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1. 发明专利

TWI625509B 用於雷射源之線上校準的系統及方法有权
简体标题：用于激光源之在线校准的系统及方法
公开(公告)号：TWI625509B
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：TW105140383
申请日：2016-12-07
申请人：希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC , ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：索恩斯約書亞瓊 , THORNES, JOSHUA JON , 亞果爾沃坦奴智 , AGGARWAL, TANUJ , 歐布萊恩凱文麥可 , O'BRIEN, KEVIN MICHAEL , 雅佛資法蘭克 , EVERTS, FRANK , 高德福萊德荷曼菲力普 , GODFRIED, HERMAN PHILIP , 包迪特羅素亞倫 , BURDT, RUSSELL ALLEN
IPC分类号： G01J1/42 , G01J3/28 , G03F7/20 , H01S3/13

2. 发明专利

TW201734414A 用於相依於重複率的效能變數之線上校準审中-公开
简体标题：用于相依于重复率的性能变量之在线校准
公开(公告)号：TW201734414A
公开(公告)日：2017-10-01
申请号：TW105140383
申请日：2016-12-07
申请人：希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC , ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：索恩斯約書亞瓊 , THORNES, JOSHUA JON , 亞果爾沃坦奴智 , AGGARWAL, TANUJ , 歐布萊恩凱文麥可 , O'BRIEN, KEVIN MICHAEL , 雅佛資法蘭克 , EVERTS, FRANK , 高德福萊德荷曼菲力普 , GODFRIED, HERMAN PHILIP , 包迪特羅素亞倫 , BURDT, RUSSELL ALLEN
IPC分类号： G01J1/42 , G01J3/28 , G03F7/20 , H01S3/13
CPC分类号： G01J11/00 , G01J1/0228 , G01J1/0448 , G01J1/4257 , G03F7/70041 , G03F7/70516 , G03F7/7055 , G03F7/70558 , G03F7/70575 , H01S3/0014 , H01S3/10046 , H01S3/10069
摘要：本發明揭示依據操作雷射所處之重複率變化的雷射效能之線上校準。該校準可為週期性的且在一非曝光週期期間在一經排程期間進行。各種準則可用以自動地選擇產生可靠之符合規範之效能的該等重複率。接著使重複率之可靠值作為所允許之值可用於掃描器，且接著准許雷射/掃描器系統使用彼等所允許之重複率。
简体摘要：本发明揭示依据操作激光所处之重复率变化的激光性能之在线校准。该校准可为周期性的且在一非曝光周期期间在一经调度期间进行。各种准则可用以自动地选择产生可靠之符合规范之性能的该等重复率。接着使重复率之可靠值作为所允许之值可用于扫描仪，且接着准许激光/扫描仪系统使用彼等所允许之重复率。

4. 发明专利

TW201721294A 微影設備及方法审中-公开
简体标题：微影设备及方法
公开(公告)号：TW201721294A
公开(公告)日：2017-06-16
申请号：TW105130553
申请日：2016-09-22
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V. , 希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC
发明人：雅佛資法蘭克 , EVERTS, FRANK , 歐普特羅特威黑墨斯派翠克伊麗莎白瑪麗亞 , OP'T ROOT, WILHELMUS PATRICK ELISABETH MARIA , 高德福萊德荷曼菲力普 , GODFRIED, HERMAN PHILIP , 索恩斯約書亞瓊 , THORNES, JOSHUA JON , 歐布萊恩凱文麥可 , O'BRIEN, KEVIN MICHAEL , 薩能禮昂彼特保羅 , SAANEN, LEON PIETER PAUL , 亞果爾沃坦奴智 , AGGARWAL, TANUJ
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70558 , G03F7/70066 , G03F7/70525
摘要：本發明提供一種控制一輻射源之輸出之方法，該方法包括：週期性地監視該輻射源之一輸出能量；判定一參考能量信號與該所監視輸出能量之間的一差；判定一回饋值；判定針對一後續時間段的該輻射源之一所要輸出能量；及取決於在該後續時間段期間之該所判定所要輸出能量而控制該輻射源之一輸入參數。若該輻射源之該所監視輸出能量與該參考能量信號之間的該所判定差之量值超過一臨限值，則：該所判定差不貢獻於該回饋值；且遍及該後續時間段根據一參考能量信號調整量變曲線而散佈該所判定差，且針對該後續時間段將該參考能量信號調整量變曲線加至該參考能量信號。
简体摘要：本发明提供一种控制一辐射源之输出之方法，该方法包括：周期性地监视该辐射源之一输出能量；判定一参考能量信号与该所监视输出能量之间的一差；判定一回馈值；判定针对一后续时间段的该辐射源之一所要输出能量；及取决于在该后续时间段期间之该所判定所要输出能量而控制该辐射源之一输入参数。若该辐射源之该所监视输出能量与该参考能量信号之间的该所判定差之量值超过一临限值，则：该所判定差不贡献于该回馈值；且遍及该后续时间段根据一参考能量信号调整量变曲线而散布该所判定差，且针对该后续时间段将该参考能量信号调整量变曲线加至该参考能量信号。

