专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明公开

KR1020170136575A 광원을 위한 파장 안정화 기술 审中-实审
标题翻译：波长稳定技术的光源
公开(公告)号：KR1020170136575A
公开(公告)日：2017-12-11
申请号：KR1020177032257
申请日：2016-03-18
申请人： 사이머 엘엘씨
发明人： 아라왓라훌
IPC分类号： G03F7/20 , H01S3/137 , H01S3/0971 , H01S3/13
CPC分类号： G03F7/70575 , G03F7/70041 , H01S3/0971 , H01S3/1305 , H01S3/137
摘要： 광원으로부터방출된펄스들의제 1 서브세트내의각각의펄스에대한파장오차가결정되는데, 파장오차는특정펄스에대한파장과타겟파장사이의차이이다; 결정된파장오차에기초하여펄스별정정신호가결정되는데, 펄스별정정신호는펄스들의제 1 서브세트내의각각의펄스와연관된정정신호를포함한다; 그리고결정된펄스별정정신호에기초하는정정이광원으로부터방출되는펄스들의제 2 서브세트내의각각의펄스에적용되는데, 펄스들의제 2 서브세트내의펄스에정정을적용시키면펄스들의제 2 서브세트내의펄스의파장오차가감소된다.
摘要翻译：确定从光源发射的第一脉冲子集中的每个脉冲的波长误差，波长误差是特定脉冲的波长与目标波长之间的差; 基于所确定的波长误差来确定脉搏感知思维模式，其中，所述每脉冲校正信号包括与所述第一脉冲子集中的每个脉冲相关联的校正信号; 有被施加到通过基于所确定的特定脉冲修正信号的第二子集的修正yigwangwon发射的脉冲的每个脉冲，在脉冲的脉冲的第二子集以脉冲的第二子集施加校正到脉冲时波长误差减小。

2. 发明公开

KR1020150051906A 노광 장치, 노광 방법 및 디바이스의 제조 방법 审中-实审
标题翻译：曝光装置，曝光方法和装置制造方法
公开(公告)号：KR1020150051906A
公开(公告)日：2015-05-13
申请号：KR1020140152115
申请日：2014-11-04
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 야마모토가즈키 , 아사이시다다히로
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G01J1/429 , G01J1/32 , G03F7/70041 , G03F7/70516 , G03F7/70558 , G03F9/7003 , G03F9/7092 , H01S5/0683
摘要： 노광장치는, 펄스광을방출하는광원을구비하고, 펄스광으로원판을거쳐서기판을노광한다. 또한, 노광장치는, 펄스광의광량을검출하는검출유닛과, 광원및 검출유닛을제어하는제어기를구비한다. 여기서, 상기제어기는, 복수의제어입력에의해상기광원으로부터복수의상기펄스광을방출시켜서검출기에의해검출된상기복수의펄스광의광량에기초하여, 상기광원에대한제어입력과상기광원으로부터의펄스광의광량간의관계를구하는제1 교정처리를, 상기제1 교정처리와는상이하고상기복수의펄스광을사용해서실행되는제2 교정처리의실행과병행해서실행하도록구성된다.
摘要翻译：曝光装置技术领域本发明涉及一种曝光装置，其包括用于照射脉冲光的光源; 用于检测脉冲光量的检测单元; 以及控制器，用于控制光源和检测单元，并且使用脉冲光通过电路板使基板曝光，其中当多个脉冲光从该光源发出时，控制器基于检测器检测到的脉冲光的脉冲光量通过多个控制输入进行光源的处理，从而进行第一校正处理，以进行与第二校正处理不同的第二校正处理，以识别光源的控制输入与来自光源的脉冲光的量之间的关系第一次校正处理并使用多个脉冲光。

