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    • 4. 发明申请
    • GAS MIXTURE CONTROL IN A GAS DISCHARGE LIGHT SOURCE
    • 气体放散光源中的气体混合控制
    • WO2017119946A1
    • 2017-07-13
    • PCT/US2016/060680
    • 2016-11-04
    • CYMER, LLC
    • AHLAWAT, RahulAGGARWAL, Tanuj
    • H01S3/036H01S3/097H01S3/225
    • H01S3/036H01S3/0014H01S3/097H01S3/0971H01S3/10069H01S3/104H01S3/225H01S3/2251H01S3/2253H01S3/2255H01S3/2256H01S3/2258H01S3/2308
    • A gas discharge light source includes a gas discharge system that includes one or more gas discharge chambers. Each of the gas discharge chambers in the gas discharge system is filled with a respective gas mixture. For each gas discharge chamber, a pulsed energy is supplied to the respective gas mixture by activating its associated energy source to thereby produce a pulsed amplified light beam from the gas discharge chamber. One or more properties of the gas discharge system are determined. A gas maintenance scheme is selected from among a plurality of possible schemes based on the determined one or more properties of the gas discharge system. The selected gas maintenance scheme is applied to the gas discharge system. A gas maintenance scheme includes one or more parameters related to adding one or more supplemental gas mixtures to the gas discharge chambers of the gas discharge system.
    • 气体放电光源包括气体放电系统,其包括一个或多个气体放电室。 气体排放系统中的每个气体排放室均填充有各自的气体混合物。 对于每个气体放电室,通过激活其相关联的能量源将脉冲能量供应到相应的气体混合物,从而从气体放电室产生脉冲放大的光束。 确定气体排放系统的一个或多个特性。 基于确定的气体排放系统的一个或多个性质,从多种可能的方案中选择气体维护方案。 选定的气体维护方案适用于气体排放系统。 气体维护方案包括与将一种或多种补充气体混合物添加到气体排放系统的气体排放室有关的一个或多个参数。
    • 8. 发明申请
    • 高電圧パルス発生装置及びガスレーザ装置
    • 高电压脉冲发生器和气体激光器件
    • WO2016152738A1
    • 2016-09-29
    • PCT/JP2016/058564
    • 2016-03-17
    • 国立大学法人長岡技術科学大学ギガフォトン株式会社
    • 江 偉華梅田 博溝口 計松永 隆對馬 弘朗大久保 智幸
    • H01S3/097H02M9/04
    • H01S3/09702H01S3/036H01S3/038H01S3/041H01S3/08009H01S3/0971H01S3/10069H01S3/134H01S3/225
    •  高電圧パルス発生装置は、パルストランスの1次側において互いに並列に接続されたn(nは2以上の自然数)個の1次側電気回路と、ガスレーザ装置のレーザチャンバ内に配置された一対の放電電極に接続された前記パルストランスの2次側電気回路と、を備え、n個の1次側電気回路は、互いに並列に接続されたn個の1次側コイルと、n個の1次側コイルにそれぞれ並列に接続されたn個のコンデンサと、n個のコンデンサにそれぞれ直列に接続されたn個のスイッチと、を含み、n個のコンデンサをそれぞれ充電するn個の充電器に接続され、2次側電気回路は、互いに直列に接続されたn個の2次側コイルと、n個の2次側コイルの各両端にそれぞれ接続され一対の放電電極から2次側コイル側に向かって逆電流が流れることを抑制するn個のダイオードと、を含んでもよい。 
    • 高电压脉冲发生装置包括在脉冲变压器的初级侧彼此并联连接的n个初级侧电路(n为2以上的自然数),并且脉冲变压器的次级侧电路连接 涉及设置在气体激光装置的激光室内的一对放电电极。 n个初级侧电路可以包括彼此并联连接的n个初级侧线圈,分别与n个初级侧线圈并联连接的n个电容器和分别与n个电容器串联连接的n个开关。 n个初级侧电路可以连接到分别对n个电容器充电的n个充电器。 次级侧电路可以包括彼此串联连接的n个次级侧线圈,以及分别连接到n个次级侧线圈的两端的n个二极管,并且防止反向电流从一对放电电极朝向次级侧线圈 。
    • 9. 发明申请
    • 高電圧パルス発生装置及びガスレーザ装置
    • 高电压脉冲发生器和气体激光器件
    • WO2016151796A1
    • 2016-09-29
    • PCT/JP2015/059106
