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1. 发明专利

TWI610043B 模組化化學傳遞系統有权
简体标题：模块化化学传递系统
公开(公告)号：TWI610043B
公开(公告)日：2018-01-01
申请号：TW102141904
申请日：2013-11-18
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：高建德 , KAO, CHIEN-TEH , 張鎂 , CHANG, MEI , 林偉雄 , LAM, HYMAN W. H. , 張鈾 , CHANG, YU , 休斯頓約耳M , HUSTON, JOEL M. , 古法西歐肯 , CUVALCI, OLKAN
IPC分类号： F17C13/02 , F17C13/04 , B01J4/00 , C23C16/455
CPC分类号： H01L21/67017 , Y10T137/8593

2. 发明专利

TWI599403B 用於自容器卸載微粒材料之方法及裝置有权
简体标题：用于自容器卸载微粒材料之方法及设备
公开(公告)号：TWI599403B
公开(公告)日：2017-09-21
申请号：TW102132391
申请日：2013-09-09
申请人：帕卓法公司 , PETROVAL
发明人：史丹德艾卓安 , STANDER, ADRIAAN
IPC分类号： B01J4/00 , B01J8/18
CPC分类号： B01J4/001 , B01J8/004 , B01J2208/00761 , B65G53/42 , Y10T137/0318 , Y10T137/8593

3. 发明专利

TWI587358B 處理腔室氣體流動的裝置、系統及方法有权
简体标题：处理腔室气体流动的设备、系统及方法
公开(公告)号：TWI587358B
公开(公告)日：2017-06-11
申请号：TW102143863
申请日：2013-11-29
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：馬利尼爾 , MERRY, NIR , 賽帕寇錢德肯特M , SAPKALE, CHANDRAKANT M. , 慕蘇坎齊卡瑞普賽彌 , MUTHUKAMTCHI, KARUPPASAMY , 休根斯傑佛瑞C , HUDGENS, JEFFREY C. , 肯可那潘契拉N , KANKANLA, PENCHALA N.
IPC分类号： H01L21/02 , G05D16/10 , G05D16/16 , H01L21/205 , H01L21/3063
CPC分类号： F16K51/00 , C23C16/4412 , F16K1/24 , F16K31/00 , F16K51/02 , Y10T137/0318 , Y10T137/8593

4. 发明专利

TWI557771B 包括遠端摻雜劑來源的離子佈植器系統以及包含該離子佈植器系統之方法有权
简体标题：包括远程掺杂剂来源的离子布植器系统以及包含该离子布植器系统之方法
公开(公告)号：TWI557771B
公开(公告)日：2016-11-11
申请号：TW100144060
申请日：2011-11-30
申请人：恩特葛瑞斯股份有限公司 , ENTEGRIS, INC.
发明人：歐蘭德W 卡爾 , OLANDER, W. KARL , 克雷姆羅伯特 , KAIM, ROBERT , 史溫尼約瑟夫D , SWEENEY, JOSEPH D. , 迪斯彼喬瑟夫R , DESPRES, JOSEPH R.
IPC分类号： H01J37/317 , H01J37/08
CPC分类号： C23C14/48 , H01J37/08 , H01J37/3171 , H01J2237/006 , Y10T137/8593

5. 发明专利

TWI538046B 氣體輸送系統之塗覆方法有权
简体标题：气体输送系统之涂覆方法
公开(公告)号：TWI538046B
公开(公告)日：2016-06-11
申请号：TW100110182
申请日：2011-03-24
申请人：蘭姆研究公司 , LAM RESEARCH CORPORATION
发明人：肯沃西意恩 , KENWORTHY, IAN , 奧特卡道恩 , OUTKA, DUANE , 郝芳莉 , HAO, FANGLI , 夏普勒斯李奧納多 , SHARPLESS, LEONARD , 杜益君 , DU, YIJUN
IPC分类号： H01L21/3065 , B05D7/22
CPC分类号： F17D5/005 , B05D1/30 , B05D7/222 , F17D1/04 , H01J37/3244 , H01J37/32495 , H01J2237/3341 , H01L21/67069 , Y10T137/8593

