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1. 发明申请

WO2017142705A1 GAS OPTIMIZATION IN A GAS DISCHARGE LIGHT SOURCE 审中-公开
标题翻译：气体放散光源的气体优化
公开(公告)号：WO2017142705A1
公开(公告)日：2017-08-24
申请号：PCT/US2017/015889
申请日：2017-01-31
申请人： CYMER, LLC
发明人： AGGARWAL, Tanuj
IPC分类号： H01S3/11 , H01S3/23 , H01S3/036 , H01S3/225
CPC分类号： H01S3/134 , H01S3/036 , H01S3/0385 , H01S3/08009 , H01S3/08036 , H01S3/09705 , H01S3/0971 , H01S3/104 , H01S3/1305 , H01S3/225 , H01S3/2308 , H01S3/2366
摘要： One or more operating characteristics of a light source are adjusted by estimating a plurality of extreme values of operating parameters of the light source while operating the light source under a set of extreme test conditions. For each extreme test condition, a group of pulses of energy is supplied to a first gas discharge chamber of the light source while operating the first gas discharge chamber under the extreme test condition to produce a first pulsed amplified light beam; a group of pulses of energy is supplied to a second gas discharge chamber of the light source while operating the second «as discharge chamber under the extreme test condition to produce a second pulsed amplified light beam. An extreme value of an operating parameter for the extreme test condition is measured to thereby estimate the extreme value of the operating parameter.
摘要翻译：通过在一组极端测试条件下操作光源的同时估计光源的操作参数的多个极值来调整光源的一个或多个操作特性。对于每种极端测试条件，在极端测试条件下操作第一气体放电室的同时，将一组能量脉冲提供给光源的第一气体放电室，以产生第一脉冲放大光束; 一组能量脉冲被提供给光源的第二气体放电室，同时在极端测试条件下操作第二放电室作为放电室以产生第二脉冲放大光束。测量极端测试条件的运行参数的极值，从而估计运行参数的极值。

2. 发明申请

WO2017072879A1 狭帯域化エキシマレーザ装置审中-公开
标题翻译：窄带准分子激光器
公开(公告)号：WO2017072879A1
公开(公告)日：2017-05-04
申请号：PCT/JP2015/080386
申请日：2015-10-28
申请人：ギガフォトン株式会社
发明人：宮本　浩孝 , 若林　理
IPC分类号： H01S3/137 , H01S3/225
CPC分类号： H01S3/137 , H01S3/036 , H01S3/134 , H01S3/225
摘要：【課題】狭帯域化エキシマレーザ装置において、狭帯域化モジュール内の不純物ガスを除去する。【解決手段】狭帯域化エキシマレーザ装置は、レーザ光のスペクトル線幅を狭帯域化する狭帯域化モジュールと、窒素ガス供給装置と、窒素ガス供給装置から供給された窒素ガスを狭帯域化モジュールの筐体内に流入させる窒素ガス導入部と、窒素ガス導入部から筐体内への窒素ガスの流入を制御する第１のバルブと、筐体内のガスを筐体外に流出させる排気部と、筐体内のガスを筐体外に排出させる排気ポンプと、排気部からのガスの排出を制御する第２のバルブと、筐体内のガスを大気中に放出させる大気放出部と、大気中へのガス放出を制御する第３のバルブと、第２のバルブを閉じる一方第１、第３のバルブを開いて、窒素ガスを所定時間筐体内に供給させ、次いで第３のバルブを閉じる一方第１、第２のバルブを開くと共に、排気ポンプを駆動させて筐体内を排気させ、その後レーザ発振させる制御部とを備えてもよい。
摘要翻译：
要解决的问题：去除窄带准分子激光器中的窄带模块中的杂质气体。窄带准分子激光装置，缩小模块和，缩小模块供给的氮气和氮气进料器，从氮气供给装置来缩小激光束的光谱线宽度控制氮气从氮气导入部流入壳体内的第一阀，使壳体内的气体流出壳体内的排气部，以及将氮气导入壳体内的第二阀，第二阀，用于控制从排气部分排出气体;大气释放部分，用于将壳体中的气体释放到大气中;以及气体排出部分，用于将气体排出到大气中用于控制的第一个以关闭所述第二阀的第三阀，打开第三阀，所述氮气在预定时间内壳体，那么第一个到关闭第三阀，所述第二供给和排气泵通过抽空外壳可以包括随后的控制单元，用于将激光振荡驱动。