    • 2015-03-25
    • 国立大学法人長岡技術科学大学ギガフォトン株式会社
    • 江 偉華梅田 博溝口 計松永 隆對馬 弘朗
    • H01S3/097H02M9/04
    • H01S3/09702H01S3/036H01S3/038H01S3/041H01S3/08009H01S3/0971H01S3/10069H01S3/134H01S3/225
    • パルスレーザ光の発振効率を向上させ得る。 高電圧パルス発生装置は、ガスレーザ装置のレーザチャンバ内に配置された一対の放電電極間にパルス状の高電圧を印加する高電圧パルス発生装置であって、パルストランスの1次側において互いに並列に接続されたn(nは2以上の自然数)個の1次側電気回路と、前記一対の放電電極に接続された前記パルストランスの2次側電気回路と、を備え、前記n個の1次側電気回路は、互いに並列に接続されたn個の1次側コイルと、前記n個の1次側コイルにそれぞれ並列に接続されたn個のコンデンサと、前記n個のコンデンサにそれぞれ直列に接続されたn個のスイッチと、を含み、前記2次側電気回路は、互いに直列に接続されたn個の2次側コイルと、前記一対の放電電極から前記2次側コイル側に向かって逆電流が流れることを抑制するダイオードと、を含んでもよい。
    • 本发明可以提高脉冲激光的振荡效率。 高电压脉冲发生装置在布置在气体激光装置的激光室内的一对放电电极之间以脉冲的形式施加高电压。 高电压脉冲发生装置包括在脉冲变压器的初级侧彼此并联连接的n个初级侧电路(n为2以上的自然数),并且脉冲变压器的次级侧电路连接 到一对放电电极。 n个初级侧电路可以包括彼此并联连接的n个初级侧线圈,分别与n个初级侧线圈并联连接的n个电容器和分别与n个电容器串联连接的n个开关。 次级侧电路可以包括彼此串联连接的n个次级侧线圈和用于防止反向电流从一对放电电极流动并且朝向次级侧线圈定向的二极管。
    • 10. 发明申请
    • SYSTEMS AND METHODS FOR SUPPLYING POWER TO AND COOLING DENTAL LASER SYSTEMS
    • 用于供电和冷却牙科激光系统的系统和方法
    • WO2016086183A1
    • 2016-06-02
    • PCT/US2015/062766
    • 2015-11-25
    • CONVERGENT DENTAL, INC.
    • MONTY, Nathan, P.GROVES, William, Harris
    • H01S3/097H01S3/041H01S3/0971H01S3/104H01S3/223H01S3/03H01S3/04A61C1/00
    • H01S3/1024A61C1/0046H01S3/0315H01S3/0407H01S3/041H01S3/09702H01S3/0971H01S3/0975H01S3/10046H01S3/104H01S3/2232
    • A dental laser system (12) is configured to provide high peak laser power, low duty cycle laser pulses, yielding a low average laser power and thus a reduced need for cooling. The laser power system may be configured to provide the electrical power required to produce the low average laser power and not the high peak laser power, and may include a capacitor bank section having at least one capacitor (50) configured to provide the electrical power needed to produce the high peak power laser pulses. The capacitors (50) are charged by a power supply comprising an AC filter (42) for removing noise and an AC-DC converter (44) charging the capacitors. At least 75% of the electrical power supplied to the laser should be delivered by the capacitors, the remainder directly from the AC-DC converter. The electrical power is supplied to the laser (12) by twisted lines (52,54) in order to reduce noise. The cooling system may be configured to provide laser cooling for the low average power level and thus may not require a refrigeration unit.
    • 牙科激光系统(12)被配置为提供高峰值激光功率,低占空比激光脉冲,产生低平均激光功率,从而降低对冷却的需要。 激光功率系统可以被配置为提供产生低平均激光功率而不是高峰值激光功率所需的电功率,并且可以包括具有至少一个电容器(50)的电容器组部分,其被配置为提供所需的电功率 以产生高峰值功率激光脉冲。 电容器(50)由包括用于去除噪声的AC滤波器(42)的电源和对电容器充电的AC-DC转换器(44)充电。 供应给激光器的电力的至少75%应由电容器传送,其余部分直接来自AC-DC转换器。 电力通过扭绞线(52,54)提供给激光器(12),以减少噪音。 冷却系统可以被配置为为低平均功率水平提供激光冷却,并且因此可以不需要制冷单元。