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11. 发明授权

KR100850447B1 2챔버를 갖는 가스 방전 레이저 시스템을 위한 타이밍 제어방법 有权
标题翻译：两台气体放电激光系统的时序控制
公开(公告)号：KR100850447B1
公开(公告)日：2008-08-07
申请号：KR1020067003552
申请日：2002-10-23
申请人： 사이머 엘엘씨
发明人： 어쇼프알렉산더아이. , 네스리차드엠.
IPC分类号： H01S3/22
CPC分类号： H01S3/0385 , G03F7/70025 , G03F7/70041 , G03F7/70575 , H01S3/0057 , H01S3/03 , H01S3/036 , H01S3/038 , H01S3/041 , H01S3/08004 , H01S3/08009 , H01S3/0943 , H01S3/097 , H01S3/09702 , H01S3/09705 , H01S3/0971 , H01S3/0975 , H01S3/134 , H01S3/139 , H01S3/22 , H01S3/2207 , H01S3/223 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256 , H01S3/2258 , H01S3/2308 , H01S3/2333 , H01S3/2366
摘要： 주입 시딩된 모듈러 가스 방전 레이저(11)를 위한 피드백 타이밍 제어 장비 및 그 방법이 개시되었다. 바람직한 실시예는 20 내지 40 와트이상의 집적 출력을 위해 약 4,000Hz이상의 펄스율과 약 5 내지 10 mJ이상의 펄스에너지로 고품질의 펄스된 레이저빔을 산출할 수 있는 시스템이다. 피드백 타이밍 제어는 어떠한 큰레이저 에너지도 시스템으로부터 출력되지 않도록 방전시간이 정해질 수 있도록 시간이 정해진다. 이러한 기술로 두 개의 챔버의 각각에 대한 타이밍 파라미터가 버스트의 제1 레이저 출력 펄스 이전에 모니터링될 수 있도록, 버스트의 제1 방전이 어떠한 출력 방전이 아닌 버스트 모드 동작이 될 수 있게 한다. 두 개의 방전챔버 가 제공되고, 하나는 제2 방전 챔버에서 증폭되는, 초협대역 시드 빔을 산출하는 마스터 오실레이터의 일부분이다. 챔버는 챔버 증폭에서 펄스 에너지 파라미터의 최적화 및 마스터 오실레이터에서 파장 파라미터의 개별 최적화를 개별적으로 허용하도록 제어된다.
펄스율, 광원, 파장, 가스 방전 레이저, 펄스, 미러, 방전 챔버, 전극

12. 发明授权

KR100561957B1 가스 첨가제를 갖는 협대역 엑시머 레이저 有权
标题翻译： NARROW BAND EXCIMER激光加气
公开(公告)号：KR100561957B1
公开(公告)日：2006-03-21
申请号：KR1020007003849
申请日：1998-09-25
申请人： 사이머 엘엘씨
发明人： 호프만토마스 , 이시하라도시히코 , 다스팔라시피. , 에르소브알렉산더아이.
IPC分类号： H01S3/225
CPC分类号： G03F7/70025 , G03F7/70041 , G03F7/70558 , G03F7/70575 , H01S3/02 , H01S3/03 , H01S3/036 , H01S3/08009 , H01S3/0971 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256
摘要： 본 발명은 향상된 에너지량 제어 및 재생력을 가지며, 약 500 내지 2000Hz의 범위에 있는 속도로 펄스를 만들 수 있는 초협대역 펄스 엑시머 레이저를 제공한다. 산소 및 무거운 노블 가스(KrF 레이저를 위한 크세논 또는 라돈, 또는 ArF 레이저를 위한 크립톤, 크세논, 또는 라돈)로 이루어진 미소량의 안정화된 첨가제가 가스 혼합물에 첨가된다. 수행된 테스트는 약 30ppm의 크세논을 KrF 레이저에 첨가함으로써 에너지 안정도에서 본질적인 향상을 보여준다. 테스트는 약 6-10ppm의 Xe 또는 40ppm의 Kr을 첨가함으로써 ArF 레이저의 향상된 성능을 보여준다. 바람직한 실시예에서, 초협대역폭은 플루오르 부분압력을 0.10%로 줄이고, 출력커플러의 반사율을 25%보다 크게 증가시킴으로써 KrF 레이저상에서 이루어진다. 바람직한 실시예에서, 종래기술의 라인 협소화 모듈에서 사용된 종래기술의 용융된 실리카 빔 확산 프리즘은 플루오르화 칼슘 프리즘으로 대체된다.
프리즘, 레이저, 크세논, 노블 가스, 플루오르, 초협대역, 파장, 에너지, 라인 협소화 모듈, 전원장치, 반사율