6. 发明专利

TWI532530B 具有浸入通道之多層微流體探針頭及其製造方法有权
简体标题：具有浸入信道之多层微流体探针头及其制造方法
公开(公告)号：TWI532530B
公开(公告)日：2016-05-11
申请号：TW100128041
申请日：2011-08-05
申请人：萬國商業機器公司 , INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION
发明人：黛樂瑪歇依曼紐 , DELAMARCHE, EMMANUEL , 凱加拉歌文 , KAIGALA, GOVIND , 羅維奇克羅伯特 , LOVCHIK, ROBERT
IPC分类号： B01L3/00 , B01J19/00 , F03B11/00
CPC分类号： F03B11/00 , B01L3/502707 , B01L3/502776 , B01L2200/0636 , B01L2200/0673 , B01L2200/0694 , B01L2200/12 , B01L2300/0887 , Y10T137/0318 , Y10T137/8593

7. 发明专利

TW201442071A 用於遠距離電漿原子層沉積之自由基來源設計审中-公开
简体标题：用于远距离等离子原子层沉积之自由基来源设计
公开(公告)号：TW201442071A
公开(公告)日：2014-11-01
申请号：TW102147584
申请日：2013-12-20
申请人：諾發系統有限公司 , NOVELLUS SYSTEMS, INC.
发明人：凡史貴凡迪巴頓J , VAN SCHRAVENDIJK, BART J.
IPC分类号： H01L21/205 , C23C16/455
CPC分类号： C23C16/455 , C23C16/45536 , C23C16/45544 , C23C16/45565 , Y10T137/8593
摘要：本發明提供一用以在半導體處理操作之原子層沉積期間供應自由基的自由基來源。該自由基來源可包括一遠端容積、一擋板容積、及一分隔該遠端容積與該擋板容積之檔板。該擋板容積和該遠端容積可透過該擋板經由複數擋板孔流體地連接。該擋板具有流體地連接至該擋板容積之複數第一氣體分配孔，並可與一面板處偏移。阻擋氣體入口可與該擋板容積流體地連接，且第一處理氣體入口可與遠端容積流體地連接。阻擋氣體可流入擋板容積中，以防止在遠端容積中之自由基化的第一處理氣體流過擋板容積和面板。
简体摘要：本发明提供一用以在半导体处理操作之原子层沉积期间供应自由基的自由基来源。该自由基来源可包括一远程容积、一挡板容积、及一分隔该远程容积与该挡板容积之档板。该挡板容积和该远程容积可透过该挡板经由复数挡板孔流体地连接。该挡板具有流体地连接至该挡板容积之复数第一气体分配孔，并可与一皮肤处偏移。阻挡气体入口可与该挡板容积流体地连接，且第一处理气体入口可与远程容积流体地连接。阻挡气体可流入挡板容积中，以防止在远程容积中之自由基化的第一处理气体流过挡板容积和皮肤。

8. 发明专利

TW201417885A 用於自容器卸載微粒材料之方法及裝置审中-公开
简体标题：用于自容器卸载微粒材料之方法及设备
公开(公告)号：TW201417885A
公开(公告)日：2014-05-16
申请号：TW102132391
申请日：2013-09-09
申请人：帕卓法公司 , PETROVAL
发明人：史丹德艾卓安 , STANDER, ADRIAAN
IPC分类号： B01J4/00 , B01J8/18
CPC分类号： B01J4/001 , B01J8/004 , B01J2208/00761 , B65G53/42 , Y10T137/0318 , Y10T137/8593
摘要：本發明涉及一種用於從容器(1)卸除顆粒材料床(2)的方法，其包括將可移除便攜提取管(4)插入到所述床的下部中，沿提取管(4)的整個長度從提取管(4)的底部部分向上將流化氣體噴射到提取管(4)中，以及在所述提取管的入口和出口之間施加正壓差。本發明還涉及適用於實施這樣的方法的裝置。
简体摘要：本发明涉及一种用于从容器(1)卸除颗粒材料床(2)的方法，其包括将可移除便携提取管(4)插入到所述床的下部中，沿提取管(4)的整个长度从提取管(4)的底部部分向上将流化气体喷射到提取管(4)中，以及在所述提取管的入口和出口之间施加正压差。本发明还涉及适用于实施这样的方法的设备。

