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1. 发明公开

KR1020170085078A 광원에서의 교란의 보상 방법 审中-实审
标题翻译：如何补偿光源中的干扰
公开(公告)号：KR1020170085078A
公开(公告)日：2017-07-21
申请号：KR1020177015984
申请日：2015-12-03
申请人： 사이머 엘엘씨
发明人： 아라왓라훌
IPC分类号： H01S3/139 , H01S3/225 , H01S3/097 , H01S3/104 , H01S3/134 , H01S3/036 , H01S3/0971 , H01S3/10 , H01S3/1055
CPC分类号： H01S3/104 , H01S3/036 , H01S3/09705 , H01S3/0971 , H01S3/10069 , H01S3/1055 , H01S3/134 , H01S3/137 , H01S3/139 , H01S3/22 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256 , H01S3/2308 , H01S2301/02
摘要： 광원으로부터방출된펄스형광 빔이수신된다 - 펄스형광 빔은시간반복률과연관됨; 상기광원에서의교란의주파수가결정된다 - 상기주파수는상기펄스형광 빔의시간반복률에따라변하는에일리어싱된주파수(aliased frequency)임 -; 상기에일리어싱된주파수에기초하여정정파형(correction waveform)이생성된다; 그리고생성된정정파형에기초하여상기펄스형광 빔의특성을변경함으로써상기광원에서의교란이보상된다.
摘要翻译：接收从光源发射的脉冲荧光光束 - 脉冲荧光光束与时间重复率相关联; 确定光源干扰的频率，该频率是随脉冲荧光光束的时间重复率而变化的混叠频率; 基于混叠频率生成校正波形; 并且通过基于生成的校正波形改变脉冲荧光光束的特性来补偿光源中的干扰。

2. 发明公开

KR1020170020315A 레이저 시스템 审中-实审
标题翻译：激光系统
公开(公告)号：KR1020170020315A
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：KR1020167031492
申请日：2014-06-20
申请人： 기가포톤 가부시키가이샤
发明人： 가끼자끼고우지 , 아라까와마사끼 , 아시까와고우지 , 감바야스히로 , 스즈끼아끼요시 , 와까바야시오사무
IPC分类号： H01S3/23 , H01S3/00
CPC分类号： H01S3/005 , G02B27/0955 , G02B27/123 , H01S3/0071 , H01S3/081 , H01S3/105 , H01S3/1305 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2253 , H01S3/2255 , H01S3/2256 , H01S3/2366 , H01S3/23
摘要： 이레이저시스템은, 제1 및제2 레이저장치와, 빔딜리버리장치를구비하는레이저시스템으로서, 제1 레이저장치는, 상기빔 딜리버리장치를향하여, 제1 방향으로제1 레이저광을출력하도록배치되고, 제2 레이저장치는, 상기빔 딜리버리장치를향하여, 상기제1 방향과대략평행하게제2 레이저광을출력하도록배치되고, 빔딜리버리장치는, 상기제1 및제2 레이저광을, 상기제1 방향과상이한빔 딜리버리방향으로집속하여, 상기빔 딜리버리장치로부터출사하도록구성되어도된다.
摘要翻译：该激光系统设置有第一和第二激光装置以及束输送装置。激光系统可以被配置为使得：第一激光装置被设置成沿第一方向朝向光束输送装置输出第一激光; 所述第二激光装置被配置为向所述光束传送装置输出与所述第一方向大致平行的第二激光; 并且所述光束传送装置在与所述第一方向不同的所述光束传送方向上收集所述第一和第二激光，并输出来自所述光束传送装置的激光。

