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1. 发明申请

WO2018165130A1 COATED ARTICLE HAVING LOW-E COATING WITH IR REFLECTING LAYER(S) AND DOPED TITANIUM OXIDE BI-LAYER FILM DIELECTRIC AND METHOD OF MAKING SAME 审中-公开
公开(公告)号：WO2018165130A1
公开(公告)日：2018-09-13
申请号：PCT/US2018/021106
申请日：2018-03-06
申请人： GUARDIAN GLASS, LLC
发明人： SARAF, Gaurav , DING, Guowen , LE, Minh , SCHWEIGERT, Daniel , ZHANG, Guizhen , LEE, Daniel , JEWHURST, Scott , CLAVERO, Cesar , FRANK, Marcus , MURPHY, Nestor, P.
IPC分类号： C03C17/36
CPC分类号： C03C17/3618 , C03C17/3642 , C03C17/3644 , C03C17/3649 , C03C17/3652 , C03C17/366 , C03C17/3681 , C03C2217/212 , C03C2218/154 , C23C14/083 , C23C14/185 , C23C14/34 , G02B5/0858 , G02B5/282
摘要： A coated article includes a low emissivity (low-E) coating having at least one infrared (IR) reflecting layer of a material such as silver, gold, or the like, and at least one high refractive index bi-layer film of or including doped titanium oxide (e.g., TiO 2 doped with at least one additional element). The titanium oxide based bi-layer film may be of or include a first titanium oxide based layer doped with a first element, and an adjacent second titanium oxide based layer doped with a different second element.

2. 发明申请

WO2017066473A1 OPTICAL FILTER WITH SELECTIVE TRANSMITTANCE AND REFLECTANCE 审中-公开
标题翻译：具有选择性透射和反射的光学滤波器
公开(公告)号：WO2017066473A1
公开(公告)日：2017-04-20
申请号：PCT/US2016/056882
申请日：2016-10-13
申请人： VISION EASE, LP
发明人： BROWN, Jeff , MARSHALL, Michael L. , BOULINEAU, Michael S.
IPC分类号： G02B1/10 , B32B17/10 , G02B1/04 , G02B5/22
CPC分类号： G02B5/22 , C23C14/0641 , C23C14/083 , C23C14/10 , C23C14/205 , C23C14/34 , G02B5/208 , G02B5/26 , G02B5/283 , G02B5/285 , G02C7/10 , G02C7/107
摘要： An optical filter providing selective transmittance of target wavelengths of light and tunable, differential front and back surface reflectance.
摘要翻译：
提供光的目标波长的选择透射率和可调的前后差表面反射率的光学滤波器。

3. 发明申请

WO2017013351A1 ARTICLE CULINAIRE COMPRENANT UNE COUCHE D'OXYDE DE TERRE RARE 审中-公开
标题翻译：包含稀土氧化物层的主体项目
公开(公告)号：WO2017013351A1
公开(公告)日：2017-01-26
申请号：PCT/FR2016/051857
申请日：2016-07-19
申请人： SEB S.A.
发明人： POLESEL MARIS, Jérôme , CAILLIER, Laurent , DUBANCHET, Aurélien
IPC分类号： C25D9/12 , A47J36/02 , B05D5/08 , C23C14/08 , C25D15/00 , C23C18/12 , C23C4/11
CPC分类号： C23C18/1216 , A47J36/025 , B05D1/10 , B05D5/083 , B05D2202/25 , C23C4/11 , C23C4/129 , C23C4/134 , C23C14/083 , C23C14/34 , C23C18/1254 , C23C18/1258 , C23C18/127 , C23C18/1291 , C25D9/12 , C25D15/00
摘要： La présente invention concerne de manière générale un article culinaire dont au moins l'une des faces est munie d'un revêtement comprenant au moins une couche d'oxyde de terre rare. Un tel revêtement a la particularité de présenter non seulement une dureté mécanique et une résistance à l'abrasion comparables à celles des émaux et céramiques, mais également d'excellentes propriétés intrinsèques d'hydrophobie permettant au revêtement obtenu de présenter une antiadhésivité comparable à celle des revêtements fluorocarbonés et adaptée à l'application culinaire.
摘要翻译：本发明一般涉及烹饪物品，其一个表面设置有包括至少一个稀土氧化物层的涂层。这样的涂层具有的特征不仅具有与搪瓷和陶瓷相当的机械硬度和耐磨性，而且具有优异的内在疏水性能，使得所得到的涂层具有与氟碳涂层相当的不粘性并适合烹饪应用。

