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1. 发明公开

KR1020080021653A 라인 빔과 같이 성형된 레이저와 기판 상에 증착된 필름사이에 인터액션을 구현하기 위한 시스템 및 방법 有权
标题翻译：用于实现作为线束形成的激光与衬底上沉积的膜之间的相互作用的系统和方法
公开(公告)号：KR1020080021653A
公开(公告)日：2008-03-07
申请号：KR1020077028901
申请日：2006-05-25
申请人： 사이머 엘엘씨 , 칼 짜이스 인두스트리엘레 메스테크니크 게엠베하
发明人： 다스팔라시피. , 호프만토마스 , 샌드스트롬리차드엘. , 보우키오토 , 스텀프에른스트 , 매츠코비츠베르톨트 , 호엘미카엘 , 발터요르그 , 브레너쿠르트 , 그루프귄터
IPC分类号： G01B11/00
CPC分类号： B23K26/03 , B23K26/0006 , B23K26/0066 , B23K26/032 , B23K26/04 , B23K26/043 , B23K26/0622 , B23K26/0665 , B23K26/0738 , B23K26/083 , B23K37/0408 , B23K37/047 , B23K2201/18 , B23K2201/38 , B23K2203/56 , C30B13/22 , C30B29/06 , G01B21/00 , G03F7/70383 , G03F7/70583 , H01L27/1296
摘要： Systems and methods are disclosed for focusing a beam for an interaction with a film deposited on a substrate wherein the focused beam defines a short axis and a long axis. In one aspect, the system may include a detecting system to analyze light reflected from the film on an image plane to determine whether the beam is focused in the short axis at the film. In still another aspect, a system may be provided for positioning a film (having an imperfect, non-planar surface) for interaction with a shaped line beam. ® KIPO & WIPO 2008
摘要翻译：公开的系统和方法用于聚焦用于与沉积在基板上的膜相互作用的光束，其中聚焦光束限定短轴和长轴。在一个方面，系统可以包括检测系统，以分析在图像平面上从胶片反射的光，以确定光束是否在胶片的短轴中聚焦。在另一方面，可以提供一种用于定位用于与成形线束相互作用的胶片（具有不完美的非平面表面）的系统。 ®KIPO＆WIPO 2008

2. 发明授权

KR100531581B1 에너지 센서 피드백을 갖는 레이저가 조명되는 스테퍼또는 스캐너 失效
标题翻译：具有能量传感器反馈的激光照明步进或扫描仪
公开(公告)号：KR100531581B1
公开(公告)日：2005-11-28
申请号：KR1020007001297
申请日：1998-07-31
申请人： 사이머 엘엘씨
发明人： 샌드스트롬리차드엘. , 다스팔라시피. , 포멘코프이고르브이. , 베샤우셀레헤르베에이. , 오자르스키로버트지.
IPC分类号： H01S3/10
摘要： 마스크(36) 근처의 노광 시스템내에 위치된 제 1 광 강도 검출기(44) 및 레이저(12)의 출력부 근처에 위치된 제2 광 강도 검출기(46)를 구비한 스테퍼(20) 또는 스캐너와 같은 레이저가 조명되는 웨이퍼 노광 시스템. 피드백 제어 시스템은 상기 검출기중 적어도 하나에 의해 검출된 신호에 근거하여 레이저의 출력을 제어한다. 피드백 제어 시스템은 버스트 모드에서 동작하는 레이저에 마스크에서의 요구되는 강도를 가진 광 펄스를 제공하기 위해 레이저 방전 전압을 제어하기 위해 사용되는 알고리즘으로 프로그래밍된 프로세서를 포함한다. 상기 알고리즘은 적어도 다음의 파라미터를 사용한다; 이전에 측정된 펄스 에너지, 계산된 에너지 에러, 계산된 선량 에러, 전압을 갖는 펄스 에너지의 변화율에 대한 값, 및 적어도 하나의 기준 전압. 바람직한 실시예에서, 알고리즘은 레이저의 출력이 소정 범위내에서 유지되도록 하기 위해 레이저의 출력부에서 피드백 제어를 제공하여 광 강도 검출기를 사용하도록 마스크 근처에 위치된 광 강도 검출기로 측정된 펄스 에너지를 사용한다.