3. 发明授权

KR101235047B1 라인 내로우잉 모듈 有权
标题翻译：线路延迟模块
公开(公告)号：KR101235047B1
公开(公告)日：2013-02-21
申请号：KR1020127002413
申请日：2005-11-28
申请人： 사이머 엘엘씨
发明人： 알고트스마틴제이. , 버그스테트로버트에이. , 글레스피월터디. , 쿨게이코블라디미르에이. , 파틀로윌리엄엔. , 라일로프게르만이. , 샌드스트롬리차드엘. , 스트레이트브라이언디. , 다이어디모티에스.
IPC分类号： H01S3/22
CPC分类号： H01S3/1055 , G03F7/70025 , G03F7/70041 , H01S3/005 , H01S3/036 , H01S3/08 , H01S3/08004 , H01S3/08059 , H01S3/097 , H01S3/106 , H01S3/2251
摘要： 공칭 광경로를 갖고 있고, 펄스의 버스트를 포함하는 출력 레이저 광 빔을 생성하는 협대역 DUV 고전력 고반복율 가스 방전 레이저용 라인 내로잉 모듈에 있어서, 분산 중심 파장 선택 광학기구상의 각각의 펄스를 포함하는 레이저 광 빔의 입사각에 의해 적어도 부분적으로 결정된 각 펄스에 대하여 적어도 하나의 중심 파장을 선택하는, 상기 라인 내로우잉 모듈의 광경로내에 이동가능하게 장착된 상기 분산 중심 파장 선택 광학기구; 상기 분산 중심 파장 선택 광학기구쪽으로 펄스를 포함하는 레이저 광 빔의 투사각을 선택함으로써, 상기 분산 중심 파장 선택 광학 기구상에 각 펄스를 포함하는 레이저 광 빔의 입사각을 선택하도록 부분적으로 동작하는 제1 튜닝 메커니즘; 및 상기 라인 내로우잉 모듈의 공칭 광경로에 대하여 상기 분산 중심 파장 선택 광학기구의 위치를 변경함으로써 상기 각 펄스를 포함하는 레이저 광 빔의 입사각을 선택하도록 부분적으로 동작하는 제2 튜닝 메커니즘;을 포함하고, 상기 제2 튜닝 메커니즘은 상기 중심 파장에 대한 값을 거칠게 선택하고 상기 제1 튜닝 메커니즘은 상기 중심 파장에 대한 값을 보다 미세하게 선택하는 라인 내로우잉 방법 및 모듈이 개시되어 있다.

4. 发明公开

KR1020090033174A 이동하는 기판상의 얇은 필름(박막)에 패턴을 각인하는 방법과 장치 无效
标题翻译：用于图案移动基板薄膜的方法和工具
公开(公告)号：KR1020090033174A
公开(公告)日：2009-04-01
申请号：KR1020087028308
申请日：2007-05-15
申请人： 오리콘 발저즈 코팅(유케이)리미티드
发明人： 앨롯리차드
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： B23K26/066 , C03C17/002 , C03C2218/33 , G03F7/202 , G03F7/70041 , G03F7/70725 , H01L27/1214 , Y10T428/24479 , G03F7/70025 , H01L21/3043
摘要： A method for forming a regularly repeating pattern in a thin film (2) on a substrate (1, 5) by ablating it directly with radiation from a pulsed laser beam (3, 10) characterised in that the radiation beam (3, 10) is caused to pass through a suitable mask (7) delineating the pattern, the image of the mask pattern being de-magnified onto the surface of the film (2) by a suitable projection lens (8) so that the energy density at the film is sufficiently high so as to cause the film (2) to be removed directly by ablation, the imprinting steps being carried out: (i) in a repetitive series of discrete laser ablation steps using a mask (7) that is stationary with respect to the projection lens (8) and represents only a small area of the total area of the substrate (1, 5) and using a single short pulse of radiation (3) at each step to illuminate the mask (7), the radiation pulse having such an energy density at the substrate (1, 5) that it is above the threshold value for ablation of the film (2); and (ii) the series of discrete laser ablation steps being repeated over the full area of the surface of a substrate (1), to give a full pattern comprising a plurality of pixels, by moving the laser beam (3, 10) or substrate (1, 5) in a direction (X1) parallel to one axis of the pattern to be formed on the substrate and activating the pulsed laser mask illumination light source at the instant that the substrate (1, 5) or beam (3, 10) has moved over a distance equivalent to a complete number of periods of the repeating pattern on the substrate (1, 5).
摘要翻译：一种用于通过直接用来自脉冲激光束（3,10）的辐射直接烧蚀基板（1,5）上的薄膜（2）中的规则重复图案的方法，其特征在于，辐射束（3,10）被引导通过描绘图案的合适的掩模（7），通过合适的投影透镜（8）将掩模图案的图像放大到膜（2）的表面上，使得膜上的能量密度足够高以使得通过消融直接去除膜（2），所述压印步骤被执行：（i）在使用相对于静态的掩模（7）的重复的一系列离散激光烧蚀步骤中，所述投影透镜（8）仅表示所述基板（1,5）的总面积的小面积，并且在每个步骤中使用单个短脉冲（3）照射所述掩模（7），所述辐射脉冲具有在衬底（1,5）处的这种能量密度高于膜的消融阈值（2）; 和（ii）在衬底（1）的表面的整个区域上重复一系列离散激光烧蚀步骤，以通过移动激光束（3,10）或衬底来提供包括多个像素的完整图案（1,5）在与待形成的图案的一个轴平行的方向（X1）上，并且在基板（5,5）或光束（3,10）的瞬间激活脉冲激光掩模照明光源）已移动相当于基板（1,5）上重复图案的完整数量的周期的距离。

