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    • 6. 发明申请
    • 半導体装置
    • 半导体器件
    • WO2004082034A1
    • 2004-09-23
    • PCT/JP2004/002982
    • 2004-03-08
    • 住友電気工業株式会社石津 定桧垣 賢次郎石井 隆筑木 保志
    • 石津 定桧垣 賢次郎石井 隆筑木 保志
    • H01L33/00
    • H01L33/642H01L33/46H01L33/62H01L33/641H01L2224/48091H01L2224/49107H01L2924/00014
    •  半導体素子から発生する熱を十分に除去することができる半導体装置を提供する。半導体装置100は、底面2bと、その底面2bと反対側に位置する素子載置面2aとを有する基板2と、素子載置面2aに載置される主面1aを有する半導体素子1とを備える。主面1の長辺方向の長さをLと、底面2bから素子載置面2aまでの距離Hとの比率H/Lは0.3以上である。半導体素子が発光素子の場合、素子載置面2aは凹部2uをなし、そこに同素子1が配設され設けられ、凹部2uの表面には、金属層13が設けられている。また主面1aに外部と接続する電極32を設ける場合には、それを接続する部分の凹部側の主面1a上には、同電極32の接続部材34の流出を防ぐための溝が設けられている。
    • 可以充分地去除从半导体元件产生的热量的半导体器件。 半导体器件(100)包括具有底面(2b)和与底面(2b)相对设置的元件安装面(2a)的基板(2)和具有主表面(1a)的半导体元件 )安装在元件安装面(2a)上。 长边方向上的主表面(1a)的长度L与从底面(2b)到元件安装面(2a)的距离H之间的比率H / L设定为不小于3.0。 当半导体元件是发光元件时,元件安装面(2a)成为用于接收元件(1)的凹部(2u),并且在凹部(2u)的表面上设置有金属层(13)。 当用于外部连接的电极(32)设置在主表面(1a)上时,在连接部分的主表面(1a)中形成用于防止电极(32)的连接材料(34)流出的槽 在凹槽侧。
    • 8. 发明申请
    • 加熱用窒化アルミニウム基板、加熱装置および加熱用窒化アルミニウム基板の製造方法
    • 加热氮化铝板,加热器和制造加热氮化铝板的工艺
    • WO2008001579A1
    • 2008-01-03
    • PCT/JP2007/061164
    • 2007-06-01
    • 株式会社アライドマテリアル石津 定廣瀬 義幸成田 雅士筑木 保志
    • 石津 定廣瀬 義幸成田 雅士筑木 保志
    • H05B3/10G03G15/20H05B3/00H05B3/16H05B3/20
    • H05B3/0095G03G15/20
    •  簡単な構成で電極部の温度上昇を防止することが可能な加熱用窒化アルミニウム基板、加熱装置および加熱用窒化アルミニウム基板の製造方法を提供する。加熱用窒化アルミニウム基板(100)は、相対的に高い熱伝導率を有する高熱伝導部分(110)と、相対的に低い熱伝導率を有する低熱伝導部分(120)とを備える。高熱伝導部分(110)は、少なくとも発熱体の一部が形成されるべき平面領域に配置されている。低熱伝導部分(120)は、少なくとも電極の一部が形成されるべき平面領域に配置されている。セラミックヒーター(1)は加熱用窒化アルミニウム基板(10)と高熱伝導部(11)に形成された発熱層(20)と低熱伝導部分(12)に形成された電極層(30)とを備える。酸化雰囲気中で窒化アルミニウム基板を部分的に酸化して、酸化アルミニウムを含む部分を窒化アルミニウム基板内に形成することによって低熱伝導部分(120)を形成する。
    • 一种加热氮化铝板,通过简单的结构,可以防止电极部分的任何温度升高; 相关加热器 以及这种加热氮化铝板的制造方法。 加热氮化铝板(100)包括具有较高导热率的高导热部分(110)和具有相对较低导热率的低导热部分(120)。 高导热部分(110)设置在平面区域中,以提供至少一部分发热体。 低导热部分(120)设置在平面区域中,以设置至少一部分电极。 提供包括加热氮化铝板(10)的陶瓷加热器(1); 放置在高导热部分(11)中的发热层(20); 和放置在低导热部分(12)中的电极层(30)。 低导热部分(120)在氧化气氛中通过部分氧化氮化铝板形成,从而在氮化铝板中提供含有氧化铝的部分。