会员体验
专利管家(专利管理)
工作空间(专利管理)
风险监控(情报监控)
数据分析(专利分析)
侵权分析(诉讼无效)
联系我们
交流群
官方交流:
QQ群: 891211   
微信请扫码    >>>
现在联系顾问~
热词
    • 2. 发明申请
    • LEITERPLATTE MIT BAUELEMENT UND VERFAHREN ZU DESSEN HERSTELLUNG
    • 随着对组件及其方法的电路基板
    • WO2015176820A1
    • 2015-11-26
    • PCT/EP2015/001034
    • 2015-05-21
    • SCHWEIZER ELECTRONIC AG
    • GOTTWALD, ThomasRÖSSLE, Christian
    • H05K1/18H01L23/538
    • H05K1/185H01L23/5389H01L24/24H01L24/25H01L24/82H01L2224/04105H01L2224/2518H01L2224/32245H01L2224/73267H01L2224/8203H01L2224/92244H05K2201/10166H05K2203/1469
    • Verfahren zum Ankontaktieren eines Bauelements (30) in einer Leiterplattenschichtabfolge (10) mit den folgenden Schritten: Bereitstellen eines Bauelements (30) mit Kontaktflächen (34, 36, 38) aus einem Metallmaterial, das nicht Kupfer ist; Herstellen eines Schichtabfolgelaminats (10) mit eingebettetem Bauelement; Erzeugen von einem oder mehreren Löchern (V1, V2, VL) in einer Oberfläche des Schichtabfolgelaminats (10) zum zumindest partiellen Freilegen der Kontaktflächen (34, 36, 38) des Bauelements (30); Behandeln von Oxidschichten (35, 37) auf den freigelegten Kontaktflächen (34, 36), Aufbringen einer Basismetallschicht (40) und Durchführen eines Galvanisierungsprozesses zum Verstärken der Basismetallschicht (40) mit einer Kupferschicht (42). Leiterplatte mit einem Leiterplattenschichtaufbau (10) und darin eingebrachtem Bauelement (30), wobei das Bauelement (30) mindestens eine Kontaktfläche (34, 36, 38) aufweist, die über mindestens ein Sackloch (V1, V2, VL) ankontaktiert ist, wobei die Kontaktfläche (34, 36, 38) im Bereich des mindestens einen Vias (V1, V2, VL) eine Schicht aus metallischem Material aufweist, das nicht Kupfer ist, an die sich direkt und ohne Vorhandensein einer Metalloxidschicht (35, 37) eine Basismetallschicht (40) anschließt, die durch aufgalvanisiertes Kupfer (42) verstärkt ist.
    • 用于Ankontaktieren在电路板中的层序列的方法的装置(30)(10),包括以下步骤:提供由不是铜的金属材料制成的装置(30)具有接触表面(34,36,38); 制备层合体(10)具有嵌入的设备的序列; 在层压层序列(10)的一个表面的部件(30)的接触表面的至少部分露出(34,36,38)产生一个或多个孔(V1,V2,VL); 氧化物层(35,37)的暴露的接触表面(34,36)上处理,在沉积基底金属层(40)和用于与铜层(42)放大所述基底金属层(40)进行电镀处理。 电路具有一印刷电路板层结构(10)板和并入其中的组分(30),其中具有至少一个盲孔(V1,V2,VL)的装置(30)的至少一个接触表面(34,36,38)是ankontaktiert,其中,所述 在经由至少一个的区域(V1,V2,VL)具有接触表面(34,36,38)的金属材料构成的层,是不是铜,向右和不具有金属氧化物层(35,37)(基底金属层的存在 40)连接,其(由aufgalvanisiertes铜42)被加强。