13. 发明授权

KR101179945B1 불소가스 방전 레이저용 캐소드 有权
标题翻译：氟气排放激光灯
公开(公告)号：KR101179945B1
公开(公告)日：2012-09-07
申请号：KR1020067001840
申请日：2004-07-21
申请人： 사이머 엘엘씨
发明人： 스타이거토마스디. , 브라운조슈아씨. , 두페이토마스피. , 질레스피에월터디. , 모톤리차드지. , 다이어티모씨에스.
IPC分类号： H01S3/22
CPC分类号： H01S3/038 , H01S3/036 , H01S3/0381 , H01S3/0382 , H01S3/0385 , H01S3/0388 , H01S3/097 , H01S3/09702 , H01S3/0971 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256 , H01S3/2258
摘要： 구리 합금을 포함하는 하부 및 구리를 포함하는 캐소드용 방전 풋프린트를 포함하는 상부 곡면 영역을 갖는 구리 및 구리 합금 캐소드 바디를 포함할 수 있는, 불소를 함유하는 레이저 가스를 갖는 가스 방전 레이저용 불소 가스 방전 레이저 전극이 개시되어 있다. 상기 가스 방전 레이저 전극의 대면부는 아치형부의 어느 한측상의 직선부로 뻗는 아치형상으로 형성되고, 상기 직선부는 수직 스트레이트 사이드에서 종료하고, 상기 구리 및 구리 합금 사이의 바운더리는 적어도 아치형부를 포함한다. 상기 가스 방전 전극은, 기계가공전에 함께 접합(bonding)되는 구리로 된 제1 재료 및 구리 합금으로 된 제2 재료의 2개의 피스로부터 기계가공된 접합 엘리먼트를 포함할 수 있다. 상기 가스 방전 전극은 또한 제1 및 제2 신장된 기울어진 V형상의 그루브 사이에 방전 수용 리지를 형성하는 실질상 모든 신장된 전극 바디를 따라 형성된 제1 및 제2 신장된 기울어진 V형상의 그루브;를 포함하고, 상기 제1 및 제2 신장된 기울어진 V형상의 그루브를 부식 속도가 상이한 재료로 채울 수 있다. 또한, 하나의 전극, 예를 들어, 캐소드가 동작 동안 구부러지고, 불소 가스 방전 레이저의 동작 동안 가스 방전 전극중 적어도 하나의 구부러짐을 보상하는 가스 방전 영역을 수용하기 위해 크라운을 형성하도록 기계가공되는 제1 및 제2 신장된 가스 방전 전극중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
캐소드, 구리 합금, 불소 가스 방전 레이저, 대면부, 아치형부, 크라운