3. 发明申请

WO2017029729A1 レーザ装置审中-公开
标题翻译：激光器件
公开(公告)号：WO2017029729A1
公开(公告)日：2017-02-23
申请号：PCT/JP2015/073252
申请日：2015-08-19
申请人：ギガフォトン株式会社
发明人：谷山　実 , 溝口　計 , 若林　理
IPC分类号： H01S3/086 , H01S3/038
CPC分类号： H01S3/038 , H01S3/086 , H01S3/0971 , H01S3/104 , H01S3/134 , H01S3/223
摘要：　本開示によるレーザ装置は、第１の方向において互いに電極ギャップを隔てて対向し、第１の方向に直交する第２の方向の放電幅が電極ギャップよりも小さい１対の放電電極、を含むレーザチャンバと、第１の方向及び第２の方向の双方に直交する第３の方向において１対の放電電極を間に挟むようにして互いに対向する第１の光学部材及び第２の光学部材を含み、１対の放電電極間で発生したレーザ光を増幅して出力させる光共振器とを備え、第１の光学部材のＧパラメータをＧ１、第２の光学部材のＧパラメータをＧ２としたとき、光共振器は、第２の方向において、以下の条件を満足する安定共振器を構成してもよい。　０＜Ｇ１・Ｇ２＜１
摘要翻译：根据本公开的激光装置设置有：激光室，其包括在第一方向上跨越电极间隔彼此相对的一对放电电极，使得与第一方向正交的截面方向上的放电宽度为小于电极间隙; 以及光谐振器，其包括第一光学构件和第二光学构件，所述第一光学构件和第二光学构件彼此相对，以在与所述第一方向和所述第二方向正交的第三方向上插入在所述一对放电电极之间，所述谐振器放大和输出激光器在一对放电电极之间产生的光。光谐振器可以具有在第二方向上满足以下条件的稳定谐振器的结构，其中G1是第一光学构件的G参数，G2是第二光学构件的G参数。 0

4. 发明申请

WO2016002001A1 レーザ装置、ＥＵＶ光生成システム及びレーザ装置の制御方法审中-公开
标题翻译：激光装置，EUV光产生系统以及激光装置的控制方法
公开(公告)号：WO2016002001A1
公开(公告)日：2016-01-07
申请号：PCT/JP2014/067509
申请日：2014-07-01
申请人：ギガフォトン株式会社
发明人：川筋　康文 , 高岡　直弥
IPC分类号： H01S3/134 , H01L21/027 , H01S3/00 , H01S3/097 , H01S3/23
CPC分类号： H01S3/102 , H01L21/67115 , H01S3/09 , H01S3/097 , H01S3/09702 , H01S3/104 , H01S3/134 , H01S3/2232 , H01S3/2308 , H01S3/2316 , H01S3/2325 , H01S3/2375 , H01S5/3401 , H01S5/4012 , H05G2/008
摘要：　レーザ装置は、マスタオシレータから出力されるレーザ光を増幅する光増幅器と、光増幅器に交流電流を供給する光増幅器電源と、レーザコントローラと、を含んでもよい。光増幅器電源は、デューティ比に応じて出力振幅を変化させるインバータ回路を含み、インバータ回路の出力から交流電流を生成する、交流電流生成回路と、レーザコントローラからの指令値とインバータ回路のデューティ比との対応関係を定義する制御情報を保持し、レーザコントローラから受信した指令値に対応するデューティ比を前記制御情報に基づいて決定し、決定したデューティ比をインバータ回路に与える電源制御回路と、を含んでもよい。
摘要翻译：激光设备可以包括用于放大从主振荡器输出的激光的光学放大器，用于向光学放大器提供交流电的光学放大器电源以及激光控制器。光放大器的功率包括用于根据所述占空比改变输出振幅的反相器电路，和从所述逆变器电路中，AC电流生成电路，该指令值的占空比和来自激光控制装置的逆变器电路的输出端上产生的交流电流的定义的对应关系保持控制信息，对应于从激光控制器接收的指令值的占空比确定基于所述控制信息，包括用于提供所确定的占空比到逆变器电路的电源控制电路，所述但好。

