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1. 发明授权

KR101245396B1 묘화 장치 및 묘화 방법 有权
标题翻译：绘图装置和绘图方法
公开(公告)号：KR101245396B1
公开(公告)日：2013-03-19
申请号：KR1020110036816
申请日：2011-04-20
申请人： 가부시키가이샤 스크린 홀딩스
发明人： 나카자와요시유키 , 후루야요시오 , 이토료스케 , 나카니시켄지 , 타니구치카즈타카 , 야마다료
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03B27/32 , G03B27/50 , G03B27/52 , G03F7/70291 , G03F7/70308 , G03F7/70508
摘要： 대상물에 대한 패턴의 묘화 위치를 높은 정밀도로 컨트롤할 수 있는 기술을 제공한다.
묘화 장치는, 광학 헤드부로부터, 광학 헤드부에 대해서 상대적으로 이동하는 대상물(예를 들면, 기판)에 대해서 빛을 조사하여, 기판(W)에 패턴을 묘화한다. 여기서, 광학 헤드부가, 광원으로부터의 빛을, 패턴 데이터에 근거하여 공간 변조하는 공간 변조 유닛(44)과, 공간 변조 유닛(44)에 있어서 공간 변조된 빛의 경로를, 공간 변조 유닛(44)의 공간 변조의 단위(구체적으로는, 예를 들면, 공간 광변조 소자(4411)의 화소 단위)보다 미세한 정밀도로 시프트시키는 광로 보정부(45)를 구비한다.

2. 发明公开

KR1020130023040A 진보된 리소그래피 프로세스를 위한 세정 노즐 有权
标题翻译：用于高级光刻工艺的清洁喷嘴
公开(公告)号：KR1020130023040A
公开(公告)日：2013-03-07
申请号：KR1020120025579
申请日：2012-03-13
申请人： 타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드
发明人： 양칭-하이 , 리상-셍
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , H01L21/02
CPC分类号： H01L21/6715 , B05B15/50 , B05B15/555 , G03F7/30 , H01L21/67051 , H01L21/0273 , B05B17/04 , G03B27/32 , G03F7/40
摘要： PURPOSE: A cleaning nozzle for an advanced lithography process is provided to improve a lithography process by controlling a cleaning nozzle to distribute cleaning fluid at preset programmed time. CONSTITUTION: A development module(110) includes a GP nozzle(120), a cleaning nozzle(130), a controller(140), and an exhaust element(150). The GP nozzle(120) distributes developer solutions to a wafer and includes a tip to distribute the developer solutions. The cleaning nozzle cleans the tip of the GP nozzle using the cleaning solutions. The controller operates the cleaning nozzle according to a preset program. The exhaust element removes moisture from the developer module. [Reference numerals] (110) Development module; (120) GP nozzle; (130) Cleaning nozzle; (140) Controller; (150) Exhaust element
摘要翻译：目的：提供用于先进光刻工艺的清洁喷嘴，以通过控制清洁喷嘴以预设的编程时间分配清洁流体来改善光刻过程。构成：显影模块（110）包括GP喷嘴（120），清洁喷嘴（130），控制器（140）和排气元件（150）。 GP喷嘴（120）将显影剂溶液分配到晶片并且包括分配显影剂溶液的尖端。清洁喷嘴使用清洁溶液清洁GP喷嘴的尖端。控制器根据预设程序操作清洁喷嘴。排气元件从显影剂模块中除去水分。（附图标记）（110）开发模块; （120）GP喷嘴; （130）清洁喷嘴; （140）控制器; （150）排气元件