14. 发明授权

KR101045527B1 불소가스 방전 레이저용 애노드 有权
标题翻译：氟化物放射性激光阳极
公开(公告)号：KR101045527B1
公开(公告)日：2011-06-30
申请号：KR1020067001802
申请日：2004-07-16
申请人： 사이머 엘엘씨
发明人： 다이어티모씨에스. , 모톤리차드 , 질레스피에월터디. , 스타이거토마스디.
IPC分类号： H01S3/22
CPC分类号： H01S3/038 , H01S3/036 , H01S3/0381 , H01S3/0382 , H01S3/0385 , H01S3/0388 , H01S3/097 , H01S3/09702 , H01S3/09713 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256
摘要： 전극의 방전 영역의 적어도 일부를 형성하는 제1 재료를 포함하는, 사이드월의 쌍과 엔드월의 쌍 사이의 센터라인축을 스트래들링하는 크라운을 포함하고, 상기 크라운은 횡단면에서 프리이오나이저 방향으로 회전되는 칸팅된 타원의 상부 절반부의 형상을 가져서, 상기 타원의 짧은 센터라인축에 대한 접선이 수평선과 임의의 각도를 갖도록 할 수 있는 불소가스 방전 레이저용 전극이 개시되어 있다. 또 다른 실시예는 탑부 및 각각 상기 탑부와 교차하는 제1 및 제2 사이드월부를 갖는 애노드 블레이드를 포함할 수 있고, 상기 애노드 블레이드는 탑부 단면이 곡선의 반경을 따라 제1 및 제2 사이드월부의 각각의 대략 직선인 부분을 교차하고 곡선인 형태로써 형성되고 상기 탑부는 상기 애노드의 비대칭 방전 사이드로부터 베벨링되어 있다. 또 다른 실시예는 적어도 방전 수용부가 얇은 유전층으로 코팅되고, 예를 들어, 애노다이징되는 전기 도전재료로 각각 구성된 애노드 및 업스트림 페어링을 포함할 수 있다. 또 다른 실시예는 대략 균일한 포어 사이즈 및 분포를 갖는 사전 형성된 리프로 커버된 적어도 일부의 방전 영역을 포함할 수 있다. 진공 침투 다공성 애노다이징된 재료의 리프를 형성하는 단계를 포함하는 리프 제조에 대한 방법이 개시되어 있다. 또 다른 개시된 방법은 적어도 방전 영역내의 전극의 표면상에 제1 애노다이제이션 레이어를 형성하는 단계; 상기 애노다이제이션 레이어를 제거하는 단계; 적어도 상기 방전 영역에서 전극의 표면상에 제2 애노다이제이션 레이어를 형성하는 단계;를 포함할 수 있고, 그다음, 상기 제2 애노다이제이 션 레이어의 포어를 와이드닝하는 단계, 상기 제2 애노다이제이션 레이어를 시닝하는 단계 및 상기 포어를 도전성 재료로 채우는 단계가 이어진다. 또 다른 방법은 신장된 가스 방전 영역의 적어도 방전 영역 상에 리프 템플레이트를 형성하는 단계; 상기 리프 템플레이트에 의해 지시되는 대로 절연성 재료의 다공성 레이어를 선택적으로 성장시키는 단계를 포함할 수 있고, 포지티브 템플레이트 또는 네가티브 템플레이트를 사용하는 단계를 더 포함할 수 있다.
애노드, 애노다이제이션, 리프, 템플레이, 부식율, 페어링, 사이드월

15. 发明授权

KR100992413B1 향상된 일루미네이션을 갖춘 가스 방전 자외선 파장계 有权
标题翻译：具有增强照明的气体放电超紫外波长
公开(公告)号：KR100992413B1
公开(公告)日：2010-11-08
申请号：KR1020047020306
申请日：2003-05-23
申请人： 사이머 엘엘씨
发明人： 샌드스트롬리차드엘. , 멜치올존티. , 라오라하세카르
IPC分类号： H01S3/03
CPC分类号： G01J3/26 , G01J1/4257 , G01J1/429 , G01J3/02 , G01J3/0205 , G01J3/0208 , G01J3/024 , G01J3/027 , G01J9/02 , G01J9/0246 , G03F7/70025 , G03F7/70575 , G03F7/70933 , H01S3/0057 , H01S3/0071 , H01S3/02 , H01S3/036 , H01S3/038 , H01S3/0385 , H01S3/0401 , H01S3/041 , H01S3/08009 , H01S3/08036 , H01S3/097 , H01S3/0971 , H01S3/0975 , H01S3/1024 , H01S3/104 , H01S3/105 , H01S3/1055 , H01S3/1305 , H01S3/134 , H01S3/139 , H01S3/22 , H01S3/2207 , H01S3/223 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256 , H01S3/2258 , H01S3/2333 , H01S3/2366
摘要： 본 발명은 5mJ 이상의 펄스 에너지에서 2000Hz인 것 보다 큰 펄스율로 펄스된 자외선 레이저 시스템에서 장기 수명 빔 퀄리티를 모니터링할 수 있는 자외선 레이저용 파장계(7A)를 제공한다. 바람직한 실시예에서 향상된 조명 구성은 통상적인 종래기술 구성에 비해 에탈론(184)의 펄스 조명 당 28인 인수만큼 감소시킨다. 본 바람직한 실시예에서 에탈론에 의해 산출된 간섭 패턴을 측정하도록 위치된 선형 광다이오드 어레이(180)를 일루미네이팅하기 위해 필요한 양만큼으로만 에탈론에 입사하는 광을 감소시키는 광학기구가 제공된다. 본 실시예에서 빔 스플리터(173)의 두 표면으로부터의 반사에 의해 산출된 두 개의 샘플 빔은 확산성 디퓨저(181D)에 의해 확산되고 확산성 디퓨저의 출력은 스펙트럼적으로 등가인 두 확산 빔을 두 개의 개별 디퓨저에 효과적으로 조합하는 두 개의 개별 이차 디퓨저(181G, 181R)상에 포커싱된다. 하나의 빔은 파장 및 대역폭 측정에 사용되고 다른 빔은 교정을 위해 사용된다. 바람직한 실시예에서 에탈론 챔버는 1.6 내지 2.4 퍼센트사이의 산소 농도를 갖는 질소를 함유한다.
빔, 펄스, 스펙트럼, 파장계, 디퓨저,