3. 发明公开

KR1020010031030A 협대역 엑시머 레이저 有权
标题翻译：窄带准分子激光
公开(公告)号：KR1020010031030A
公开(公告)日：2001-04-16
申请号：KR1020007003845
申请日：1998-08-21
申请人： 사이머 엘엘씨
发明人： 이시하라도시히코 , 호프만토마스 , 다스팔라시피. , 에르소브알렉산더아이.
IPC分类号： H01S3/225
CPC分类号： G03F7/70025 , G03F7/70041 , G03F7/70558 , G03F7/70575 , H01S3/03 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256
摘要： 강화된에너지량제어및 재생력을갖고약 500 내지 2000Hz의범위에있는속도로펄스를만들수 있는초협대역펄스엑시머레이저. 버스트의펄스개시후, 1 가스순환시간에발생하는종래기술의버스트모드 "슬러그효과"는미소량의산소를추가함으로써제거될수 있다. 바람직한실시예에서, 초협대역폭은플루오르부분압력을 0.10% 미만으로줄이며, 출력커플러의반사율을 25%보다크게증가시킴으로써이루어진다. 바람직한실시예에서, 종래기술의라인협소화모듈에서사용된종래기술의용화된실리카는플루오르화칼슘프리즘으로대체된다.

4. 发明公开

KR1020010030108A 자동으로 빔특성을 제어하는 스마트 레이저 无效
标题翻译：具有自动光束质量控制的智能激光
公开(公告)号：KR1020010030108A
公开(公告)日：2001-04-16
申请号：KR1020000048302
申请日：2000-08-21
申请人： 사이머 엘엘씨
发明人： 에리프레더릭지. , 벅제세디. , 다스팔라시피.
IPC分类号： H01S3/225
CPC分类号： G03F7/70025 , G03F7/70575 , H01S3/02 , H01S3/03 , H01S3/08059 , H01S3/0812 , H01S3/086 , H01S3/13 , H01S3/134 , H01S3/1392 , H01S3/225 , H01S3/2256
摘要： PURPOSE: A smart laser with automated beam quality control is provided, which has a computer automatically controlling wavelength and bandwidth by using a feed back signal from a wavemeter. CONSTITUTION: A smart laser having automatic computer control of pulse energy, wavelength and bandwidth using feedback signals from a wavemeter. Pulse energy is controlled by controlling discharge voltage, wavelength by controlling the position of an RMAX mirror in a line narrowing module and bandwidth is controller by adjusting the curvature of a grating in the line narrowing module. Preferred embodiments include automatic feedback control of horizontal and vertical beam profile by automatic adjustment of a prism plate on which beam expander prisms are located and automatic adjustment of the RMAX tilt.
摘要翻译：目的：提供具有自动光束质量控制的智能激光器，其具有通过使用波形计的反馈信号自动控制波长和带宽的计算机。规定：智能激光器可以使用波形计的反馈信号自动计算机脉冲能量，波长和带宽。脉冲能量通过控制放电电压，波长控制，通过控制线窄线模块中的RMAX反射镜的位置，并通过调整线窄化模块中的光栅的曲率来控制带宽。优选实施例包括通过自动调节光束扩展器棱镜所在的棱镜板和自动调整RMAX倾斜来自动反馈水平和垂直光束轮廓。