5. 发明专利

TWI629705B 氣體放電光源及用於操作該氣體放電光源的方法有权
简体标题：气体放电光源及用于操作该气体放电光源的方法
公开(公告)号：TWI629705B
公开(公告)日：2018-07-11
申请号：TW105140607
申请日：2016-12-08
申请人：美商希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC
发明人：阿拉瓦特拉赫 , AHLAWAT, RAHUL , 亞果爾沃坦奴智 , AGGARWAL, TANUJ
IPC分类号： H01J61/12 , H01J61/28

6. 发明专利

TW201812257A 評估光學源之增益關係审中-公开
简体标题：评估光学源之增益关系
公开(公告)号：TW201812257A
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW106130715
申请日：2017-09-08
申请人：美商希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC
发明人：亞果爾沃坦奴智 , AGGARWAL, TANUJ
IPC分类号： G01J1/28 , G05D25/02
CPC分类号： G03F7/70516 , G03F7/70041 , G03F7/705 , G03F7/70558
摘要：存取一光微影系統之一光學源之一輸出的一指示；存取提供至該光學源之一輸入的一指示，該所提供之輸入與該光學源之該輸出之該所存取指示相關；根據一預期輸出量及該光學源之該輸出之該所存取指示判定一輸出誤差；評估與提供至該光學源之該輸入之該存取指示相關的一局部增益；根據該經評估之局部增益及一預期局部增益判定一增益誤差；基於該輸出誤差及該增益誤差中之一或多者來評估該光學源之一或多個操作度量值之一當前值；以及基於該一或多個操作度量值之該經評估當前值來更新該光學源之一增益關係。
简体摘要：存取一光微影系统之一光学源之一输出的一指示；存取提供至该光学源之一输入的一指示，该所提供之输入与该光学源之该输出之该所存取指示相关；根据一预期输出量及该光学源之该输出之该所存取指示判定一输出误差；评估与提供至该光学源之该输入之该存取指示相关的一局部增益；根据该经评估之局部增益及一预期局部增益判定一增益误差；基于该输出误差及该增益误差中之一或多者来评估该光学源之一或多个操作度量值之一当前值；以及基于该一或多个操作度量值之该经评估当前值来更新该光学源之一增益关系。

7. 发明专利

TWI642914B 控制光微影系統中之光學源之方法及光微影系統有权
简体标题：控制光微影系统中之光学源之方法及光微影系统
公开(公告)号：TWI642914B
公开(公告)日：2018-12-01
申请号：TW106130715
申请日：2017-09-08
申请人：美商希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC
发明人：亞果爾沃坦奴智 , AGGARWAL, TANUJ
IPC分类号： G01J1/28 , G05D25/02