16. 发明授权

KR100907299B1 초협대역이고 2챔버를 갖는 고반복율 가스 방전 레이저시스템 有权
标题翻译：非常窄带，两个室，高倍率气体放电激光系统
公开(公告)号：KR100907299B1
公开(公告)日：2009-07-13
申请号：KR1020077019695
申请日：2002-08-28
申请人： 사이머 엘엘씨
发明人： 노울레스데이비드에스. , 브라운다니엘제이.,더블유. , 베사첼레허브에이. , 마이어스데이비드더블유. , 어쇼프알렉산더아이. , 파르틀로윌리암엔. , 샌드스트롬리차드엘. , 다스플래쉬피. , 앤더슨스튜어트엘. , 포멘코프이고르브이. , 우자즈도우스키리차드씨 , 온켈스에커하드디. , 네스리차드엠. , 스미스스코트티. , 헐버드윌리암지. , 오이클레스제프리
IPC分类号： H01S3/10
CPC分类号： G01J1/4257 , G03F7/70025 , G03F7/70041 , G03F7/70333 , G03F7/70483 , G03F7/70575 , G03F7/70933 , H01S3/005 , H01S3/0057 , H01S3/02 , H01S3/03 , H01S3/036 , H01S3/038 , H01S3/0385 , H01S3/0387 , H01S3/0404 , H01S3/041 , H01S3/08004 , H01S3/08009 , H01S3/08036 , H01S3/0943 , H01S3/097 , H01S3/09702 , H01S3/09705 , H01S3/0971 , H01S3/0975 , H01S3/104 , H01S3/105 , H01S3/1055 , H01S3/1305 , H01S3/134 , H01S3/137 , H01S3/139 , H01S3/22 , H01S3/2207 , H01S3/223 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256 , H01S3/2258 , H01S3/2333 , H01S3/2366
摘要： 약 4,000Hz이상의 펄스율과 약 5mJ이상의 펄스에너지로 고품질의 펄스된 레이저빔을 산출할 수 있는 주입 시딩된 모듈러 가스 방전 레이저 시스템이 개시되었다. 두 개의 개별 방전 챔버가 제공되고, 하나는 제2 방전 챔버에서 증폭되는, 초협대역 시드 빔을 산출하는 마스터 오실레이터의 일부분이다. 챔버는 챔버 증폭에서 펄스 에너지 파라미터의 최적화 및 마스터 오실레이터에서 파장 파라미터의 개별 최적화를 개별적으로 허용하도록 제어된다. MOPA로서 구성된 ArF 엑시머 레이저 시스템의 바람직한 실시예는 집적회로 리소그래피를 위한 광원으로서의 사용을 위해 설계된다. 바람직한 MOPA 실시예에서, 각각의 챔버는 펄스간에 약 0.25 밀리초 미만의 시간으로 충전 영역으로부터의 잔해를 클리어시킴으로써 4,000Hz이상의 펄스율로 동작하는 것을 허용하기 위해 충분한 가스 흐름을 제공하는 단일 탄젠셜 팬을 포함한다. 마스터 오실레이터에는 0.2pm미만의 정밀도로 4,000Hz이상의 반복율로 펄스 기준에서 중심라인 파장을 제어할 수 있는 초고속 튜닝 미러를 갖는 라인 협소화 패키지가 구비된다.
펄스율, 광원, 파장, 가스 방전 레이저, 펄스, 미러, 방전 챔버, 전극

