의종료시에점진적으로감소하도록공간광 변조기(52)를제어한다.

6. 发明授权

KR101743378B1 노광장치, 노광방법 및 디바이스 제조방법 有权
标题翻译：曝光装置，曝光方法及装置制造方法
公开(公告)号：KR101743378B1
公开(公告)日：2017-06-15
申请号：KR1020157013859
申请日：2004-09-29
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 니시나가히사시 , 히키마이쿠오 , 도요다미츠노리 , 나카가와마사히로 , 하기와라츠네유키 , 미즈노야스시 , 기타나오노리 , 다니츠오사무 , 에무라노조무
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/7015 , G03F7/70058 , G03F7/70341 , G03F7/706 , G03F7/7085
摘要： 투영광학계 (PL) 로부터액체 (LQ) 에입사한노광광중, 광투과부 (44) 에입사한노광광은기체속을통과하지않고광학부재 (41) 에입사하여수렴된다. 노광장치는투영광학계의개구수가증대하여도투영광학계로부터의노광광을수광하여각종계측을할 수있다.
摘要翻译：曝光光线入射在光曝光时，光透射部分44入射到液体（LQ）从投影光学系统（PL）被会聚并入射在光学部件41上，而不通过气体通过内部。即使投影光学系统的数值孔径增加，曝光设备也可以接收来自投影光学系统的曝光光线并执行各种测量。

7. 发明公开

KR1020170028451A 중간이미지를 갖는 카타디옵트릭 투사 대물렌즈 无效
标题翻译：反射折射投影物镜与中间图像
公开(公告)号：KR1020170028451A
公开(公告)日：2017-03-13
申请号：KR1020177005924
申请日：2005-05-13
申请人： 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하
发明人： 도독아우렐리안 , 울리히빌헬름 , 에플레알렉산더
IPC分类号： G02B13/00 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70058 , G02B17/06 , G02B17/08 , G02B17/0804 , G02B17/0892 , G03F7/7015 , G03F7/70225 , G03F7/70275 , G02B13/0035
摘要： 투사대물렌즈의물체평면상에배열된패턴을투사대물렌즈의이미지평면상에결상하기위한카타디옵트릭투사대물렌즈로서, 물체필드를실 제1중간이미지로결상하기위한제1대물렌즈부분과, 제1대물렌즈부분으로부터의방사를이용하여실 제2중간이미지를생성하기위한제2대물렌즈부분과, 이미지평면상에실 제2중간이미지를결상하기위한제3대물렌즈부분을구비한다. 제2대물렌즈부분은오목거울을가진카타디옵트릭대물렌즈부분이다. 물체평면으로부터의방사를오목거울방향으로편향하기위한제1꺽음거울과꺽음거울로부터의방사를이미지평면방향으로편향하기위한제2꺽음거울이구비된다. 파지티브굴절력의필드렌즈가제1중간이미지및/또는제1꺽음거울과오목거울사이에제1중간이미지의필드에인접한영역에배치된다.
摘要翻译：用于对投影物镜的物平面上配置的图案进行成像的反射折射投射物镜具有用于对物场进行成像以形成第一实际中间图像的第一物镜部分，使用来自第一目标部分的辐射来生成第二实际中间图像的第二目标部分; 以及用于在图像平面上成像第二实际中间图像的第三目标部分。第二个目标部分是具有凹面镜的反射折射物镜部分。提供了用于使来自物体平面的辐射在凹面镜的方向上偏转的第一折叠镜和用于在像面方向偏转来自凹面镜的辐射的第二折叠镜。在第一中间图像和/或第一折叠镜和凹面镜之间，在靠近第一中间图像的场的区域内布置具有正屈光力的场透镜。