5. 发明授权

KR100883386B1 레이저처리 사이트 내의 미세구조를 처리하게 재료처리 레이저 빔의 웨이스트를 정밀하게 위치시키는 방법 및 장치 有权
标题翻译：用于精确定位材料加工激光束以在激光加工站中处理微结构的方法和系统
公开(公告)号：KR100883386B1
公开(公告)日：2009-02-11
申请号：KR1020027015340
申请日：2001-05-15
申请人： 제너럴 스캐닝, 인코포레이티드
发明人： 헌터,브래들러,엘. , 카힐,스티븐,피. , 에어맨,조나단,에스. , 플롯킨,마이클
IPC分类号： H01L21/301
CPC分类号： B23K26/046 , B23K26/02 , B23K26/04 , B23K26/043 , B23K26/0853 , B23K2201/40 , G03F7/70041 , G03F7/70725
摘要： A high-speed method and system for precisely positioning a waist of a material-processing laser beam to dynamically compensate for local variations in height of microstructures located on a plurality of objects spaced apart within a laser-processing site are provided. In the preferred embodiment, the microstructures are a plurality of conductive lines formed on a plurality of memory dice of a semiconductor wafer. The system includes a focusing lens subsystem for focusing a laser beam along an optical axis substantially orthogonal to a plane, an x-y stage for moving the wafer in the plane, and a first air bearing sled for moving the focusing lens subsystem along the optical axis.