4. 发明申请

WO2016180447A1 METHOD OF MANUFACTURING A LAYER FOR DISPLAY MANUFACTURING USING HYDROGEN AND APPARATUS THEREFORE 审中-公开
标题翻译：使用氢气和装置制造显示器制造层的方法
公开(公告)号：WO2016180447A1
公开(公告)日：2016-11-17
申请号：PCT/EP2015/060232
申请日：2015-05-08
申请人： APPLIED MATERIALS, INC. , SEVERIN, Daniel , KLÖPPEL, Andreas , HANIKA, Markus , BENDER, Marcus
发明人： SEVERIN, Daniel , KLÖPPEL, Andreas , HANIKA, Markus , BENDER, Marcus
IPC分类号： C23C14/08 , C23C14/34 , C23C14/54
CPC分类号： C23C14/083 , C23C14/3492 , C23C14/54
摘要： A method of manufacturing a layer for a plurality of thin film transistors for display manufacturing and an apparatus therefore is described. The method includes sputtering a transparent conductive oxide layer from an indium oxide containing target in a processing gas atmosphere. The processing gas atmosphere includes H 2 , O 2 , and an inert gas, wherein the content of H 2 is from 2.2% to 20.0%, the content of O 2 is from 0.5% to 15.0%, and the content of inert gas is from 65.0% to 97.3 %. The apparatus (200) includes a vacuum chamber (210); one or more indium oxide containing targets (220a, 220b) within the vacuum chamber for sputtering a transparent conductive oxide layer; a gas distribution system (230) for providing a processing gas within the vacuum chamber; and a controller (240) connected to the gas distribution system and configured to execute a program code for conducting the method.
摘要翻译：因此，制造用于显示制造的多个薄膜晶体管的层的方法和装置。该方法包括在处理气体气氛中从含氧化铟的靶溅射透明导电氧化物层。处理气体气氛包括H 2，O 2和惰性气体，其中H 2的含量为2.2％至20.0％，O 2的含量为0.5％至15.0％，惰性气体的含量为65.0％至 97.3％。设备（200）包括真空室（210）; 在真空室内的一个或多个含氧化铟的靶（220a，220b）用于溅射透明导电氧化物层; 气体分配系统（230），用于在所述真空室内提供处理气体; 以及连接到所述气体分配系统并被配置为执行用于执行所述方法的程序代码的控制器（240）。