3. 发明授权

KR100630703B1 레이저빔의 파장 제어 시스템 및 그 제어방법 有权
标题翻译：控制激光束波长的系统及其控制方法
公开(公告)号：KR100630703B1
公开(公告)日：2006-10-02
申请号：KR1020040082560
申请日：2004-10-15
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 박영호 , 곽시영 , 원유근
IPC分类号： H01L21/66
CPC分类号： H01S3/1303 , H01S3/1305 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256
摘要： 웨이퍼에 직접 조사되는 레이저빔의 특정파장을 검출하여 레이저빔의 파장을 제어하는 시스템 및 그 제어방법에 대해 개시한다. 그 시스템 및 방법은 집속광학장치의 하부에 위치하여 스테이지를 향하는 레이저빔의 특정파장을 흡수하는 금속체를 구비하는 특정파장검출센서 및 레이저빔의 파장을 선택적으로 변하도록 동작하는 파장조절장치를 포함하여, 검출된 레이저빔이 최대흡수파장이 되기 위하여 파장조절장치를 제어한다.
레이저빔, 집속광학장치, 특정파장, 최대흡수파장

4. 发明公开

KR1020060054359A 불소가스 방전 레이저용 캐소드 有权
标题翻译：氟气排放激光灯
公开(公告)号：KR1020060054359A
公开(公告)日：2006-05-22
申请号：KR1020067001840
申请日：2004-07-21
申请人： 사이머 엘엘씨
发明人： 스타이거토마스디. , 브라운조슈아씨. , 두페이토마스피. , 질레스피에월터디. , 모톤리차드지. , 다이어티모씨에스.
IPC分类号： H01S3/22
CPC分类号： H01S3/038 , H01S3/036 , H01S3/0381 , H01S3/0382 , H01S3/0385 , H01S3/0388 , H01S3/097 , H01S3/09702 , H01S3/0971 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256 , H01S3/2258
摘要： A fluorine gas discharge laser electrode for a gas discharge laser having a laser gas containing fluorine is disclosed which may comprise a copper and copper alloy cathode body having an upper curved region containing the discharge footprint for the cathode comprising copper and a lower portion comprising a copper alloy, with the facing portion of the electrode if formed in a arcuate shape extending into straight line portions on either side of the arcuate portion, the straight line portions terminating in vertical straight sides, with the boundary between the copper including at least the arcuate portion, the electrode may comprise a bonded element machined from two pieces of material the first made of copper and the second made of a copper alloy bonded together before machining. The electrode may also comprise a first and a second elongated lopsided V-shaped groove formed along substantially all of the elongated electrode body forming a discharge receiving ridge between the first and second lopsided V-shaped grooves, with a differentially faster eroding material filling the first and second lopsided V-shaped grooves. also disclosed is an electrode system in which the one electrode, e.g., the cathode bows during operation and may comprise at least one of a first and second elongated gas discharge electrode being machined to form a crown to receive the gas discharge that compensates for the bowing of at least one of the gas discharge electrodes during operation of the fluorine gas discharge laser.
摘要翻译：公开了一种用于具有含氟激光气体的气体放电激光器的氟气放电激光电极，其可包括铜和铜合金阴极体，该铜和铜合金阴极体具有包含用于包含铜的阴极的放电足迹的上部弯曲区域，以及包含铜合金，如果电极的对置部分形成为延伸到弓形部分两侧的直线部分的弓形形状，则直线部分终止于垂直的直边，铜线之间的边界至少包括弧形部分电极可以包括由铜制成的两片材料和由加工前结合在一起的铜合金制成的第二个材料加工的接合元件。电极还可以包括沿着基本上所有的细长电极体形成的第一和第二细长的非平面V形槽，该细长电极体在第一和第二偏斜V形槽之间形成放电接收脊，其中填充有第一和第二个不对称的V形槽。还公开了一种电极系统，其中一个电极例如阴极在操作期间弯曲并且可以包括被加工成形成冠部的第一和第二细长气体放电电极中的至少一个，以接收补偿弯曲的气体放电的至少一个气体放电电极在氟气放电激光器的操作期间。