5. 发明授权

KR101267425B1 라인 빔과 같이 성형된 레이저와 기판 상에 증착된 필름사이에 인터액션을 구현하기 위한 시스템 및 방법 有权
标题翻译：用于实现作为线束形成的激光与衬底上沉积的膜之间的相互作用的系统和方法
公开(公告)号：KR101267425B1
公开(公告)日：2013-05-30
申请号：KR1020077028901
申请日：2006-05-25
申请人： 사이머 엘엘씨 , 칼 짜이스 인두스트리엘레 메스테크니크 게엠베하
发明人： 다스팔라시피. , 호프만토마스 , 샌드스트롬리차드엘. , 보우키오토 , 스텀프에른스트 , 매츠코비츠베르톨트 , 호엘미카엘 , 발터요르그 , 브레너쿠르트 , 그루프귄터
IPC分类号： G01B11/00
CPC分类号： B23K26/03 , B23K26/0006 , B23K26/0066 , B23K26/032 , B23K26/04 , B23K26/043 , B23K26/0622 , B23K26/0665 , B23K26/0738 , B23K26/083 , B23K37/0408 , B23K37/047 , B23K2201/18 , B23K2201/38 , B23K2203/56 , C30B13/22 , C30B29/06 , G01B21/00 , G03F7/70383 , G03F7/70583 , H01L27/1296
摘要： 포커싱된빔이단축및 장축을형성하고있는기판상에증착된필름과익터액션하기위해빔을포커싱하는시스템및 방법이개시된다. 한형태에서, 본시스템은빔이필름에서단축에포커싱되었는지판정하기위해이미지평면상의필름으로부터반사된빛을분석하기위한검출시스템을포함할수 있다. 또다른형태에서, 성형라인빔과인터액션하기위해 (불완전하고, 평평하지않은표면을가진) 필름을포지셔닝하기위한시스템이제공된다.

6. 发明授权

KR100909018B1 레이저 리소그래피 빔송출 광원 有权
公开(公告)号：KR100909018B1
公开(公告)日：2009-07-22
申请号：KR1020047003063
申请日：2002-08-19
申请人： 사이머 엘엘씨
发明人： 클레네브라이언씨. , 다스팔라시피. , 그로베스티븐엘. , 에르쇼브알렉산더아이. , 스미스스코트티. , 팬시아오지앙제이. , 샌드스트롬리차드엘.
IPC分类号： H01S3/03
CPC分类号： G03F7/70933 , G03F7/70025 , G03F7/70041 , G03F7/70575 , H01S3/0057 , H01S3/0071 , H01S3/02 , H01S3/03 , H01S3/036 , H01S3/038 , H01S3/0385 , H01S3/0404 , H01S3/041 , H01S3/08004 , H01S3/08009 , H01S3/0943 , H01S3/097 , H01S3/09705 , H01S3/0971 , H01S3/0975 , H01S3/104 , H01S3/105 , H01S3/11 , H01S3/1305 , H01S3/134 , H01S3/139 , H01S3/22 , H01S3/2207 , H01S3/223 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256 , H01S3/2258 , H01S3/2333 , H01S3/2366
摘要： 본원발명은 생산 라인 머신용 모듈러 고반복률 자외선 가스 방전 레이저(4) 광원을 제공한다. 본원 시스템은 생산 라인 머신의 입구 포트 등의 소망 위치에 레이저 빔을 송출하기 위해 인클로징 및 퍼징된 빔 경로를 포함한다. 바람직한 실시예에 있어서, 생산 라인 머신은 리소그래피 머신(2)이고, 2개의 별개의 방전 챔버가 제공되는데, 그 중 하나는 제2 방전 챔버에서 증폭되는 초협대역 센드 빔을 발생시키는 마스터 발진기의 일부이다. MOPA 시스템은 비교가능한 단일 챔버 레이저 시스템의 거의 2배의 펄스 에너지를 상당히 향상된 빔 품질로 출력할 수 있다. 펄스 스트레처는 출력 펄스 길이를 2배 이상으로 하여 종래기술 레이저 시스템에 비해 펄스 전력(mJ/ns)이 감소된다. 이러한 바람직한 실시예는 실질적으로 광학 컴포넌트의 저하에도 불구하고 리소그래피 시스템의 동작수명 내내 가능하다.
레이저, 방전, 송출, 협대역, 열교환기, 퍼지, 스트레처, 챔버