5. 发明申请

WO2016151357A1 METHOD FOR THE DEPOSITION OF FILMS OF MIXED OXIDES ON COMPOSITE MATERIAL SUBSTRATES 审中-公开
标题翻译：在复合材料基体上沉积混合氧化物膜的方法
公开(公告)号：WO2016151357A1
公开(公告)日：2016-09-29
申请号：PCT/IB2015/052061
申请日：2015-03-20
申请人： EDISON S.P.A.
发明人： BINDI, Massimiliano
IPC分类号： C23C14/08 , C23C14/30 , C23C14/54 , C23C14/58 , H01M8/12 , H01M4/86 , H01M4/88 , H01M4/90
CPC分类号： H01M8/1246 , C23C14/08 , C23C14/083 , C23C14/30 , H01M4/8621 , H01M4/8652 , H01M4/8867 , H01M4/8885 , H01M4/9033 , H01M8/126 , H01M8/1266 , H01M2300/0074 , H01M2300/0091 , Y02E60/525 , Y02P70/56
摘要： In a method for the deposition of a film of mixed oxide on a composite material substrate, a step of evaporation-deposition of the mixed oxide, carried out with the aid of an electron beam sent to a target of mixed oxide having the same stoichiometric composition as the film to deposit, is carried out at an increasing deposition rate, measured on the substrate; in particular, the evaporation-deposition step comprises at least one first step of growth carried out at a deposition rate lower than or equal to a predetermined threshold, and at least one second step of growth carried out at a deposition rate higher than the threshold.
摘要翻译：在用于在复合材料基板上沉积混合氧化物膜的方法中，借助于发送到具有相同化学计量组成的混合氧化物的靶的电子束进行蒸发沉积混合氧化物的步骤作为沉积的膜，以在衬底上测量的增加的沉积速率进行; 特别地，蒸发沉积步骤包括以低于或等于预定阈值的沉积速率进行生长的至少一个第一步骤，以及以高于阈值的沉积速率进行的至少一个第二生长步骤。

6. 发明申请

WO2016143747A1 スパッタリング装置审中-公开
标题翻译：喷射装置
公开(公告)号：WO2016143747A1
公开(公告)日：2016-09-15
申请号：PCT/JP2016/057015
申请日：2016-03-07
申请人：株式会社トプコン
发明人：秋葉　正博 , 山口　義宏 , 瀬田　誠
IPC分类号： C23C14/50 , C23C14/34 , H01L21/677
CPC分类号： C23C14/34 , C23C14/083 , C23C14/10 , C23C14/50 , C23C14/505 , C23C14/548 , C23C14/568 , G02B1/10 , G11B7/265 , H01J37/3414 , H01J37/3447 , H01L21/67201 , H01L21/677 , H01L21/68764 , H01L21/68771
摘要：　各種の要求に対応できるスパッタリング装置を提供することを目的とする。　減圧容器１０１内に配置される回転を独自に制御可能な自公転テーブルと、前記自公転テーブル上に配置される複数のワーク１０７に対し、前記自公転テーブルの公転軌道上に設けられた複数のスパッタリングターゲットおよびプラズマ処理を行うＲＦプラズマ源と、前記自公転テーブル上にワークをセットするためのロードロック室１０２とを有し、前記自公転テーブルは、公転テーブル１０４上に複数の自転テーブル１０５が配置された構造を有し、公転テーブル１０４の回転と自転テーブル１０５の回転とが独立に制御可能であることを特徴とする。
摘要翻译：本发明的目的是提供能够满足各种要求的溅射装置。该溅射装置的特征在于：溅射装置包括旋转和旋转台，它们设置在真空容器101中，并被构造成可以独立地控制旋转台和旋转台中的每一个的旋转，多个溅射靶和用于等离子体处理的RF等离子体源，其设置在旋转台和旋转台的转动路径中并且面对设置在旋转台和转台上的多个工件107，以及用于将工件设置在旋转和旋转台; 旋转台和旋转台由设置在其上的旋转台104和多个旋转台105构成; 可以独立地控制旋转台104的旋转和旋转台105的旋转。