5. 发明授权

KR100539277B1 가스 첨가제를 갖는 협대역 가스 방전 레이저 有权
标题翻译：带气体添加剂的窄带气体放电激光器
公开(公告)号：KR100539277B1
公开(公告)日：2005-12-27
申请号：KR1020027000721
申请日：2000-06-29
申请人： 사이머 엘엘씨
发明人： 베소셀레허브에이. , 이시하라도시히코 , 호프만토마스
IPC分类号： H01S3/22
CPC分类号： G03F7/70025 , G03F7/70041 , G03F7/70483 , G03F7/70558 , G03F7/70575 , H01S3/02 , H01S3/03 , H01S3/036 , H01S3/08009 , H01S3/0971 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256
摘要： 본 발명은 향상된 에너지량 제어 및 재생력을 가지며, 약 500 내지 2000Hz의 범위에 있는 펄스율로 펄스를 만들 수 있는 초협대역 펄스 엑시머 레이저를 제공한다. 산소 및 무거운 불활성 가스(KrF 레이저를 위한 크세논 또는 라돈, 또는 ArF 레이저를 위한 크립톤, 크세논, 또는 라돈)로 이루어진 미소량의 안정화된 첨가제가 가스 혼합물에 첨가된다. 수행된 테스트는 약 30ppm의 크세논을 KrF 레이저에 첨가함으로써 에너지 안정도에서 본질적인 향상을 보여준다. 테스트는 약 6-10ppm의 Xe 또는 40ppm의 Kr을 첨가함으로써 ArF 레이저의 향상된 성능을 보여준다. 바람직한 실시예에서, 초협대역폭은 플루오르 부분압력을 0.10%로 줄이고, 출력커플러의 반사율을 25%보다 크게 증가시킴으로써 KrF 레이저상에서 이루어진다. 바람직한 실시예에서, 종래기술의 라인 협소화 모듈에서 사용된 종래기술의 용융된 실리카 빔 확산 프리즘은 플루오르화 칼슘 프리즘으로 대체된다(부재 번호가 없는 도면-명세서 참조).

6. 发明授权

KR101406014B1 레이저 가스 주입 시스템 有权
标题翻译：激光喷射系统
公开(公告)号：KR101406014B1
公开(公告)日：2014-06-11
申请号：KR1020097018769
申请日：2008-02-01
申请人： 사이머 엘엘씨
发明人： 던스탠웨인제이. , 오브라이언케빈엠. , 자크로버트엔. , 베사우셀허브에이. , 릭스다니엘제이. , 라트남아라빈드
IPC分类号： H01S3/036 , H01S3/03 , H01S3/00
CPC分类号： H01S3/036 , G03F7/70025 , G03F7/70525 , G03F7/70975 , H01S3/0014 , H01S3/1305 , H01S3/1306 , H01S3/134 , H01S3/2251 , H01S3/2256
摘要： 할로겐 함유 레이징 가스를 포함하는 포토리소그래피 공정용 가스방전 레이저 광원에 대한 가스 수명을 예측하는 단계를 포함하는 방법 및 장치가 개시되는데, 이러한 예측하는 단계는 복수의 레이저 오퍼레이팅 입력 및/또는 출력 파라미터 중 적어도 하나를 사용하는 단계; 상기 각각의 입력 또는 출력 파라미터에 관한 가스 사용 모델을 결정하기 위해 상기 포토리소그래피 공정에서 이용되는 한 세트의 적어도 하나의 파라미터를 사용하는 단계; 상기 모델 및 상기 각각의 입력 또는 출력 파라미터의 측정값을 기초로 상기 가스 수명의 끝을 예측하는 단계를 포함할 수 있다. 상기 파라미터는 펄스 이용 패턴을 포함할 수 있다. 본 방법 및 장치는 할로겐 함유 레이징 가스를 포함하는 포토리소그래피 공정용 가스방전 레이저 광원에 대한 가스 관리를 수행하는 단계를 포함할 수 있고, 이러한 가스 관리는 일반적으로 전체 가스 리필에서 상기 레이저에 제공되는 사전혼합 비율과 동일한 비율이고, 상기 주입 이전에 상기 전체 가스 압력의 2퍼센트 미만의 양인 할로겐 가스와 벌크 가스의 혼합물을 포함한 주입을 포함하는 주기적이고 빈번한 부분적 가스 리필을 사용하는 단계를 포함한다.
포토리소그래피 공정용 가스방전 레이저 광원, 가스 수명 예측, 레이저 오퍼레이팅 입력 및/또는 출력 파라미터, 가스 사용 모델, 할로겐 가스, 벌크 가스.

