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    • 3. 发明申请
    • COMPARISON OPERATIONS IN MEMORY
    • 内存中的比较操作
    • WO2016036912A1
    • 2016-03-10
    • PCT/US2015/048248
    • 2015-09-03
    • MICRON TECHNOLOGY, INC.
    • TIWARI, Sanjay
    • G11C7/06G11C7/10G06F12/02
    • G11C7/22G11C7/065G11C7/1006G11C7/1012G11C7/106G11C7/12G11C8/10
    • The present disclosure includes apparatuses and methods related to performing comparison operations in memory. An example apparatus can include a first group of memory cells coupled to a first access line and configured to store a plurality of first elements, and a second group of memory cells coupled to a second access line and configured to store a plurality of second elements. The apparatus can include a controller configured to cause the plurality of first elements to be compared with the plurality of second elements by controlling sensing circuitry to perform a number of operations without transferring data via an input/output (I/O) line, and the plurality of first elements and the plurality of second elements can be compared in parallel.
    • 本公开包括与在存储器中执行比较操作有关的装置和方法。 示例性设备可以包括耦合到第一接入线路并被配置为存储多个第一元件的第一组存储器单元,以及耦合到第二接入线路并被配置为存储多个第二元件的第二组存储器单元。 该装置可以包括:控制器,被配置为通过控制感测电路来执行多个操作而不经由输入/输出(I / O)线传输数据,使多个第一元件与多个第二元件进行比较, 可以并行地比较多个第一元件和多个第二元件。
    • 4. 发明申请
    • 半導体装置
    • 半导体器件
    • WO2014112472A1
    • 2014-07-24
    • PCT/JP2014/050447
    • 2014-01-14
    • ピーエスフォー ルクスコ エスエイアールエル木伏 明彦大神 武士渡邉 由布子白子 剛史
    • 木伏 明彦大神 武士渡邉 由布子白子 剛史
    • H01L21/8242G11C11/401G11C11/4094H01L27/108
    • G11C11/4094G11C5/025G11C7/1039G11C7/106G11C11/4097H01L27/10897
    • 【課題】ビット線イコライズ回路の占有面積を抑えつつプリチャージ特性を向上させる。 【解決手段】ビット線BLT1,BLB1がそれぞれ接続される拡散層領域SDT1,SDB1と、プリチャージ電位VBLPが供給される拡散層領域SDEQと、ゲート電極Gとを備える。ゲート電極Gは、Y方向に延在する部分G12と、X方向に延在する部分G3とを含む。ゲート電極G12に覆われた部分はチャネル領域CH12を構成し、ゲート電極G3に覆われた部分はチャネル領域CH3を構成する。拡散層領域SDT1は、Y方向において拡散層領域SDB1,SDEQ間に位置している。拡散層領域SDT1,SDB1と拡散層領域SDEQはチャネル領域CH12を介して接続され、拡散層領域SDT1と拡散層領域SDB1はチャネル領域CH3を介して接続される。本発明によれば、チャネル幅CH3を十分に確保できる。
    • [问题]提高预充电特性同时减少位线均衡电路所占据的空间。 [解决方案]半导体器件设置有分别连接有位线(BLT1,BLB1)的扩散层区域(SDT1,SDB1),要提供预充电电位(VBLP)的扩散层区域(SDEQ),以及 栅电极(G)。 栅电极(G)包括向Y方向延伸的部分(G12)和向X方向延伸的部分(G3)。 覆盖有栅极(G12)的部分构成沟道区(CH12),被栅电极(G3)覆盖的部分构成沟道区(CH3)。 扩散层区域(SDT1)位于Y方向观察到的扩散层区域(SDB1,SDEQ)之间。 扩散层区域(SDT1,SDB1)与沟道区域(CH12)之间的扩散层区域(SDEQ)连接,扩散层区域(SDT1)与沟道区域(SDB1)连接,扩散层区域 区域(CH3)。 根据本发明,可以确保足够的通道宽度(CH3)。