5. 发明申请

WO2015186272A1 レーザチャンバ审中-公开
标题翻译：激光室
公开(公告)号：WO2015186272A1
公开(公告)日：2015-12-10
申请号：PCT/JP2014/078966
申请日：2014-10-30
申请人：ギガフォトン株式会社
发明人：對馬　弘朗 , 柿崎　弘司 , 松永　隆 , 浅山　武志 , 勝海　久和 , 梅田　博 , 池田　宏幸
IPC分类号： H01S3/038 , H01S3/041
CPC分类号： H01S3/036 , H01S3/038 , H01S3/0384 , H01S3/0407 , H01S3/041 , H01S3/08004 , H01S3/08009 , H01S3/09702 , H01S3/09713 , H01S3/134 , H01S3/225
摘要：　放電効率を向上させる。　レーザチャンバは、第１空間及び第２空間を含むレーザチャンバであって、前記第１空間内に配置された第１放電電極と、前記第１空間内で前記第１放電電極に対向して配置された第２放電電極と、前記第１空間内に配置され、前記第１放電電極と前記第２放電電極との間にレーザガスを流すファンと、前記第２空間内に配置されたピーキングコンデンサと、を備えてもよい。
摘要翻译：
提高排放效率。激光室是包括第一空间和第二空间的激光室，并且包括设置在第一空间中的第一放电电极和设置在第一空间中以面对第一放电电极的第二放电电极设置在第一空间中的第二放电电极，用于使激光气体在第一放电电极和第二放电电极之间流动的风扇，设置在第二空间中的峰化电容器，例如，

6. 发明申请

WO2014080822A1 レーザ加工装置及びレーザ加工方法审中-公开
标题翻译：激光加工设备和激光加工方法
公开(公告)号：WO2014080822A1
公开(公告)日：2014-05-30
申请号：PCT/JP2013/080727
申请日：2013-11-13
申请人：国立大学法人九州大学 , ギガフォトン株式会社
发明人：池上　浩 , 若林　理 , 溝口　計
IPC分类号： H01S3/115 , B23K26/00 , B23K26/064 , C03B33/02 , C03B33/08 , H01S3/00 , H01S3/10 , H01S3/23 , B23K26/382 , B23K26/40 , B28D5/00
CPC分类号： C03C23/0025 , B23K26/034 , B23K26/0622 , C03B33/0222 , H01S3/0092 , H01S3/0971 , H01S3/10015 , H01S3/1055 , H01S3/115 , H01S3/1301 , H01S3/134 , H01S3/2232 , H01S3/2308 , H01S3/2375 , H01S3/2391 , Y02P40/57
摘要：８μｍ～１１μｍの波長範囲においてピークを有し、パルス幅が３０ｎｓ以下のパルスレーザ光を出射するレーザ光源（１０）と、被加工物（７０）に前記パルスレーザ光を集光し照射する光学系（４０）と、前記レーザ光源（１０）より出射される前記パルスレーザ光の繰返し周波数が２５ｋＨｚ以上となるように制御を行う制御部（６０）と、を備えることで、熱拡散が抑制し、被加工物（７０）のレーザ照射部分の吸収係数が増加し、微細な穴加工をする場合には、形成される穴の形状がテーパ形状となることを抑制すると共に、穴の周囲の盛り上がりの発生を抑制する。
摘要翻译：本发明提供有：激光光源（10），用于发射具有8-11μm波长范围和30ns以下脉冲宽度的峰值的脉冲激光; 用于将脉冲激光聚焦并照射在加工对象上的光学系统（40）; 以及控制单元（60），用于控制从激光源（10）发射的脉冲激光的重复频率至少为25kHz，从而抑制热分散，激光照射部分的吸收系数加工对象（70）增加，并且当加工非常小的孔时，形成的孔的形状被抑制成为锥形，并且抑制了孔附近的凸起。