8. 发明授权

KR101694275B1 패터닝 디바이스, 기판에 마커를 생성하는 방법 및 디바이스 제조 방법 有权
标题翻译：在基板上制作标记的图案装置方法和装置的制造方法
公开(公告)号：KR101694275B1
公开(公告)日：2017-01-23
申请号：KR1020157028994
申请日：2014-03-06
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
发明人： 바셀만스,요한네스 , 비넨,프란시스쿠스고데프리두스캐스퍼 , 팔먼,다니엘엘리자베스마리아
IPC分类号： G03F1/00 , G03F9/00 , H01L21/027
CPC分类号： G03F9/708 , G03F1/42 , G03F1/44 , G03F7/70058
摘要： 본발명은광학투영에의해기판에마커를형성하는데 사용하기위한패터닝디바이스를제공하며, 패터닝디바이스는주기적인밀도프로파일을갖는마커패턴을포함하고, 기본공간주파수는형성될마커의의도한주기에대응한다. 밀도프로파일은기본주파수를갖는단순한이원프로파일에대해기본주파수의 1 이상의고조파들을억제하도록 (예컨대, 사인곡선으로) 변조된다.
摘要翻译：一种用于通过光学投影在基板上形成标记的图案形成装置，所述图案形成装置包括具有对应于待形成的标记物的所需周期性的基本空间频率周期性的密度分布的标记图案。相对于具有基本频率的简单二进制分布，密度分布被调制（例如正弦曲线）以便抑制基频的一个或多个谐波。

9. 发明授权

KR101681143B1 노광 장치 및 이를 이용한 노광 방법 有权
标题翻译：曝光装置和曝光方法使用相同
公开(公告)号：KR101681143B1
公开(公告)日：2016-12-02
申请号：KR1020100069567
申请日：2010-07-19
申请人： 삼성디스플레이 주식회사
发明人： 김창훈 , 조국래 , 유홍석 , 안보경
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027 , G02B5/04
CPC分类号： G03F7/7035 , G03F7/70058 , G03F7/7015
摘要： 노광장치및 이를이용한노광방법이제공된다. 본발명의일 실시예에따른노광장치는, 광을조사하는광원부와, 노광영역과비노광영역을포함하는기판을지지하는기판스테이지부와, 상기광원부와상기기판스테이지사이에배치되고, 상기광이상기노광영역에조사되도록상기광을투과하거나, 상기광이상기비노광영역에조사되지않도록상기광을차단하는프리즘(prism)부를포함한다.
摘要翻译：提供一种曝光装置和使用其的曝光方法。曝光装置包括：配置为发光的光源单元; 支撑衬底的衬底台，所述衬底包括曝光区域和非曝光区域; 以及设置在所述光源单元和所述基板台之间的棱镜单元，所述棱镜单元可移动以将光透射到所述曝光区域并阻挡来自所述非曝光区域的光。

10. 发明授权

KR101680494B1 공간 광변조기 및 노광 장치 有权
标题翻译：空调光调制器和曝光装置
公开(公告)号：KR101680494B1
公开(公告)日：2016-11-28
申请号：KR1020157002678
申请日：2013-06-19
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 스즈키쥰지 , 스즈키요시히코
IPC分类号： G02B26/08
CPC分类号： G02B26/0841 , G03F7/70058 , G03F7/70116
摘要： 공간광변조기로서, 기판과, 기판의표면에배치된고정전극과, 표면에일단이연결된연결부와, 연결부의타단에연결되고, 연결부의탄성변형에의해기판에대해요동하는가동부와, 가동부에일단이결합되어기판의두께방향으로연장되고, 가동부와일체적으로요동하는지주부와, 지주부의타단에결합되고, 가동부및 지주부와일체적으로요동하는반사면을가지는반사부재와, 반사부재에서고정전극에대향하는면에배치된가동전극과, 가동전극의막 두께보다큰 막두께를갖고지주부에배치되고, 가동부및 가동전극의사이를전기적으로결합하는도체층을구비한다.
摘要翻译：空间光调制器设置有：基板; 设置在所述基板的表面上的固定电极; 连接部，其连接部的一端与基板的表面连接; 可动部，其连接到所述连接部的另一端; 支撑柱部分，其在所述基板的厚度方向上延伸，所述支撑柱部分的一端连接到所述可移动部分; 反射构件，其连接到所述支撑柱部分的另一端; 可动电极，设置在反射构件的表面上，反射构件的表面面向固定电极; 以及导电层，其设置在所述支撑柱部分上，膜厚度大于所述可动电极的膜厚度，并且在所述可动部分和所述可动电极之间电连接。

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