7. 发明授权

KR100965770B1 초협대역이고 2챔버를 갖는 고반복율 가스 방전 레이저시스템 有权
标题翻译：非常窄带，两个室，高倍率气体放电激光系统
公开(公告)号：KR100965770B1
公开(公告)日：2010-06-24
申请号：KR1020047002982
申请日：2002-08-28
申请人： 사이머 엘엘씨
发明人： 노울레스데이비드에스. , 브라운다니엘제이.,더블유. , 베사첼레허브에이. , 마이어스데이비드더블유. , 어쇼프알렉산더아이. , 파르틀로윌리암엔. , 샌드스트롬리차드엘. , 다스플래쉬피. , 앤더슨스튜어트엘. , 포멘코프이고르브이. , 우자즈도우스키리차드씨. , 온켈스에커하드디. , 네스리차드엠. , 스미스스코트티. , 헐버드윌리암지. , 오이클레스제프리
IPC分类号： H01S3/10
CPC分类号： G01J1/4257 , G03F7/70025 , G03F7/70041 , G03F7/70333 , G03F7/70483 , G03F7/70575 , G03F7/70933 , H01S3/005 , H01S3/0057 , H01S3/02 , H01S3/03 , H01S3/036 , H01S3/038 , H01S3/0385 , H01S3/0387 , H01S3/0404 , H01S3/041 , H01S3/08004 , H01S3/08009 , H01S3/08036 , H01S3/0943 , H01S3/097 , H01S3/09702 , H01S3/09705 , H01S3/0971 , H01S3/0975 , H01S3/104 , H01S3/105 , H01S3/1055 , H01S3/1305 , H01S3/134 , H01S3/137 , H01S3/139 , H01S3/22 , H01S3/2207 , H01S3/223 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256 , H01S3/2258 , H01S3/2333 , H01S3/2366
摘要： 약 4,000Hz이상의 펄스율과 약 5mJ이상의 펄스에너지로 고품질의 펄스된 레이저빔을 산출할 수 있는 주입 시딩된 모듈러 가스 방전 레이저 시스템이 개시되었다. 두 개의 개별 방전 챔버가 제공되고, 하나는 제2 방전 챔버에서 증폭되는, 초협대역 시드 빔을 산출하는 마스터 오실레이터의 일부분이다. 챔버는 챔버 증폭에서 펄스 에너지 파라미터의 최적화 및 마스터 오실레이터에서 파장 파라미터의 개별 최적화를 개별적으로 허용하도록 제어된다. MOPA로서 구성된 ArF 엑시머 레이저 시스템의 바람직한 실시예는 집적회로 리소그래피를 위한 광원으로서의 사용을 위해 설계된다. 바람직한 MOPA 실시예에서, 각각의 챔버는 펄스간에 약 0.25 밀리초 미만의 시간으로 충전 영역으로부터의 잔해를 클리어시킴으로써 4,000Hz이상의 펄스율로 동작하는 것을 허용하기 위해 충분한 가스 흐름을 제공하는 단일 탄젠셜 팬을 포함한다. 마스터 오실레이터에는 0.2pm미만의 정밀도로 4,000Hz이상의 반복율로 펄스 기준에서 중심라인 파장을 제어할 수 있는 초고속 튜닝 미러를 갖는 라인 협소화 패키지가 구비된다.
펄스율, 광원, 파장, 가스 방전 레이저, 펄스, 미러, 방전 챔버, 전극