6. 发明授权

KR100878772B1 압전 구동기를 갖춘 레이저 파장 제어 유닛 有权
标题翻译：具有压电驱动器的激光波长控制单元
公开(公告)号：KR100878772B1
公开(公告)日：2009-01-14
申请号：KR1020037011272
申请日：2002-02-15
申请人： 사이머 엘엘씨
发明人： 스팽글러로날드엘. , 자크로버트엔. , 룰존에이. , 팔렌샤트프레데릭에이. , 포멘코프이고르브이. , 알고츠존엠. , 립콘쟈콥피. , 샌드스트롬리차드엘.
IPC分类号： H01S3/10
CPC分类号： G03F7/70575 , G03F7/70025 , G03F7/70041 , G03F7/70333 , G03F7/70933 , H01S3/02 , H01S3/036 , H01S3/038 , H01S3/0385 , H01S3/0404 , H01S3/041 , H01S3/08036 , H01S3/097 , H01S3/0971 , H01S3/0975 , H01S3/104 , H01S3/105 , H01S3/1055 , H01S3/1305 , H01S3/1312 , H01S3/134 , H01S3/137 , H01S3/22 , H01S3/2207 , H01S3/225
摘要： 고속 파장 보정 기능을 갖춘 전기 방전 레이저가 개시되었다. 고속 파장 보정 장비는 적어도 하나의 압전 구동기와 고속 파장 측정 시스템(104)과 고속 피드백 응답 시간을 포함한다. 바람직한 실시예에서, 수밀리미터의 저속 시간 프레임, 약 1 내지 5 밀리초의 중속 시간 프레임 및 수 마이크로초의 초고속 프레임상에서 파장을 제어하기 위해 장비가 제공된다. 바람직한 기술은 튜닝 미러를 사용하여 레이저 파장을 튜닝하기 위해 초고속 압전 구동기와 비교적 저속인 스테퍼 모터의 조합을 포함한다. 초고속 파장 제어는 압전 구동기와의 조합으로 압전 로드 셀에 제공된다. 바람직한 실시예는 파장 측정치, 고속 진동 제어, 로드 셀 및 액티브 댐핑 모듈(320)을 사용한 액티브 댐핑, 및 이력 버스트 데이터를 기초로 하여 피드 포워드 알고리즘을 사용한 트랜지언트 반전에 기초하여 고속 피드백 제어를 제공한다.
전기 방전 레이저, 파장 보정, 튜닝 미러, 압전 구동기, 댐핑, 버스트 데이터, 피드백 제어, 스테퍼 모터

7. 发明公开

KR1020070061461A 리소그래피 장치 및 디바이스 제조방법 有权
标题翻译： LITHOGRAPHIC装置和装置制造方法
公开(公告)号：KR1020070061461A
公开(公告)日：2007-06-13
申请号：KR1020060125055
申请日：2006-12-08
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. , 에이에스엠엘 홀딩 엔.브이.
发明人： 비세르,후이베르트 , 캘런,데이비드윌리엄 , 문니크슈미트,로베르트-한 , 위너,로베르토비. , 반데벤,요한네스테오도루스구일리엘무스마리아 , 로빈스,조지하워드
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70725 , G03F7/70041 , G03F7/70358 , G03F7/70425 , G03F7/70291
摘要： A lithographic apparatus and a device manufacturing method are provided to compensate a substrate for motion by moving a radiation beam according to a substantial resonance to the substrate and pivoting a mirror corresponding to a pulse frequency using a mirror capable of being pivoted and an actuator. A lithographic apparatus includes a projection system for projecting a radiation beam pattern onto a target of a substrate, a position setting structure for moving the substrate against the projection system, a mirror capable of being pivoted, and an actuator. The mirror(10) is used for moving the radiation beam pattern against the projection system. The actuator(12) is used for pivoting the mirror corresponding to the motion of the substrate.
摘要翻译：提供光刻设备和器件制造方法，以通过根据基本谐振将辐射束移动到衬底并使用能够枢转的反射镜和致动器枢转对应于脉冲频率的反射镜来补偿衬底。光刻设备包括用于将辐射束图案投影到基板的目标上的投影系统，用于使基板抵靠投影系统移动的位置设置结构，能够枢转的反射镜和致动器。反射镜（10）用于将辐射束图案相对于投影系统移动。致动器（12）用于相对于基板的运动枢转反射镜。