3. 发明公开

KR1020120090906A 레티클 미끄럼을 감소시킨 레티클 지지체 有权
标题翻译：支持减少虚假的SLIPPAGE
公开(公告)号：KR1020120090906A
公开(公告)日：2012-08-17
申请号：KR1020120077380
申请日：2012-07-16
申请人： 에이에스엠엘 홀딩 엔.브이.
发明人： 델푸에르토,산티아고이. , 조단,엔리코
IPC分类号： H01L21/027 , G03F1/64
CPC分类号： G03F7/70825 , G03F7/707 , G03F7/70716 , G03F7/70758 , G03F7/70783 , G03B27/32 , G03B27/58 , G03F1/08 , G03F1/64 , H01L21/0273
摘要： PURPOSE: A reticle supporter reducing a reticle slip is provided to remove the reticle slip by moving a support device using a support transfer device. CONSTITUTION: A mask holding device includes a support device(450) and a holding device(480A). A mask force device(460A) provides acceleration force to a mask(470). A support transfer device simultaneously moves the mask force device and the support device. A mask moves in a y direction by activated coils(430A,430B,430C).
摘要翻译：目的：通过使用支撑转移装置移动支撑装置，提供了减少光罩滑移的掩模版支架以去除光罩滑移。构成：掩模保持装置包括支撑装置（450）和保持装置（480A）。掩模力装置（460A）向掩模（470）提供加速力。支撑转移装置同时移动掩模力装置和支撑装置。掩模通过激活的线圈（430A，430B，430C）沿y方向移动。

4. 发明公开

KR1020120033950A 묘화 장치 및 묘화 방법 有权
标题翻译：绘图装置和绘图方法
公开(公告)号：KR1020120033950A
公开(公告)日：2012-04-09
申请号：KR1020110036816
申请日：2011-04-20
申请人： 가부시키가이샤 스크린 홀딩스
发明人： 나카자와요시유키 , 후루야요시오 , 이토료스케 , 나카니시켄지 , 타니구치카즈타카 , 야마다료
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03B27/32 , G03B27/50 , G03B27/52 , G03F7/70291 , G03F7/70308 , G03F7/70508 , H01L21/0275
摘要： PURPOSE: An image drawing device and a method thereof are provided to shift a spatially modulated light path with higher accuracy compared to the accuracy of a space modulation unit, thereby controlling a drawing position of a pattern with respect to a target object with high accuracy. CONSTITUTION: A space modulation unit(44) spatially modulates light projected through a miller from an illumination optical system based on pattern data. A light path correction part(45) corrects a light path by shifting a spatially modulated path of light emitted from the space modulation unit. A projection optical system(46) forms an image on a corresponding surface by controlling the light path to the surface of a substrate(W). A auto focus unit is comprised of a position detection unit and a driving part for controlling the location of a focusing lens(465). The position detection unit detects the height of the substrate.
摘要翻译：目的：提供一种图像绘制装置及其方法，用于与空间调制单元的精度相比更高精度地移动空间调制光路，从而以高精度控制图案相对于目标物体的绘制位置。构成：空间调制单元（44）基于图案数据从照明光学系统空间调制通过铣刀投影的光。光路校正部（45）通过移动从空间调制单元发射的光的空间调制路径来校正光路。投影光学系统（46）通过控制到基板（W）的表面的光路来在对应的表面上形成图像。自动对焦单元由位置检测单元和用于控制聚焦透镜（465）的位置的驱动部分组成。位置检测单元检测基板的高度。

5. 发明公开

KR1020100022265A 레이저 조사 장치 및 그를 이용한 유기전계발광표시장치의 제조 방법 有权
标题翻译：使用其的有机发光二极管装置的激光照射装置和制造方法
公开(公告)号：KR1020100022265A
公开(公告)日：2010-03-02
申请号：KR1020080080860
申请日：2008-08-19
申请人： 삼성모바일디스플레이주식회사
发明人： 이승묵 , 강태민 , 김도영 , 김범준
IPC分类号： H05B33/10 , H01L51/56
CPC分类号： G03B27/32
摘要： PURPOSE: A laser irradiation device and a method for manufacturing an organic electroluminescent display device using the same are provided to prevent a laser beam from being irradiated to an unwanted region of a donor substrate by preventing a noise laser beam on a non-transmissive region of a mask pattern. CONSTITUTION: A laser source(110) generates a laser beam. A projection lens(140) is arranged under a laser source. A mask pattern(130) is arranged between the laser source and the projection lens. The mask pattern includes a transmissive region and a non-transmissive region. A reflective layer(132) is formed on one side of the mask pattern to face the laser source. An anti-reflective layer(134) is formed on the other side of the mask pattern to face the projection lens.
摘要翻译：目的：提供一种激光照射装置及其制造使用该激光照射装置的有机电致发光显示装置的方法，以防止激光束照射到施主基板的不需要的区域，一个掩模图案。构成：激光源（110）产生激光束。投影透镜（140）布置在激光源下方。在激光源和投影透镜之间布置有掩模图案（130）。掩模图案包括透射区域和非透射区域。反射层（132）形成在掩模图案的一侧面对激光源。在掩模图案的另一侧上形成有抗反射层（134），以面对投影透镜。