17. 发明授权

KR100906112B1 6 - 10ＫＨｚ 이상의 가스 방전 레이저 시스템 有权
标题翻译：六至十赫兹或更大气体放电激光系统
公开(公告)号：KR100906112B1
公开(公告)日：2009-07-07
申请号：KR1020047003079
申请日：2002-08-16
申请人： 사이머 엘엘씨
发明人： 왓슨톰에이. , 우자즈도우스키리차드씨. , 이바스첸코알렉스피. , 샤논로버트에이. , 샌드스트롬리차드엘. , 웨브로버트카일 , 팔렌스차트프레데릭에이. , 호프만토마스 , 레티그커티스엘. , 네스리차드엘. , 멜체르폴씨. , 에르쇼브알렉산더아이.
IPC分类号： H01S3/22
CPC分类号： H01S3/0385 , G03F7/70025 , G03F7/70041 , G03F7/70333 , G03F7/70575 , G03F7/70933 , H01S3/0057 , H01S3/0071 , H01S3/02 , H01S3/036 , H01S3/038 , H01S3/0387 , H01S3/0404 , H01S3/041 , H01S3/08009 , H01S3/08036 , H01S3/097 , H01S3/09702 , H01S3/0971 , H01S3/0975 , H01S3/1024 , H01S3/104 , H01S3/105 , H01S3/1055 , H01S3/1305 , H01S3/134 , H01S3/137 , H01S3/139 , H01S3/22 , H01S3/2207 , H01S3/223 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256 , H01S3/2258 , H01S3/2333 , H01S3/2366
摘要： 본원발명은 초당 6,000-10,000 펄스 범위의 반복률에서 프로덕션 라인 커패시티내의 신뢰가능한 장기간 동작가능한 가스 방전 레이저 시스템을 제공한다. 바람직한 실시예는 포토리소그래피에 사용된 KrF, ArF, F
2 레이저로 구성되어 있다. 개선점에는 가스 플로를 증가시키기 위해 애노드(542) 바로 옆에 흡입 팬(555)이 포함된다. 팬(555)의 흡입구는 애노드(542)와 절연 스페이서(544B) 사이에 있다.
챔버, 레이저, 반복률, 피드백, 엑시머, 광원

18. 发明公开

KR1020070093464A 초협대역이고 2챔버를 갖는 고반복율 가스 방전 레이저시스템 有权
标题翻译：非常窄带，两个室，高倍率气体放电激光系统
公开(公告)号：KR1020070093464A
公开(公告)日：2007-09-18
申请号：KR1020077019695
申请日：2002-08-28
申请人： 사이머 엘엘씨
发明人： 노울레스데이비드에스. , 브라운다니엘제이.,더블유. , 베사첼레허브에이. , 마이어스데이비드더블유. , 어쇼프알렉산더아이. , 파르틀로윌리암엔. , 샌드스트롬리차드엘. , 다스플래쉬피. , 앤더슨스튜어트엘. , 포멘코프이고르브이. , 우자즈도우스키리차드씨 , 온켈스에커하드디. , 네스리차드엠. , 스미스스코트티. , 헐버드윌리암지. , 오이클레스제프리
IPC分类号： H01S3/10
CPC分类号： G01J1/4257 , G03F7/70025 , G03F7/70041 , G03F7/70333 , G03F7/70483 , G03F7/70575 , G03F7/70933 , H01S3/005 , H01S3/0057 , H01S3/02 , H01S3/03 , H01S3/036 , H01S3/038 , H01S3/0385 , H01S3/0387 , H01S3/0404 , H01S3/041 , H01S3/08004 , H01S3/08009 , H01S3/08036 , H01S3/0943 , H01S3/097 , H01S3/09702 , H01S3/09705 , H01S3/0971 , H01S3/0975 , H01S3/104 , H01S3/105 , H01S3/1055 , H01S3/1305 , H01S3/134 , H01S3/137 , H01S3/139 , H01S3/22 , H01S3/2207 , H01S3/223 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256 , H01S3/2258 , H01S3/2333 , H01S3/2366
摘要： An injection seeded modular gas discharge laser system (2) capable of producing high quality pulsed beams at pulse rates of about 4,000 Hz or greater and at pulse energies of about 5 mJ or greater. Two separate discharge chambers are provided, one of which is a part of a master oscillator (10) producing a very narrow band seed beam, which is amplified (12) in the second discharge chamber. The chambers can be controlled separately permitting separate optimization of wavelength parameters in the master oscillator and optimization of pulse energy parameters in the amplifying chamber. A preferred embodiment in the ArF excimer laser system configured as a MOPA and specifically designed for use as a light source for integrated circuit lithography. In the preferred MOPA embodiment, each chamber comprises a single tangential fan (10A) providing sufficient gas flow to permit operation at pulse rates of 4,000 Hz or greater by cleaning debris from the discharge region in less time that the approximately 0.25 milliseconds between pulses. The masters oscillation is equipped with a line narrowing package having a very fast tuning mirror capable of controlling centerline wavelength on a pulse-to-pulse basis at repetition rates of 4000 Hz or greater to a precision of less than 0.2 pm.
摘要翻译：一种注射接种的模块化气体放电激光系统（2），其能够以约4,000Hz或更大的脉冲速率和约5mJ或更大的脉冲能量产生高质量的脉冲光束。提供两个单独的放电室，其中之一是主振荡器（10）的一部分，其产生非常窄的带状晶体束，其在第二放电室中放大（12）。可以单独控制室，允许主振荡器中的波长参数的单独优化和放大室中的脉冲能量参数的优化。配置为MOPA并被专门用于集成电路光刻的光源的ArF准分子激光系统中的优选实施例。在优选的MOPA实施例中，每个腔室包括单个切向风扇（10A），该切向风扇（10A）提供足够的气流，以允许在脉冲之间的大约0.25毫秒的时间内清除来自放电区域的碎屑。主机振荡配备有具有非常快的调谐镜的线窄化包，能够以4000Hz或更大的重复频率在脉冲到脉冲的基础上控制中心线波长，精度低于0.2μm。