8. 发明授权

KR100539277B1 가스 첨가제를 갖는 협대역 가스 방전 레이저 有权
标题翻译：带气体添加剂的窄带气体放电激光器
公开(公告)号：KR100539277B1
公开(公告)日：2005-12-27
申请号：KR1020027000721
申请日：2000-06-29
申请人： 사이머 엘엘씨
发明人： 베소셀레허브에이. , 이시하라도시히코 , 호프만토마스
IPC分类号： H01S3/22
CPC分类号： G03F7/70025 , G03F7/70041 , G03F7/70483 , G03F7/70558 , G03F7/70575 , H01S3/02 , H01S3/03 , H01S3/036 , H01S3/08009 , H01S3/0971 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256
摘要： 본 발명은 향상된 에너지량 제어 및 재생력을 가지며, 약 500 내지 2000Hz의 범위에 있는 펄스율로 펄스를 만들 수 있는 초협대역 펄스 엑시머 레이저를 제공한다. 산소 및 무거운 불활성 가스(KrF 레이저를 위한 크세논 또는 라돈, 또는 ArF 레이저를 위한 크립톤, 크세논, 또는 라돈)로 이루어진 미소량의 안정화된 첨가제가 가스 혼합물에 첨가된다. 수행된 테스트는 약 30ppm의 크세논을 KrF 레이저에 첨가함으로써 에너지 안정도에서 본질적인 향상을 보여준다. 테스트는 약 6-10ppm의 Xe 또는 40ppm의 Kr을 첨가함으로써 ArF 레이저의 향상된 성능을 보여준다. 바람직한 실시예에서, 초협대역폭은 플루오르 부분압력을 0.10%로 줄이고, 출력커플러의 반사율을 25%보다 크게 증가시킴으로써 KrF 레이저상에서 이루어진다. 바람직한 실시예에서, 종래기술의 라인 협소화 모듈에서 사용된 종래기술의 용융된 실리카 빔 확산 프리즘은 플루오르화 칼슘 프리즘으로 대체된다(부재 번호가 없는 도면-명세서 참조).

9. 发明公开

KR1020050011720A 리소그래피 장치 및 디바이스 제조방법 有权
标题翻译：用于改善脉冲脉冲剂量可重复性的光刻设备和器件制造方法
公开(公告)号：KR1020050011720A
公开(公告)日：2005-01-29
申请号：KR1020040057063
申请日：2004-07-22
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
发明人： 블리커아르노얀
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/7005 , G03F7/70291 , G03F7/70041 , G03F7/70558 , G03F7/70575
摘要： PURPOSE: A lithographic apparatus and a device manufacturing method are provided to reduce complexity of a radiation system and improve pulse-to-pulse dose reproducibility by sharing a common control system. CONSTITUTION: A radiation system is used for supplying a projection beam of radiation. An array of individually controllable elements is used for imparting cross-sectional patterns to the projection beam. A substrate table is used for supporting a substrate. A projection system is used for projecting the patterned beam onto a target part of the substrate. The radiation system includes a plurality of radiation generating units for producing sub-projection beams of radiation and a combining unit for combining each of the sub-projection beams to form the projection beam of radiation. The radiation generating units are lasers contained in a single housing(10) that share a common lasing medium.
摘要翻译：目的：提供光刻设备和器件制造方法以降低辐射系统的复杂性，并通过共享共同的控制系统来提高脉冲到脉冲的剂量再现性。构成：辐射系统用于提供投射射束。使用独立可控元件的阵列来将横截面图案赋予投影光束。衬底台用于支撑衬底。投影系统用于将图案化的光束投影到基板的目标部分上。辐射系统包括用于产生副投影射束的多个辐射产生单元和用于组合每个子投影束以形成投影辐射束的组合单元。辐射发生单元是包含在共享共同的激光介质的单个外壳（10）中的激光器。

10. 发明公开

KR1020030078692A 리소그래피 장치 및 디바이스 제조방법 失效
公开(公告)号：KR1020030078692A
公开(公告)日：2003-10-08
申请号：KR1020030018865
申请日：2003-03-26
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
发明人： 바커레비누스피터 , 욘커스예뢴 , 반디셀돈크,안토니우스요하네스요세푸스 , 디에리히스마르첼마티스테오도레마리에
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70916 , B82Y10/00 , G03F7/70033 , G03F7/70041 , G03F7/70166 , G03F7/7055 , G21K1/04 , G21K1/043 , H05G2/00
摘要： 본 발명은, 제어개구(controlled aperture)가 리소그래피 장치의 두 파트를 분리하는 배리어(barrier)를 관통하는 통로를 제공하여, 펄스 방사선이 상기 장치의 제1파트에서 제2파트로 방사되도록 하는 것을 가능하게 한다. 상기 제어개구는 상기 장치의 제1파트와 제2파트 사이로의 가스유동을 최소화하기 위해서, 방사선의 펄스와 펄스 사이에 통로를 닫는다.

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式