7. 发明授权

KR100561957B1 가스 첨가제를 갖는 협대역 엑시머 레이저 有权
标题翻译： NARROW BAND EXCIMER激光加气
公开(公告)号：KR100561957B1
公开(公告)日：2006-03-21
申请号：KR1020007003849
申请日：1998-09-25
申请人： 사이머 엘엘씨
发明人： 호프만토마스 , 이시하라도시히코 , 다스팔라시피. , 에르소브알렉산더아이.
IPC分类号： H01S3/225
CPC分类号： G03F7/70025 , G03F7/70041 , G03F7/70558 , G03F7/70575 , H01S3/02 , H01S3/03 , H01S3/036 , H01S3/08009 , H01S3/0971 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256
摘要： 본 발명은 향상된 에너지량 제어 및 재생력을 가지며, 약 500 내지 2000Hz의 범위에 있는 속도로 펄스를 만들 수 있는 초협대역 펄스 엑시머 레이저를 제공한다. 산소 및 무거운 노블 가스(KrF 레이저를 위한 크세논 또는 라돈, 또는 ArF 레이저를 위한 크립톤, 크세논, 또는 라돈)로 이루어진 미소량의 안정화된 첨가제가 가스 혼합물에 첨가된다. 수행된 테스트는 약 30ppm의 크세논을 KrF 레이저에 첨가함으로써 에너지 안정도에서 본질적인 향상을 보여준다. 테스트는 약 6-10ppm의 Xe 또는 40ppm의 Kr을 첨가함으로써 ArF 레이저의 향상된 성능을 보여준다. 바람직한 실시예에서, 초협대역폭은 플루오르 부분압력을 0.10%로 줄이고, 출력커플러의 반사율을 25%보다 크게 증가시킴으로써 KrF 레이저상에서 이루어진다. 바람직한 실시예에서, 종래기술의 라인 협소화 모듈에서 사용된 종래기술의 용융된 실리카 빔 확산 프리즘은 플루오르화 칼슘 프리즘으로 대체된다.
프리즘, 레이저, 크세논, 노블 가스, 플루오르, 초협대역, 파장, 에너지, 라인 협소화 모듈, 전원장치, 반사율

8. 发明授权

KR100504073B1 엑시머 레이저용 펄스 에너지 제어 有权
标题翻译：激光激光的脉冲能量控制
公开(公告)号：KR100504073B1
公开(公告)日：2005-07-27
申请号：KR1020007003843
申请日：1998-09-01
申请人： 사이머 엘엘씨
发明人： 샌드스트롬리차드엘. , 베샤우셀레헤르베에이. , 포멘코프이고르브이. , 다스팔라시피.
IPC分类号： H01S3/225
摘要： 엑시머 레이저에 의해 발생된 펄스의 버스트에서 펄스 에너지를 제어하는 프로세스. 각 버스트에 있는 각 펄스의 에너지가 측정된다. 펄스 에너지와 충전전압의 변화율이 결정된다. 펄스 에너지 에러는 현재 버스트의 이전 펄스에 대하여 결정된다. 집적된 선량 에러는 또한 현재 버스트에 있는 모든 이전 펄스에 대하여 결정된다. 다음 펄스에 대한 충전전압은 펄스 에너지 에러, 집적된 선량 에러, 충전전압과 기준전압과의 에너지의 변화율을 사용하여 결정된다. 바람직한 실시예에서, 전압과 에너지의 변화율은 한번은 낮고 한번은 높은 각 버스트의 두개의 펄스동안 전압을 디더링함으로써 결정된다. 기준전압은 이전 전압과 에너지 데이터를 사용하여 계산된 전압이다. 이 실시예에서 펄스의 제 1 부분동안 기준 전압을 결정하는 방법은 버스트의 나중 부분동안 사용된 방법과는 다르다. 각 펄스에 대하여 펄스의 제 1 세트(이 실시예에서는 40)동안 이전 버스트에 있는 대응 펄스로부터 에너지 데이터와 전압을 사용하여 계산된 특정 전압은 목표 펄스 에너지를 수렴하는 펄스 에너지를 발생시키기 위해 필요한 예견 전압으로 사용된다. 펄스(41)동안 및 그후 각 펄스에 대한 기준전압은 이전 펄스에 대한 특정전압이다.