8. 发明公开

KR1020090114446A 레이저 가스 주입 시스템 有权
标题翻译：激光喷射系统
公开(公告)号：KR1020090114446A
公开(公告)日：2009-11-03
申请号：KR1020097018769
申请日：2008-02-01
申请人： 사이머 엘엘씨
发明人： 던스탠웨인제이. , 오브라이언케빈엠. , 자크로버트엔. , 베사우셀허브에이. , 릭스다니엘제이. , 라트남아라빈드
IPC分类号： H01S3/036 , H01S3/03 , H01S3/00
CPC分类号： H01S3/036 , G03F7/70025 , G03F7/70525 , G03F7/70975 , H01S3/0014 , H01S3/1305 , H01S3/1306 , H01S3/134 , H01S3/2251 , H01S3/2256
摘要： A method and apparatus are disclosed which may comprise predicting the gas lifetime for a gas discharge laser light source for a photolithography process, the light source comprising a halogen contaim'ng lasing gas may comprise: utilizing at least one of a plurality of laser operating input and/or output parameters; utilizing a set of at least one parameter of utilization in the photolithography process to determine a gas use model in relation to the respective input or output parameter; predicting the end of gas life based upon the model and a measurement of the respective input or output parameter. The parameter may comprise a pulse utilization pattern. The method and apparatus may comprise performing gas management for a gas discharge laser light source for a photolithography process, the light source comprising a halogen containing lasing gas comprising: utilizing periodic and frequent partial gas refills comprising an inject comprising a mixture of halogen gas and bulk gas in generally the same ration as the premix ratio provided to the laser in a full gas refill, and in an amount less than two percent of the total gas pressure prior to the injection.
摘要翻译：公开了一种可以包括预测用于光刻工艺的气体放电激光源的气体寿命的方法和装置，包括卤素阻挡激光气体的光源可以包括：利用多个激光操作输入中的至少一个和/或输出参数; 在光刻工艺中利用一组至少一个利用参数来确定相对于相应输入或输出参数的气体使用模型; 基于模型和相应的输入或输出参数的测量来预测气体寿命的结束。该参数可以包括脉冲利用模式。该方法和装置可以包括对用于光刻工艺的气体放电激光光源执行气体管理，该光源包括含卤素的激光气体，其包括：利用周期性和频繁的部分气体再填充，其包括含有卤素气体和体积的混合物气体通常与在全气体再填充中提供给激光器的预混合比率相同，并且其量小于喷射前的总气体压力的2％。

9. 发明授权

KR100909018B1 레이저 리소그래피 빔송출 광원 有权
公开(公告)号：KR100909018B1
公开(公告)日：2009-07-22
申请号：KR1020047003063
申请日：2002-08-19
申请人： 사이머 엘엘씨
发明人： 클레네브라이언씨. , 다스팔라시피. , 그로베스티븐엘. , 에르쇼브알렉산더아이. , 스미스스코트티. , 팬시아오지앙제이. , 샌드스트롬리차드엘.
IPC分类号： H01S3/03
CPC分类号： G03F7/70933 , G03F7/70025 , G03F7/70041 , G03F7/70575 , H01S3/0057 , H01S3/0071 , H01S3/02 , H01S3/03 , H01S3/036 , H01S3/038 , H01S3/0385 , H01S3/0404 , H01S3/041 , H01S3/08004 , H01S3/08009 , H01S3/0943 , H01S3/097 , H01S3/09705 , H01S3/0971 , H01S3/0975 , H01S3/104 , H01S3/105 , H01S3/11 , H01S3/1305 , H01S3/134 , H01S3/139 , H01S3/22 , H01S3/2207 , H01S3/223 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256 , H01S3/2258 , H01S3/2333 , H01S3/2366
摘要： 본원발명은 생산 라인 머신용 모듈러 고반복률 자외선 가스 방전 레이저(4) 광원을 제공한다. 본원 시스템은 생산 라인 머신의 입구 포트 등의 소망 위치에 레이저 빔을 송출하기 위해 인클로징 및 퍼징된 빔 경로를 포함한다. 바람직한 실시예에 있어서, 생산 라인 머신은 리소그래피 머신(2)이고, 2개의 별개의 방전 챔버가 제공되는데, 그 중 하나는 제2 방전 챔버에서 증폭되는 초협대역 센드 빔을 발생시키는 마스터 발진기의 일부이다. MOPA 시스템은 비교가능한 단일 챔버 레이저 시스템의 거의 2배의 펄스 에너지를 상당히 향상된 빔 품질로 출력할 수 있다. 펄스 스트레처는 출력 펄스 길이를 2배 이상으로 하여 종래기술 레이저 시스템에 비해 펄스 전력(mJ/ns)이 감소된다. 이러한 바람직한 실시예는 실질적으로 광학 컴포넌트의 저하에도 불구하고 리소그래피 시스템의 동작수명 내내 가능하다.
레이저, 방전, 송출, 협대역, 열교환기, 퍼지, 스트레처, 챔버