7. 发明申请

WO2016109481A2 COATINGS FOR SURGICAL INSTRUMENTS 审中-公开
标题翻译：手术器械涂层
公开(公告)号：WO2016109481A2
公开(公告)日：2016-07-07
申请号：PCT/US2015067782
申请日：2015-12-29
申请人： DEPUY SYNTHES PRODUCTS INC
发明人： SUKADHARE DAYANANDA , SELOVER SEAN
IPC分类号： A61L2/232
CPC分类号： C23C14/0641 , A61L2/232 , A61L27/306 , A61L31/082 , A61L2420/08 , A61L2430/38 , C23C14/0068 , C23C14/0089 , C23C14/022 , C23C14/083 , C23C14/325 , C23C14/5826
摘要： A coated medical instrument can include a first layer bonded to a metal substrate surface of a medical instrument, a second layer bonded to the first layer, and a third layer disposed on the second layer, The first layer comprises chromium (Cr), hafnium (Hf), titanium (Ti), and/or niobium (Nb). The second layer comprises a nitride, oxide, carbide, carbonitride, or boride of chromium (Cr), hafnium (Hf), niobium (Nb), tungsten (W), titanium (Ti), aluminum (Al), zirconium (Zr), and/or silicon (Si). The third layer comprises a nitride, oxide, carbide, boride, oxynitride, oxycarbide, or oxycarbonitride of chromium (Cr), hafnium (Hf), niobium (Nb), tungsten (W), titanium (Ti), aluminum (Al), zirconium (Zr), and/or silicon (Si). Methods for making coated medical instruments are also disclosed herein.
摘要翻译：涂覆的医疗器械可以包括结合到医疗器械的金属衬底表面的第一层，与第一层结合的第二层和设置在第二层上的第三层。第一层包括铬（Cr），铪 Hf），钛（Ti）和/或铌（Nb）。第二层包括铬（Cr），铪（Hf），铌（Nb），钨（W），钛（Ti），铝（Al），锆（Zr）等的氮化物，氧化物，碳化物，碳氮化物或硼化物，，和/或硅（Si）。第三层包括铬（Cr），铪（Hf），铌（Nb），钨（W），钛（Ti），铝（Al）等的氮化物，氧化物，碳化物，硼化物，氧氮化物，碳氮氧化物或碳氮氧化物，锆（Zr）和/或硅（Si）。本文还公开了制备涂覆医疗器械的方法。

8. 发明申请

WO2016071000A1 METAL OXIDE THIN FILM, METHOD FOR DEPOSITING METAL OXIDE THIN FILM AND DEVICE COMPRISING METAL OXIDE THIN FILM 审中-公开
标题翻译：金属氧化物薄膜，用于沉积金属氧化物薄膜的方法和包含金属氧化物薄膜的装置
公开(公告)号：WO2016071000A1
公开(公告)日：2016-05-12
申请号：PCT/EP2015/002229
申请日：2015-11-05
申请人： PLANSEE SE
发明人： HITOSUGI, Taro
IPC分类号： C04B35/495 , C04B35/622 , C09K9/00 , C23C14/08 , G02F1/15 , G06F3/044
CPC分类号： H01B1/08 , C04B35/495 , C04B35/62218 , C09K9/00 , C23C14/083 , C23C14/085 , C23C14/3414 , C23C14/3464 , C23C14/5806 , E06B9/24 , E06B2009/247 , G02F1/13338 , G02F1/1523 , G02F2202/06
摘要： The invention relates to a metal oxide thin film comprising β-ΜοO3 comprising at least one doping element of the group Re, Mn, and Ru. Further, the invention relates to a method of producing such a metal oxide thin film via sputtering and a thin film device comprising a metal oxide thin film comprising β-ΜοO3 comprising at least one doping element of the group Re, Mn, and Ru.
摘要翻译：本发明涉及一种金属氧化物薄膜，其包含包含Re，Mn和Ru组中的至少一种掺杂元素的β-MoO 3。此外，本发明涉及通过溅射制造这种金属氧化物薄膜的方法，以及包括包含至少一种Re，Mn和Ru族掺杂元素的β-MoO 3的金属氧化物薄膜的薄膜器件。