19. 发明授权

KR100561950B1 협대역 엑시머 레이저 有权
标题翻译： NARROW BAND EXCIMER激光
公开(公告)号：KR100561950B1
公开(公告)日：2006-03-21
申请号：KR1020007003845
申请日：1998-08-21
申请人： 사이머 엘엘씨
发明人： 이시하라도시히코 , 호프만토마스 , 다스팔라시피. , 에르소브알렉산더아이.
IPC分类号： H01S3/225
CPC分类号： G03F7/70025 , G03F7/70041 , G03F7/70558 , G03F7/70575 , H01S3/03 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256
摘要： 강화된 에너지량 제어 및 재생력을 갖고 약 500 내지 2000Hz의 범위에 있는 속도로 펄스를 만들 수 있는 초협대역 펄스 엑시머 레이저. 버스트의 펄스 개시 후, 1 가스 순환시간에 발생하는 종래기술의 버스트 모드 "슬러그 효과"는 미소량의 산소를 추가함으로써 제거될 수 있다. 바람직한 실시예에서, 초협대역폭은 플루오르 부분압력을 0.10% 미만으로 줄이며, 출력 커플러의 반사율을 25%보다 크게 증가시킴으로써 이루어진다. 바람직한 실시예에서, 종래기술의 라인 협소화 모듈에서 사용된 종래기술의 용화된 실리카는 플루오르화 칼슘 프리즘으로 대체된다.
프리즘, 초협대역 레이저, 엑시머 레이저, 플루오르, 산소, 라인 협소화 모 듈, 출력 커플러, 전극, 반사율

20. 发明公开

KR1020040020938A 만곡 격자 마운트를 구비한 라인 내로우잉 유닛 有权
标题翻译：在一个弯曲的网格安装线上，
公开(公告)号：KR1020040020938A
公开(公告)日：2004-03-09
申请号：KR1020037016873
申请日：2002-06-05
申请人： 사이머 엘엘씨
发明人： 타이터스클레이씨. , 헐버드윌리엄쥐. , 사이벌스키레이몬드에프. , 알고츠존엠. , 라이식마이클에스.
IPC分类号： G02B5/06
CPC分类号： H01S3/036 , G03F7/70025 , G03F7/70575 , H01S3/02 , H01S3/03 , H01S3/034 , H01S3/0401 , H01S3/08009 , H01S3/08059 , H01S3/0812 , H01S3/086 , H01S3/13 , H01S3/134 , H01S3/1392 , H01S3/225 , H01S3/2256
摘要： 고 에너지 레이저 빔을 산출하는 레이저를 라인 내로우잉하기 위한, 격자 기반 라인 내로우잉 디바이스가 개시된다. 격자와 하우징 구조 사이의 상이한 열 팽창에 의해 유발된 격자상의 응력을 사실상 제거하는 만곡 격자 마운트가 제공된다. 두껍고 극히 낮은 열 팽창의 유리 기판상의 매우 얇은 알루미늄으로 구성된 격자가 만곡 격자 마운트를 사용하여 알루미늄 하우징 구조에 부착되어 있다. 적어도 하나의 만곡 조인트가 기판의 열 팽창 및 수축을 허용하는 격자 마운트내에 제공된다. 특정 실시예에서, 마운트는 금속 플레이트를 포함하고 만곡 조인트는 금속 플레이트내에 기계가공된 4개의 레그(126)를 구비한 H-만곡 조인트(124)이다. 다른 실시예에서, 2개의 H-만곡 조인트가 제공된다. 다른 실시예에서, 만곡 조인트는 마운트의 일단부가 타단부에 대하여 슬립핑될 수 있도록 하는 도브테일 조인트이다.

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