7. 发明申请

WO2014038584A1 レーザ装置及びレーザ装置の制御方法审中-公开
标题翻译：激光器件和控制激光器件的方法
公开(公告)号：WO2014038584A1
公开(公告)日：2014-03-13
申请号：PCT/JP2013/073780
申请日：2013-09-04
申请人：ギガフォトン株式会社
发明人：對馬　弘朗 , 若林　理 , 熊▲崎▼　貴仁 , 松永　隆
IPC分类号： H01S3/00 , H01S3/034
CPC分类号： H01S3/0014 , G01J1/4257 , G01J11/00 , H01S3/005 , H01S3/034 , H01S3/038 , H01S3/08009 , H01S3/0971 , H01S3/10069 , H01S3/134 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256 , H01S3/2308
摘要：【課題】レーザ装置における光学素子の寿命を正確に判断する。【解決手段】レーザゲイン媒質が入れられているレーザチャンバと、レーザチャンバ内に設けられている一対の電極と、一対の電極間に放電を生じさせることにより出射されたレーザ光のパルスエネルギを測定するエネルギ検出器と、レーザ光の光路に設置される光学素子と、レーザ光のパルスエネルギに基づき、光学素子における吸収エネルギの積算値を算出し、光学素子における吸収エネルギ積算値が、光学素子の寿命積算値を超えているか否かを判断する制御部と、を備えてもよい。
摘要翻译： [问题]精确地确定激光装置的光学元件的寿命。 [解决方案]激光装置可以设置有：放置激光增益介质的激光室; 设置在激光室中的一对电极; 能量检测器，用于测量在一对电极之间通过放电发射的激光的脉冲能量; 安装在激光的光路中的光学元件; 以及控制单元，用于基于所述激光的脉冲能量来计算所述光学元件中的吸收能量的积分值，并且确定所述光学元件中的吸收能量的积分值是否超过所述光学元件的寿命累积值光学元件。

8. 发明申请

WO2008105988A2 LASER GAS INJECTION SYSTEM 审中-公开
标题翻译：激光喷射系统
公开(公告)号：WO2008105988A2
公开(公告)日：2008-09-04
申请号：PCT/US2008001348
申请日：2008-02-01
申请人： CYMER INC , DUNSTAN WAYNE J , O'BRIEN KEVIN M , JACQUES ROBERT N , BESAUCELE HERVE A , RIGGS DANIEL J , RATNAM ARAVIND
发明人： DUNSTAN WAYNE J , O'BRIEN KEVIN M , JACQUES ROBERT N , BESAUCELE HERVE A , RIGGS DANIEL J , RATNAM ARAVIND
IPC分类号： H01S3/22
CPC分类号： H01S3/036 , G03F7/70025 , G03F7/70525 , G03F7/70975 , H01S3/0014 , H01S3/1305 , H01S3/1306 , H01S3/134 , H01S3/2251 , H01S3/2256
摘要： A method and apparatus are disclosed which may comprise predicting the gas lifetime for a gas discharge laser light source for a photolithography process, the light source comprising a halogen contaim'ng lasing gas may comprise: utilizing at least one of a plurality of laser operating input and/or output parameters; utilizing a set of at least one parameter of utilization in the photolithography process to determine a gas use model in relation to the respective input or output parameter; predicting the end of gas life based upon the model and a measurement of the respective input or output parameter. The parameter may comprise a pulse utilization pattern. The method and apparatus may comprise performing gas management for a gas discharge laser light source for a photolithography process, the light source comprising a halogen containing lasing gas comprising: utilizing periodic and frequent partial gas refills comprising an inject comprising a mixture of halogen gas and bulk gas in generally the same ration as the premix ratio provided to the laser in a full gas refill, and in an amount less than two percent of the total gas pressure prior to the injection.
摘要翻译：公开了一种可以包括预测用于光刻工艺的气体放电激光源的气体寿命的方法和装置，包括卤素阻挡激光气体的光源可以包括：利用多个激光操作输入中的至少一个和/或输出参数; 在光刻工艺中利用一组至少一个利用参数来确定相对于相应的输入或输出参数的气体使用模型; 根据模型和相应的输入或输出参数的测量来预测气体寿命的结束。该参数可以包括脉冲利用模式。该方法和装置可以包括对用于光刻工艺的气体放电激光光源执行气体管理，该光源包括含卤素的激光气体，其包括：利用周期性和频繁的部分气体再填充，其包括含有卤素气体和体积的混合物气体通常与在全气体再填充中提供给激光器的预混合比率相同，并且其量小于注射前总气体压力的2％。