9. 发明申请

WO2016044212A1 HIGH-EFFICIENCY MULTIWAVELENGTH BEAM EXPANDER EMPLOYING DIELECTRIC-ENHANCED MIRRORS 审中-公开
标题翻译：使用电介质增强镜的高效率多波长光束扩展器
公开(公告)号：WO2016044212A1
公开(公告)日：2016-03-24
申请号：PCT/US2015/050094
申请日：2015-09-15
申请人： CORNING INCORPORATED
发明人： WANG, Jue
IPC分类号： G02B5/08 , G02B27/09
CPC分类号： G02B27/0983 , C23C14/083 , C23C14/10 , C23C14/22 , G02B1/10 , G02B5/0833 , G02B5/0858 , G02B5/0891 , G02B19/0023
摘要： A high-efficiency, multiwavelength beam-expander optical system that employs dielectric-enhanced mirrors is disclosed. Each mirror includes a reflective multilayer coating formed from alternating layers of HfO 2 and SiO 2 that define, in order from the substrate surface, at least first and second sections, wherein the HfO 2 /SiO 2 layer thicknesses are generally constant within a given section and get smaller section by section moving outward from the substrate surface. The first and second sections are respectively configured to optimally reflect different operating wavelengths so that the beam-expander optical system has an optical transmission of greater than 95% at the different operating wavelengths.
摘要翻译：公开了一种采用电介质增强反射镜的高效率，多波长光束扩展器光学系统。每个反射镜包括由HfO 2和SiO 2的交替层形成的反射多层涂层，其从衬底表面依次限定至少第一和第二部分，其中HfO 2 / SiO 2层厚度在给定部分内通常是恒定的并且获得较小的部分通过从衬底表面向外移动。第一和第二部分分别被配置为最佳地反映不同的工作波长，使得光束扩展器光学系统在不同的工作波长下具有大于95％的光传输。

10. 发明申请

WO2016017589A1 酸化物焼結体、その製造方法及びスパッタリングターゲット审中-公开
标题翻译：氧化物烧结紧密，其生产方法和喷射目标
公开(公告)号：WO2016017589A1
公开(公告)日：2016-02-04
申请号：PCT/JP2015/071261
申请日：2015-07-27
申请人：東ソー株式会社
发明人：尾身　健治 , 伊藤　謙一 , 内海　健太郎
IPC分类号： C04B35/453 , C23C14/34
CPC分类号： C23C14/086 , C04B35/44 , C04B35/453 , C04B35/462 , C04B35/64 , C04B2235/3217 , C04B2235/3222 , C04B2235/3232 , C04B2235/3234 , C04B2235/3284 , C04B2235/5409 , C04B2235/5436 , C04B2235/5445 , C04B2235/5463 , C04B2235/602 , C04B2235/656 , C04B2235/6562 , C04B2235/6565 , C04B2235/6567 , C04B2235/6585 , C04B2235/6586 , C04B2235/77 , C04B2235/80 , C23C14/08 , C23C14/081 , C23C14/083 , C23C14/34 , C23C14/3414 , H01B1/023 , H01B1/08 , H01B5/14
摘要：　本発明の目的は、高パワー成膜時においても異常放電現象が少なく、ターゲット割れのない、スパッタリングターゲットに用いられる酸化物焼結体を提供することである。　構成元素として亜鉛、アルミニウム、チタン及び酸素を有する酸化物焼結体であって、当該焼結体を構成する元素の原子比が、亜鉛、アルミニウム、チタンの含有量をそれぞれＺｎ、Ａｌ、Ｔｉとしたときに、　Ａｌ／（Ｚｎ＋Ａｌ＋Ｔｉ）＝０．０３５～０．０５０　Ｔｉ／（Ｚｎ＋Ａｌ＋Ｔｉ）＝０．０５～０．２０であり、当該焼結体中のＺｎ２ＴｉＯ４結晶相を母相とする結晶粒の平均粒径が５μｍ以下であることを特徴とする酸化物焼結体。
摘要翻译：本发明的目的是提供一种用于溅射靶的氧化物烧结体，即使在高功率沉积期间也几乎没有发生异常放电，并且在靶中不发生龟裂。作为构成元素的具有锌，铝，钛和氧的氧化物烧结体，其特征在于，构成烧结体的元素的原子比为Al /（Zn + Al + Ti）= 0.035〜0.050 Ti /（Zn + Al + Ti）= 0.05-0.20，其中Zn，Al和Ti分别表示锌，铝和钛的含量，以Zn2TiO4结晶相为基体的晶粒的平均粒径为5μm 或更少。

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