9. 发明公开

KR1020010022701A 에너지 센서 피드백을 갖는 레이저가 조명되는 스테퍼또는 스캐너 失效
标题翻译：带有能量传感器反馈的激光照射的步进器或扫描仪
公开(公告)号：KR1020010022701A
公开(公告)日：2001-03-26
申请号：KR1020007001297
申请日：1998-07-31
申请人： 사이머 엘엘씨
发明人： 샌드스트롬리차드엘. , 다스팔라시피. , 포멘코프이고르브이. , 베샤우셀레헤르베에이. , 오자르스키로버트지.
IPC分类号： H01S3/10
摘要： 마스크(36) 근처의 노출 시스템내에 위치된 제 1 광 강도 검출기(44) 및 레이저(12)의 출력부 근처에 위치된 제2 광 강도 검출기(46)를 구비한 스테퍼(20) 또는 스캐너와 같은 레이저가 조명되는 웨이퍼 노출 시스템. 피드백 제어 시스템은 상기 검출기중 적어도 하나에 의해 검출된 신호에 근거하여 레이저의 출력을 제어한다. 피드백 제어 시스템은 버스트 모드에서 동작하는 레이저에 마스크에서의 요구되는 강도를 가진 광 펄스를 제공하기 위해 레이저 방전 전압을 제어하기 위해 사용되는 알고리즘으로 프로그래밍된 프로세서를 포함한다. 상기 알고리즘은 적어도 다음의 파라미터를 사용한다; 이전에 측정된 펄스 에너지, 계산된 에너지 에러, 계산된 선량 에러, 전압을 갖는 펄스 에너지의 변화율에 대한 값, 및 적어도 하나의 기준 전압. 바람직한 실시예에서, 알고리즘은 레이저의 출력이 소정 범위내에서 유지되도록 하기 위해 레이저의 출력부에서 피드백 제어를 제공하여 광 강도 검출기를 사용하도록 마스크 근처에 위치된 광 강도 검출기로 측정된 펄스 에너지를 사용한다.

10. 发明授权

KR101352452B1 라인 빔과 같이 성형된 레이저와 기판 상에 증착된 필름사이에 인터액션을 구현하기 위한 시스템 및 방법 有权
标题翻译：用于实现作为线束形成的激光与衬底上沉积的膜之间的相互作用的系统和方法
公开(公告)号：KR101352452B1
公开(公告)日：2014-01-17
申请号：KR1020077029057
申请日：2006-05-25
申请人： 사이머 엘엘씨
发明人： 다스팔라시피. , 호프만토마스 , 데이비스제시디. , 스미스스캇티. , 파슬로윌리엄엔.
IPC分类号： H01S3/10 , H01S3/13
摘要： 기판상에 증착된 비결정질 실리콘과 같은 필름을 선택적으로 용해시키기 위한 레이저 결정화 장치 및 방법이 개시된다. 본 장치는 필름을 용해시키는데 사용하기 위한 스트레처된 레이저 펄스를 산출하기 위한 광학 시스템을 포함할 수 있다. 본 발명의 실시예의 다른 형태에서, 레이저 펄스를 스트레칭하기 위한 시스템 및 방법이 제공된다. 또 다른 형태에서, 빔 경로를 따른 위치에 (스트레칭된, 또는 스트레칭되지 않은) 펄스 레이저 빔의 퍼짐을 소정의 범위 내로 유지하기 위한 시스템이 제공된다. 또 다른 형태에서, 필름과 성형 라인 빔의 인터액션 동안 필름에서의 에너지 밀도를 소정의 범위 내로 유지하기 위한 시스템이 제공된다.
성형 광학부재, 광원, 성형된 라인빔, 필름, 에너지 밀도, 포커싱 렌즈, 자동초점 센서, 광원 파라미터, 컨트롤러.

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