9. 发明申请

WO2006105101A2 GAS DISCHARGE LASER OUTPUT LIGHT BEAM PARAMETER CONTROL 审中-公开
标题翻译：气体放电激光输出光束参数控制
公开(公告)号：WO2006105101A2
公开(公告)日：2006-10-05
申请号：PCT/US2006011305
申请日：2006-03-27
申请人： CYMER INC , BESAUCELE HERVE A , FOMENKOV IGOR V , PARTLO WILLIAM N , TRINTICHOUK FEDOR , TON-THAT HAO
发明人： BESAUCELE HERVE A , FOMENKOV IGOR V , PARTLO WILLIAM N , TRINTICHOUK FEDOR , TON-THAT HAO
IPC分类号： H01S3/22
CPC分类号： H01S3/036 , H01S3/038 , H01S3/097 , H01S3/09702 , H01S3/134
摘要： A line narrowed gas discharge laser system and method of operation are disclosed which may comprise: an oscillator cavity; a laser chamber comprising a chamber housing containing a lasing medium gas; at least one peaking capacitor electrically connected to the chamber housing and to a first one of a pair of electrodes; a second one of the pair of electrodes connected to an opposite terminal of the at least one peaking capacitor; a current return path connected to the chamber housing; the one terminal, the first one of the electrodes, the lasing medium gas, the second one of the electrodes, the current return path and the second terminal forming a head current inductive loop having an inductance unique to the particular head current inductive loop; a spectral quality tuning mechanism comprising a mechanism for changing the particular head current inductive loop inductance value for the particular head current inductance loop.
摘要翻译：公开了一种窄气体放电激光系统和操作方法，其可以包括：振荡器腔; 激光室，包括容纳激光介质气体的腔室; 至少一个峰值电容器电连接到所述腔室壳体和一对电极中的第一电极; 所述一对电极中的第二个连接到所述至少一个峰值电容器的相对端子; 连接到所述腔室壳体的电流返回路径; 一个端子，电极中的第一个，激光介质气体，第二个电极，电流返回路径和第二端子，形成具有特定头电流感应环路特有的电感的磁头电流感应环路; 光谱质量调谐机构包括用于改变特定头电流电感回路的特定头电流感应环电感值的机构。

10. 发明申请

WO2006076261A2 METHOD AND APPARATUS FOR CONTROLLING THE OUTPUT OF A GAS DISCHARGE LASER SYSTEM 审中-公开
标题翻译：用于控制气体放电激光系统输出的方法和装置
公开(公告)号：WO2006076261A2
公开(公告)日：2006-07-20
申请号：PCT/US2006/000603
申请日：2006-01-09
申请人： CYMER, INC. , RULE, John, A. , ZAMBON, Paolo , WATSON, Tom, A. , MESINA, Omez, S. , ZHENG, Weijie
发明人： RULE, John, A. , ZAMBON, Paolo , WATSON, Tom, A. , MESINA, Omez, S. , ZHENG, Weijie
IPC分类号： H01S3/22
CPC分类号： H01S3/036 , H01S3/097 , H01S3/10069 , H01S3/104 , H01S3/1306 , H01S3/134 , H01S3/225 , H01S3/2258 , H01S3/2308 , H01S3/2366
摘要： The present invention relates to a fluorine gas discharge laser system and control of replenishment of fluorine gas as the gas discharge laser operates and consumes fluorine.
摘要翻译：本发明涉及一种氟气放电激光器系统，并且当气体放电激光器工作并且消耗氟时，控制补充氟气。

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