6. 发明公开

KR1020090118004A 노광 장치, 보정 방법 및 디바이스 제조 방법 无效
标题翻译：曝光装置，校正方法和装置制造方法
公开(公告)号：KR1020090118004A
公开(公告)日：2009-11-17
申请号：KR1020090041200
申请日：2009-05-12
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 마쯔다히데끼
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03B27/32 , G03F7/706 , G03F7/70525 , G03F7/70533 , G03F7/70625 , G03F7/70641 , G03F7/70716
摘要： PURPOSE: An exposure device, a correcting method and a method for manufacturing a device are provided to preform accuracy of measurement by removing an error due to a measurement algorithm, a kind of measurement devices, the thickness of a resist film, the kind of resists, and an oblique incidence angle. CONSTITUTION: An exposure apparatus includes a projection optical system and a controller. The projection optical system projects the pattern of a disc to a substrate. The controller obtains the line width on a first mark and a position on a second mark. The controller is formed at each position of the substrate while the first mark and the second mark change the position of a substrate stage to an optical axial direction by stages. The misalignment on the second mark formed in the substrate maintained by the substrate stage is produced in the optical axial direction to measure the limit value of the change of the line width on the first mark.
摘要翻译：目的：提供一种曝光装置，校正方法和装置的制造方法，通过消除由于测量算法，测量装置的种类，抗蚀剂膜的厚度，抗蚀剂的种类等引起的误差来预测测量精度，和倾斜入射角。构成：曝光装置包括投影光学系统和控制器。投影光学系统将光盘的图案投影到基板。控制器获得第一标记上的线宽和第二标记上的位置。控制器形成在基板的每个位置处，同时第一标记和第二标记将基板台的位置逐级地改变到光轴向。在光轴方向上产生在由基板台保持的基板上形成的第二标记上的未对准，以测量第一标记上的线宽的变化的极限值。

7. 发明公开

KR1020090097125A 노광 장치, 노광 방법, 산출 방법, 및 디바이스 제조 방법 无效
标题翻译：曝光装置，曝光方法，计算方法和装置制造方法
公开(公告)号：KR1020090097125A
公开(公告)日：2009-09-15
申请号：KR1020090019914
申请日：2009-03-09
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 시게노부아쯔시 , 하세가와야스오 , 스께가와다까시
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03B27/42 , G03B27/32 , G03F7/70258 , G03F7/706 , G03F7/70091 , G03F7/705 , G03F7/7055
摘要： An exposure apparatus, an exposure method, a calculation method, and a device fabrication method are provided to realize superior exposure performance by calculating the variation of a projection optical system with high accuracy and correcting it. In an exposure apparatus, an exposure method, a calculation method, and a device fabrication method, a projection optical system(40) is formed in order to project a pattern of a reticle(30) on a substrate. A map acquisition unit divides a pupil plane and receives unit radiation of a plurality regions, and a distribution acquisition unit obtains the distribution of radiation formed on the pupil plane of the projection optical system. A calculation unit calculates a threshold value of each variation of optical property.
摘要翻译：提供曝光装置，曝光方法，计算方法和装置制造方法，以通过高精度地计算投影光学系统的变化并进行校正来实现优异的曝光性能。在曝光装置，曝光方法，计算方法和装置制造方法中，形成投影光学系统（40），以将掩模版（30）的图案投影到基板上。地图采集单元分割瞳平面并接收多个区域的单位辐射，并且分布获取单元获得在投影光学系统的瞳面上形成的辐射分布。计算单元计算光学特性的每个变化的阈值。