9. 发明专利

TW201246326A 基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TW201246326A
公开(公告)日：2012-11-16
申请号：TW101100073
申请日：2012-01-02
申请人：東京威力科創股份有限公司
发明人：小田桐正彌 , 戶澤茂樹 , 宇賀神肇
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/67173 , H01L21/67017 , H01L21/6719 , Y10T137/8593
摘要：本發明提供一種基板處理裝置，其可使基板上之氣流均勻化而均勻地對基板進行處理。本發明提供之基板處理裝置係具有處理基板之可減壓之處理腔室者，且包括：基板載置台，其載置基板；擋板，其以將上述處理腔室之內部分隔為處理空間與排氣空間之方式設置於上述基板載置台之周圍；以及排氣口，對上述處理腔室之內部進行排氣；且於上述基板載置台與上述擋板之間設置有間隙，並於上述擋板形成有使上述處理空間與上述排氣空間連通之複數個連通孔。
简体摘要：本发明提供一种基板处理设备，其可使基板上之气流均匀化而均匀地对基板进行处理。本发明提供之基板处理设备系具有处理基板之可减压之处理腔室者，且包括：基板载置台，其载置基板；挡板，其以将上述处理腔室之内部分隔为处理空间与排气空间之方式设置于上述基板载置台之周围；以及排气口，对上述处理腔室之内部进行排气；且于上述基板载置台与上述挡板之间设置有间隙，并于上述挡板形成有使上述处理空间与上述排气空间连通之复数个连通孔。

10. 发明专利

TW201245486A 化學輸送系統 CHEMICAL DELIVERY SYSTEM 审中-公开
简体标题：化学输送系统 CHEMICAL DELIVERY SYSTEM
公开(公告)号：TW201245486A
公开(公告)日：2012-11-16
申请号：TW101114730
申请日：2012-04-25
申请人：應用材料股份有限公司
发明人：約瑟夫森馬塞爾E , 卡爾森大衛K , 強普史帝夫 , 桑契斯愛羅安東尼歐C
IPC分类号： C23C , H01L
CPC分类号： G05D7/0641 , Y10T137/4259 , Y10T137/6416 , Y10T137/7043 , Y10T137/8593
摘要：本案揭示之化學輸送系統的實施例可包含外殼；配置在該外殼內的第一隔室，且該第一隔室具有複數個第一導管以運送第一組化學物種，該第一隔室更具有第一吸氣開口和第一排氣開口以幫助淨化氣體流經該第一隔室；及配置在該外殼內的第二隔室，且該第二隔室具有複數個第二導管以運送第二組化學物種，該第二隔室更具有第二吸氣開口和第二排氣開口以幫助該淨化氣體流經該第二隔室，其中該第一組化學物種不同於該第二組化學物種，及其中流經該第二隔室之該淨化氣體的吸氣速度大於流經該第一隔室之該淨化氣體的吸氣速度。
简体摘要：本案揭示之化学输送系统的实施例可包含外壳；配置在该外壳内的第一隔室，且该第一隔室具有复数个第一导管以运送第一组化学物种，该第一隔室更具有第一吸气开口和第一排气开口以帮助净化气体流经该第一隔室；及配置在该外壳内的第二隔室，且该第二隔室具有复数个第二导管以运送第二组化学物种，该第二隔室更具有第二吸气开口和第二排气开口以帮助该净化气体流经该第二隔室，其中该第一组化学物种不同于该第二组化学物种，及其中流经该第二隔室之该净化气体的吸气速度大于流经该第一隔室之该净化气体的吸气速度。

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