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1. 发明授权

KR102478498B1 적층 장치 및 적층 방법 有权
公开(公告)号：KR102478498B1
公开(公告)日：2022-12-19
申请号：KR1020187033213
申请日：2017-06-13
IPC分类号： H01L21/683 , H01L21/687 , H01L21/673 , H01L21/68 , H01L21/67 , H01L21/02
摘要： 적층장치로서, 제1 기판과제2 기판을적층하는적층장치로서, 제1 기판을유지할유지부재를복수구비하며, 복수의유지부재는, 제2 기판에대한제1 기판의위치어긋남을, 미리설정된보정량으로보정하고, 복수의유지부재는, 보정량이서로다른유지부재를포함한다. 상기적층장치는, 복수의유지부재로부터선택되어제1 기판을유지할유지부재를, 상기유지부재가수용된위치로부터제1 기판을유지할위치까지반송하는반송부를더 구비해도괜찮다.

2. 发明授权

KR102477733B1 기판 지지 장치, 기판 반송 로봇 및 얼라이너 장치 有权
公开(公告)号：KR102477733B1
公开(公告)日：2022-12-14
申请号：KR1020190117139
申请日：2019-09-24
IPC分类号： H01L21/677 , H01L21/687 , H01L21/68 , H01L21/683
摘要： 기판의어긋남이나낙하방지를도모하면서기판에의데미지를저감하는것. 기판지지장치는블레이드와, 블레이드에고정되고, 기판을지지하는패드를구비한다. 패드는제 1 고정부와, 제 2 고정부와, 브릿지부를구비한다. 제 1 고정부는지지되는기판의외주부보다외측의위치에고정된다. 제 2 고정부는외주부보다내측의위치에고정된다. 브릿지부는제 1 고정부및 제 2 고정부를연결하여, 외주부를지지한다. 브릿지부는가요성부재로형성되고, 기판을지지하지않는상태로제 1 고정부로부터제 2 고정부를향해서상면이하향경사이다.

3. 发明授权

KR102477005B1 웨이퍼 위치 감지 시스템 有权
公开(公告)号：KR102477005B1
公开(公告)日：2022-12-14
申请号：KR1020210107770
申请日：2021-08-17
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/68
摘要： 본발명은, 에어락챔버의내부로반송되는웨이퍼가에어락챔버내부의웨이퍼안착부에정확히안착되는것을감지하기위한웨이퍼위치감지시스템에있어서, 각기상기에어락챔버의챔버커버내에마련되어, 상기웨이퍼안착부의외주에인접하게분산된적어도 2개의감지위치에서상기웨이퍼의이탈을감지하는적어도 2개의웨이퍼이탈감지센서와, 상기에어락챔버의상기챔버커버내에마련되어, 상기웨이퍼안착부내부에서상기웨이퍼의안착여부를검출하는웨이퍼안착감지센서와, 상기웨이퍼안착감지센서에서상기웨이퍼의감지신호가발생되고, 상기웨이퍼이탈감지센서중 어느하나에서웨이퍼이탈신호가감지되면, 상기에어락챔버내에서의상기웨이퍼가상기웨이퍼안착부를벗어난것으로판정하여, 상기웨이퍼이송동작을정지하고에어락챔버의도어를개방상태로유지하도록상기에어락챔버를제어하는시스템제어부를포함하는웨이퍼위치감지시스템을제공함으로써, 에어락챔버내의웨이퍼안착부에웨이퍼가정확히안착되는것을판정하여제어하기때문에, 웨이퍼의손상을방지할수 있는효과가있다.

4. 发明授权

KR102476085B1 개선된 기판 스토리지 및 프로세싱 有权
公开(公告)号：KR102476085B1
公开(公告)日：2022-12-09
申请号：KR1020220051453
申请日：2022-04-26
IPC分类号： H01L21/673 , H01L21/68 , H01L21/67
摘要： 상술되는시스템, 방법및 장치는일반적으로기판스토리지및 프로세싱에관련된디바이스에관한것이다. 일예의실시예는기판수송, 분류및 세정을위한하나또는둘 이상의예에사용되는현존하는디바이스들을개선하는기판스토리지및 프로세싱모듈의방법들, 장치및 시스템들에관한것이다. 일체형설계시스템은표준클램핑기술들의사용없이혁신적인지지시스템을사용함으로써그 내용물들에대한변형을감소시키는방법으로기판들을보관및 지지할수 있고, 이러한또는다른반복들로의그러한적층방법들은표면들의차핑(chafing)을최소화할수 있다. 따라서, 디바이스는보관된기판들을원래그대로의상태로보존하는능력을현저하게개선한다.

5. 发明授权

KR102475449B1 얼라인 키를 내장한 웨이퍼 및 이의 제조 방법 有权
公开(公告)号：KR102475449B1
公开(公告)日：2022-12-08
申请号：KR1020160071526
申请日：2016-06-09
IPC分类号： H01L21/68 , H01L21/027 , H01L23/544 , H01L21/302
摘要： 멤스구조물을형성하기위한얼라인키를내장한웨이퍼가개시된다. 웨이퍼는일 면에제1 얼라인키를구비하는제1 기판, 및제1 기판과마주하여배치된제2 기판을구비한다. 제1 기판은제1 얼라인키가형성된면이제2 기판을향하도록배치되며, 제2 기판은제1 기판을향하여배치된면에대해대향하는면에제2 얼라인키를구비한다. 이와같이, 웨이퍼는기판마다얼라인키를구비함으로써, 더블얼라인장치없이웨이퍼의양면에대한포토공정이가능하다.

