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    • 3. 发明公开
    • 그루빙 웨이퍼들을 위한 방법 및 디바이스
    • 用于开槽晶片的方法和装置
    • KR1020170095148A
    • 2017-08-22
    • KR1020170018483
    • 2017-02-10
    • 에이에스엠 테크놀러지 싱가포르 피티이 엘티디
    • 판리스하우트,리카르드크니펠스,귀도
    • H01L21/304H01L21/78H01L21/762H01L21/66
    • H01L21/681B23K26/032B23K26/04B23K26/364B23K26/402B23K2203/56H01L21/67092H01L21/67253
    • 반도체웨이퍼표면에가늘고긴 오목부(recess)(103)를형성하기위한웨이퍼그루빙(wafer grooving) 장치(100)가개시되고, 상기장치는: 반도체웨이퍼를수용하고보유하기위한웨이퍼테이블(110); 방사선빔(121)을생성하기위한방사선디바이스(120); 방사선빔이오목부를형성하기위해웨이퍼표면상의웨이퍼재료를제거하는빔 스팟(spot)(142)을생성하도록방사선빔을웨이퍼의상위표면(102)으로지향시키기위한빔 지향디바이스(130); 방사선빔 이동방향으로의방사선빔과웨이퍼표면사이의상호이동을야기하기위한웨이퍼테이블이동드라이브(170); 방사선빔에의해형성된오목부의깊이프로파일(profile)을측정하기위해웨이퍼테이블이동드라이브에의해야기된방사선빔 이동방향으로빔 지향디바이스뒤에미리결정된거리로배열된오목부프로파일측정디바이스(180)를포함한다.
    • 示出了用于在半导体晶片的表面上形成细长凹槽103的晶片切槽设备100,该设备包括:用于接收和保持半导体晶片的晶片台110, 。 一种用于产生辐射束(121)的辐射装置(120); 一种用于将辐射束引导到晶片的上表面(102)以产生用于去除晶片表面上的晶片材料以形成凹陷的束斑(142)的束定向装置(130) 晶片台移动驱动器170,用于使辐射束和晶片表面在辐射束移动的方向上相互移动; 并与光束定向设备凹槽轮廓测量布置在由晶片移动驱动背后引起的预定距离装置180的辐射束的移动方向的凹部深度轮廓(轮廓)来测量由辐射束形成的, 。
    • 7. 发明公开
    • 반도체 기판을 방사상으로 그루빙하는 방법
    • 放射性半导体衬底的方法
    • KR1020160028433A
    • 2016-03-11
    • KR1020160023393
    • 2016-02-26
    • 에이에스엠 테크놀러지 싱가포르 피티이 엘티디
    • 반더스탬카렐메이켈리차드
    • H01L21/76H01L21/268H01L21/78
    • H01L21/78B23K26/0006B23K26/0087B23K26/0608B23K26/0676B23K26/364B23K26/40B23K2203/50B23K2203/56
    • 레이저스크라이빙장치를이용하여실질적으로평탄한반도체기판을방사상으로스크라이빙하는방법으로서, 이방법에의해기판의목표면 상에반도체디바이스들의대향하는행들사이에서연장되는스크라이브라인을따라비 침투성그루브가형성되고, 직교좌표시스템 XYZ은, - 상기목표면이 XY 면에있고, - 상기그루브가 X 방향으로폭을가지면서, Y 방향과평행하게연장되도록정의될수 있고, 상기방법에서, - 기판은상기목표면을레이저스크라이빙헤드에제공하도록이동가능기판홀더상에클램핑되고, - 헤드로부터의레이저방사가상기스크라이브라인의코스를따라병진운동하게하도록상기기판홀더및 상기스크라이빙헤드사이에상대적모션이실시되고, 상기 XY 평면에서뷰잉될때, 레이저스크라이빙헤드는레이저빔 스팟들의 2차원어레이를생성한다. 특정한실시예에서, 상기어레이에서의스팟들은 Y 및 X 방향모두와실질적으로평행하게연장된다. 이방법의가능한개선에서, - 어레이의적어도제 1 부분에서, X 방향과평행하게뷰잉될때, 상기어레이의선단들에서의레이저빔들은어레이의중심부분에서의레이저빔들보다더 낮은강도를가진다. 부가적인가능한개선에서, - 어레이의적어도제 2 부분에서, Y 방향과평행하게뷰잉될때, 상기어레이의선단에서의적어도하나의레이저빔은상기제 2 부분에서의레이저빔들의평균에너지강도보다더 낮은강도를가진다.
    • 本发明涉及一种通过使用激光划线装置实际上平坦的半导体衬底进行辐照划线的方法。 沿着在相对的半导体器件线之间延伸的划线在基板的目标区域上形成非穿透槽。 在网格系统XYZ中,目标区域位于XY平面上,并且可以将凹槽限定为具有X方向的宽度并且与Y方向平行地延伸。 在该方法中,将基板夹在可移动的基板保持器上以向激光划线头提供目标区域,并且在基板保持器和划线头之间执行相对运动,使得来自头部的激光辐射沿着 一个划线的路线。 当从XY平面观察激光束斑时,激光划刻头产生激光束斑点的二维阵列。 在具体实施例中,阵列中的斑点可以实际上与Y和X方向平行地延伸。 在可能的改进中,当在阵列的一个或多个第一部分中激光束斑点与X方向平行地观察时,阵列前端处的激光束具有比阵列中心上的激光束更低的强度。 在另外的可能的改进中,当在阵列的一个或多个第二部分中观察激光束点时,在阵列的前端处的至少一个激光束的强度比第二部分中的激光束的平均能量强度低。