8. 发明授权

KR100327334B1 최적의 공정 조건 설정이 가능한 리소그라피 시스템 및 그 운용 방법 有权
标题翻译：平版印刷系统能够设定最佳配方及其操作方法
公开(公告)号：KR100327334B1
公开(公告)日：2002-03-06
申请号：KR1019990026854
申请日：1999-07-05
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 박찬훈 , 채희선
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70483 , G03B27/32
摘要： 본발명의리소그라피시스템은스피너, 제1 컨트롤러, 스테퍼및 제2 컨트롤러를포함하는것을특징으로한다. 스피너는반도체웨이퍼상에포토레지스트막을코팅시킨다. 제1 컨트롤러는, 반도체웨이퍼가스피너내에로딩되면, 외부로부터입력되는반도체웨이퍼정보에따라최적의공정조건을설정하여상기공정조건에따라상기스피너를제어한다. 스테퍼는포토레지스트막이코팅된반도체웨이퍼를소정의광을사용하여노광한다. 그리고제2 컨트롤러는, 포토레지스트막이코팅된반도체웨이퍼가스테퍼내로로딩되면, 외부로부터입력되는반도체웨이퍼정보에따라최적의공정조건을설정하여상기공정조건에따라스테퍼를제어한다.

9. 发明授权

KR100199037B1 사진처리장치 失效
公开(公告)号：KR100199037B1
公开(公告)日：1999-06-15
申请号：KR1019950056487
申请日：1995-12-26
申请人： 노리츠 고키 가부시키가이샤
发明人： 고지마마사유끼
IPC分类号： G03B27/00
CPC分类号： G03B27/32
摘要： 본 발명은 필름현상처리부, 필름인화를 행하는 프린터부, 인화지 현상처리부 등을 갖춘 사진 처리장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 프린터부에 스캐너를 부착하여 네가필름농도를 측정하여 노광자동조정을 행하는 구조를 갖추고 전술한 프린터부로부터 송출된 인화지를 수납하고 수납된 인화지를 인화지 현상처리부로 이동하고 수납된 인화지를 송출하는 기구를 갖춘 인화지 이동장치 등을 갖춘 것을 특징으로 하는 사진 처리장치로, 인화지 이동장치가 프린터부와 인화지 현상처리장치간의 이동을 담당하기 때문에 각 처리부에 복잡한 내부구조를 설치할 필요가 없어 처리장치의 소형화, 분할제조, 조립분해가 용이할 뿐 만 아니라 유지관리, 운반 및 설치가 간편하게 되는 등 사진처리의 전자동화가 가능한 장치이다.

10. 发明授权

KR100178288B1 사진처리장치 失效
标题翻译：摄影加工设备
公开(公告)号：KR100178288B1
公开(公告)日：1999-05-15
申请号：KR1019940022012
申请日：1994-09-01
申请人： 노리츠 고키 가부시키가이샤
发明人： 네고로히사시 , 나카노츠카사 , 미나카타요시유키
IPC分类号： G03B27/46
CPC分类号： G03B27/6285 , G03B27/32
摘要： 다른폭을 갖는 필름을 현상할 수 있는 사전처리장치가 개시되어 있다. 인화지상에 필름 영상을 인화하기 위한 노광 유닛은 필름의 이동을 안내하기 위해서 음의 마스크를 갖는다. 음의 마스크는 필름쪽과 대응하는 복수의 필름 가이드 통로에 제공된다. 전송 유닛은 필름의 이송방향과 수직한 방향으로 음의 마스크를 이동시키기 위해 제공된다. 음의 마스크를 향하는 필름이송통로를 따라서 센서가 검출된후 전송 유닛이 필름 크기와 대응하는 필름 가이드 통로중 노광축을 정렬하기 위해서 센서로부터의 신호에 의해서 제어되는 방식으로 행해진다.

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