10. 发明授权

KR100850450B1 초협대역이고 고 반복율로 동작하는 두개 챔버를 갖는가스 방전 레이저 시스템 有权
标题翻译：非常窄带，两个室，高倍率气体放电激光系统
公开(公告)号：KR100850450B1
公开(公告)日：2008-08-07
申请号：KR1020037004934
申请日：2001-09-25
申请人： 사이머 엘엘씨
发明人： 마이어데이비드더블유. , 베사우쉘레허브에이. , 어쇼브알렉산더아이. , 파틀로윌리암엔. , 샌드스트롬리차드엘. , 다스팔라쉬피. , 앤더슨스튜어트엘. , 포멘코프이고브이. , 우자츠도우스키리차드씨. , 판지아오지앙제이. , 온켈스에케하르트디. , 네스리차드엠. , 브라운다니엘제이.더블유.
IPC分类号： H01S3/10
CPC分类号： H01S3/2366 , G01J9/00 , G03F7/70025 , G03F7/70041 , G03F7/70333 , G03F7/70483 , G03F7/70575 , G03F7/70933 , H01S3/0057 , H01S3/02 , H01S3/03 , H01S3/036 , H01S3/038 , H01S3/0385 , H01S3/0387 , H01S3/0404 , H01S3/041 , H01S3/08004 , H01S3/08009 , H01S3/08036 , H01S3/0943 , H01S3/097 , H01S3/09702 , H01S3/09705 , H01S3/0971 , H01S3/0975 , H01S3/104 , H01S3/105 , H01S3/1055 , H01S3/1305 , H01S3/134 , H01S3/137 , H01S3/139 , H01S3/22 , H01S3/2207 , H01S3/223 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256 , H01S3/2258 , H01S3/2333
摘要： 약 4,000Hz이상의 펄스율 및 약 5mJ이상의 펄스 에너지에서 고품질 펄스 레이저 빔을 발생시킬 수 있는 인젝션 시드 모듈 가스 방전 레이저 시스템. 두개의 분리된 방전 챔버(10A, 12B)가 제공되고, 그 중하나는 두번째 방전 챔버(12)에서 증폭되는 초협대역 살포 빔을 발생시키는 마스터 발진기(10)의 부분이다. 챔버(10A, 12A)는 마스터 발진기(10)에서 파장 파라미터 및 증폭 챔버(12A)에서 펄스 에너지 파라미터의 분리된 최적화를 분리되어 허용하도록 제어될 수 있다. MOPA로서 구성되고 집적회로 리소그래피를 위하여 광원으로서 사용을 위해 특별히 디자인된 ArF엑시머 레이저 시스템에서 바람직한 실시예. 바람직한 MOPA 실시예에서, 각각의 챔버(10A, 12A)는 펄스간 약 0.25밀리초보다 더 적은시간에서 방전 영역으로 부터찌꺼기를 정화함으로써 4,000Hz이상의 펄스율에 동작을 허용하도록 충분한 가스 흐름(11)을 제공하는 단일의 탄젠셜 팬을 포함한다. 마스터 발진기(10)는 0.2pm이하의 정확도로 4,000Hz 이상의 반복율에서 펄스 대 펄스 기반에서 중심 라인 파장을 제어할 수 있는 매우 빠른 튜닝 미러를 가지는 라인 내로우잉 패키지(16, 16A)를 장착한다.
엑시머 레이저, 가스 방전 레이저, 마스터 발진기, 펄스 에너지, 포토다이오드, 파워 증폭기

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