6. 发明授权

KR102471809B1 티칭 방법 有权
公开(公告)号：KR102471809B1
公开(公告)日：2022-11-28
申请号：KR1020210013884
申请日：2021-02-01
IPC分类号： H01L21/68 , B25J9/16 , G05B19/42 , H01L21/67 , H01L21/677 , H01J37/32
摘要： [과제] 반송위치의정밀도를향상시킬수 있는티칭방법을제공한다. [해결수단] 티칭방법은, 반송기구의티칭방법으로서, a) 탑재하는공정과, b) 반송하는공정과, c) 검출하는공정과, d) 보정하는공정을갖는다. a) 탑재하는공정은, 반송기구의포크상에제 1 기판또는에지링을탑재하고, 제 1 기판또는에지링을목표위치까지반송하여, 제 1 기판또는에지링을목표위치에탑재한다. b) 반송하는공정은, 포크상에위치검출센서를갖는제 2 기판을탑재하고, 제 2 기판을목표위치의바로위 또는바로아래까지반송한다. c) 검출하는공정은, 제 2 기판의위치검출센서를이용하여, 제 1 기판또는에지링과, 목표위치의어긋남량을검출한다. d) 보정하는공정은, 검출한어긋남량에근거하여, 다음에반송하는제 1 기판또는에지링에있어서의반송기구의반송위치데이터를보정한다.

7. 发明授权

KR102463121B1 반도체용 웨이퍼의 보정-반송장치 및 이의 보정-반송방법 有权
公开(公告)号：KR102463121B1
公开(公告)日：2022-11-04
申请号：KR1020210129673
申请日：2021-09-30
IPC分类号： H01L21/68 , H01L21/67 , H01L21/677 , H01L21/687 , B25J11/00 , B25J13/08
摘要： 반도체용웨이퍼의보정-반송장치및 이의보정-반송방법에대한발명이개시된다. 개시된반도체용웨이퍼의보정-반송장치는: 가장자리를따라하나이상의프로세스챔버를구비하는트랜스퍼챔버, 트랜스퍼챔버내부에구비되고어느하나의프로세스챔버로진입하여웨이퍼를로딩후 다른하나의프로세스챔버로반송하기위해엔드이펙터를갖는반송로봇, 및트랜스퍼챔버내부에서엔드이펙터가웨이퍼를다른하나의프로세스챔버에반송하기전(前)에엔드이펙터에로딩된상태를유지한채 엔드이펙터에대한웨이퍼의검출된실제위치정보(M2)를기준위치정보(M1)와비교하는위치보정모듈을포함하는것을특징으로한다.

8. 发明授权

KR102462037B1 반도체 웨이퍼 검사용 x-레이 검사 장치들 有权
公开(公告)号：KR102462037B1
公开(公告)日：2022-11-02
申请号：KR1020167030655
申请日：2015-04-03
IPC分类号： H01L21/67 , G01N23/04 , H01L21/66 , H01L21/68 , H01L21/683
摘要： x-레이검사시스템은: x-레이소스(100)를포함하는캐비닛(110), 검사될샘플을지지하는샘플지지대(200), 및 x-레이검출기(300)를포함하고; 송풍기(130)는캐비닛(100) 내의샘플지지대위의공기주입구(132)를통해캐비닛에공기를주입하도록구성되고; 송풍기(130) 및캐비닛(110)은공기주입구(132)에서부터샘플지지대(200)를지나캐비닛(110) 내의샘플지지대(200) 아래의공기배출구(150)까지캐비닛(110)을통과하게공기를주입하도록구성된다. 상기캐미닛(110)은 x-레이차폐물을제공하도록구성될수 있다. 이러한유형의 x-레이시스템은반도체웨이퍼들(20)과같음아이템들을검사하기위한청정실환경에서사용될수 있다.

9. 发明授权

KR102455415B1 기판 접합 장치 및 이를 이용한 기판의 접합 방법 有权
公开(公告)号：KR102455415B1
公开(公告)日：2022-10-17
申请号：KR1020170174597
申请日：2017-12-18
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/687 , H01L21/683 , H01L21/18 , H01L21/68

10. 发明授权

KR102438828B1 설계 기반의 정렬의 성능 모니터링 有权
公开(公告)号：KR102438828B1
公开(公告)日：2022-08-31
申请号：KR1020207036768
申请日：2019-05-21
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/68 , H01L21/66
摘要： 정렬프레임마다적어도하나의정렬검증위치를배치하는것에의해정렬이모니터링될수 있다. 정렬검증위치는정렬프레임내에서의좌표이다. 정렬검증위치의각각과정렬타겟의가장가까운인스턴스사이의거리가결정된다. 거리에기초하여정렬점수를결정될수 있다. 정렬점수는정렬검증위치와정렬타겟사이의정렬프레임의수를포함할수 있다. 정렬점수가임계치미만인경우, 그러면, 정렬셋업이수행될수 있다.

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