8. 发明专利

TW201742341A 於氣體放電光源中之氣體最佳化审中-公开
简体标题：于气体放电光源中之气体最优化
公开(公告)号：TW201742341A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：TW106104846
申请日：2017-02-15
申请人：希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC
发明人：亞果爾沃坦奴智 , AGGARWAL, TANUJ
IPC分类号： H01S3/036 , H01S3/11 , H01S3/225 , H01S3/23
CPC分类号： H01S3/134 , H01S3/036 , H01S3/0385 , H01S3/08009 , H01S3/08036 , H01S3/09705 , H01S3/0971 , H01S3/104 , H01S3/1305 , H01S3/225 , H01S3/2308 , H01S3/2366
摘要：當在一組極端測試條件下操作一光源時，藉由估計該光源之操作參數的複數個極端值而調整該光源之一或多個操作特性。對於每一極端測試條件，當在該極端測試條件下操作該光源之一第一氣體放電腔室時，將一群組之能量脈衝供應至該第一氣體放電腔室以產生一第一脈衝放大光束；當在該極端測試條件下操作該光源之一第二氣體放電腔室時，將一群組之能量脈衝供應至該第二氣體放電腔室以產生一第二脈衝放大光束。量測對於該極端測試條件之一操作參數的一極端值，藉此估計該操作參數之該極端值。
简体摘要：当在一组极端测试条件下操作一光源时，借由估计该光源之操作参数的复数个极端值而调整该光源之一或多个操作特性。对于每一极端测试条件，当在该极端测试条件下操作该光源之一第一气体放电腔室时，将一群组之能量脉冲供应至该第一气体放电腔室以产生一第一脉冲放大光束；当在该极端测试条件下操作该光源之一第二气体放电腔室时，将一群组之能量脉冲供应至该第二气体放电腔室以产生一第二脉冲放大光束。量测对于该极端测试条件之一操作参数的一极端值，借此估计该操作参数之该极端值。

9. 发明专利

TWI625906B 用於在氣體放電光源中之氣體最佳化的方法有权
简体标题：用于在气体放电光源中之气体最优化的方法
公开(公告)号：TWI625906B
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：TW106104846
申请日：2017-02-15
申请人：美商希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC
发明人：亞果爾沃坦奴智 , AGGARWAL, TANUJ
IPC分类号： H01S3/036 , H01S3/11 , H01S3/225 , H01S3/23

10. 发明专利

TW201730914A 於氣體放電光源中的氣體混合控制审中-公开
简体标题：于气体放电光源中的气体混合控制
公开(公告)号：TW201730914A
公开(公告)日：2017-09-01
申请号：TW105140607
申请日：2016-12-08
申请人：希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC
发明人：阿拉瓦特拉赫 , AHLAWAT, RAHUL , 亞果爾沃坦奴智 , AGGARWAL, TANUJ
IPC分类号： H01J61/12 , H01J61/28
CPC分类号： H01S3/036 , H01S3/0014 , H01S3/097 , H01S3/0971 , H01S3/10069 , H01S3/104 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2253 , H01S3/2255 , H01S3/2256 , H01S3/2258 , H01S3/2308
摘要：本發明提供一種氣體放電光源，其包括包括一或多個氣體放電室之一氣體放電系統。以一各別氣體混合物填充該氣體放電系統中之該等氣體放電室中的每一者。對於各氣體放電室，藉由啟動脈衝能量之相關聯能量源來將一脈衝能量供應至該各別氣體混合物，以藉此自該氣體放電室產生一經脈衝放大光束。判定該氣體放電系統之一或多個性質。基於該氣體放電系統之該所判定一或多個性質而自複數個可能方案當中選擇一氣體維持方案。將該所選氣體維持方案應用於該氣體放電系統。一氣體維持方案包括與將一或多個補充氣體混合物添加至該氣體放電系統之該氣體放電室相關的一或多個參數。
简体摘要：本发明提供一种气体放电光源，其包括包括一或多个气体放电室之一气体放电系统。以一各别气体混合物填充该气体放电系统中之该等气体放电室中的每一者。对于各气体放电室，借由启动脉冲能量之相关联能量源来将一脉冲能量供应至该各别气体混合物，以借此自该气体放电室产生一经脉冲放大光束。判定该气体放电系统之一或多个性质。基于该气体放电系统之该所判定一或多个性质而自复数个可能方案当中选择一气体维持方案。将该所选气体维持方案应用于该气体放电系统。一气体维持方案包括与将一或多个补充气体混合物添加至该气体放电系统之该气体放电室相关的一或多个参数。

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