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1. 发明专利

TW201807442A 光組件定位調整裝置审中-公开
简体标题：光组件定位调整设备
公开(公告)号：TW201807442A
公开(公告)日：2018-03-01
申请号：TW105126698
申请日：2016-08-22
申请人：年益實業股份有限公司 , NIEN-YI INDUSTRIAL CORPORATION
发明人：林東樓 , LIN, TUNG-LOU , 李欣妮 , LEE, HSIN-NI
IPC分类号： G02B6/42
CPC分类号： G01J1/0448 , G01J1/0271 , G01J1/0411 , G01J1/0414 , G01J1/32 , G02B6/423 , G02B6/4262
摘要：本申請揭露一種光組件定位調整裝置，其一實施例包含一基座以及至少一罩體。該基座包含一上表面與一側表面，該上表面是用來設置至少一光電元件，該側表面形成有一非平滑第一定位調整結構。該至少一罩體包含一內表面，該內表面形成有一非平滑第二定位調整結構，該第二定位調整結構與該第一定位調整結構相吻合。另外，該至少一罩體具有一光輸出輸入口用於光傳輸，且該光輸出輸入口與該上表面之間的距離可藉由該第二定位調整結構與該第一定位調整結構之接觸面積的增加或減少而被調整。
简体摘要：本申请揭露一种光组件定位调整设备，其一实施例包含一基座以及至少一罩体。该基座包含一上表面与一侧表面，该上表面是用来设置至少一光电组件，该侧表面形成有一非平滑第一定位调整结构。该至少一罩体包含一内表面，该内表面形成有一非平滑第二定位调整结构，该第二定位调整结构与该第一定位调整结构相吻合。另外，该至少一罩体具有一光输出输入口用于光传输，且该光输出输入口与该上表面之间的距离可借由该第二定位调整结构与该第一定位调整结构之接触面积的增加或减少而被调整。

2. 发明专利

TW201200849A 光束平行度測定裝置审中-公开
简体标题：光束平行度测定设备
公开(公告)号：TW201200849A
公开(公告)日：2012-01-01
申请号：TW100107077
申请日：2011-03-02
申请人：岩崎電氣股份有限公司 , 捷耐勝股份有限公司
发明人：酒井雅寬 , 川鍋保文 , 山田一吉 , 江野口章人 , 武山芸英
IPC分类号： G01J , G01B
CPC分类号： G01B11/272 , G01J1/02 , G01J1/0242 , G01J1/04 , G01J1/0411 , G01J1/0418 , G01J1/0437 , G01J1/0448
摘要： [課題]提供一種能夠以少數之測定次數來將從非內聚(incoherent)光源所輻射出之光束的平行度測定出來之光束平行度測定裝置。[解決手段]提供一種光束平行度測定裝置(1)，其特徵為，具備有：透鏡部(20)，係將光束(9)中所包含之各光線成分，在從光軸(K)而離開了與相對於前述光軸(K)之入射角度(θ)相對應的距離(L)之位置處而作成像；和二維檢測器(22)，係檢測出前述光束(9)之成像位置(P)，該光束平行度測定裝置(1)，並具備有：解析裝置(12)，係將從前述光軸(K)起直到前述成像位置(P)為止之距離(L)，變換為前述入射角度(θ)，並將前述光束(9)中所包含之光線成分的入射角度分布作輸出。
简体摘要： [课题]提供一种能够以少数之测定次数来将从非内聚(incoherent)光源所辐射出之光束的平行度测定出来之光束平行度测定设备。[解决手段]提供一种光束平行度测定设备(1)，其特征为，具备有：透镜部(20)，系将光束(9)中所包含之各光线成分，在从光轴(K)而离开了与相对于前述光轴(K)之入射角度(θ)相对应的距离(L)之位置处而作成像；和二维检测器(22)，系检测出前述光束(9)之成像位置(P)，该光束平行度测定设备(1)，并具备有：解析设备(12)，系将从前述光轴(K)起直到前述成像位置(P)为止之距离(L)，变换为前述入射角度(θ)，并将前述光束(9)中所包含之光线成分的入射角度分布作输出。

3. 发明专利

TW201013221A 狹縫寬度調整裝置及顯微鏡雷射加工裝置 SLIT WIDTH ADJUSTING DEVICE AND MICROSCOPE LASER PROCESSING APPARATUS 审中-公开
简体标题：狭缝宽度调整设备及显微镜激光加工设备 SLIT WIDTH ADJUSTING DEVICE AND MICROSCOPE LASER PROCESSING APPARATUS
公开(公告)号：TW201013221A
公开(公告)日：2010-04-01
申请号：TW098119419
申请日：2009-06-10
申请人：三豐股份有限公司
发明人：淺野秀光 , 宇和田誠 , 海江田誠
IPC分类号： G02B
CPC分类号： B23K26/032 , B23K26/04 , B23K26/066 , B23K26/067 , G01J1/0448 , G01J1/0462 , G02B5/005 , G03F1/72
摘要：揭露的是一種狹縫寬度調整裝置，包含有：一對互相平行的狹縫構件，係可移動而互相接近或互相遠離，以調整一狹縫寬度；一驅動部，用以將該對狹縫構件；一絕對位置原點偵測部，用以偵測該對等縫構件的一任意絕對位置，以做為一原點；以及一調整部，用以調整該狹縫寬度，其中該調整部包含有：一儲存單元，用以儲存一狹縫寬度表，其中該狹縫寬度距離該原點的一位移量與對應於該位移量的一驅動指令值，是互相對應的；以及一驅動控制部，用以指提取出對應於一指定狹縫寬度的驅動指令值，並根據該提取出之驅動指令值來驅動該驅動部。
简体摘要：揭露的是一种狭缝宽度调整设备，包含有：一对互相平行的狭缝构件，系可移动而互相接近或互相远离，以调整一狭缝宽度；一驱动部，用以将该对狭缝构件；一绝对位置原点侦测部，用以侦测该对等缝构件的一任意绝对位置，以做为一原点；以及一调整部，用以调整该狭缝宽度，其中该调整部包含有：一存储单元，用以存储一狭缝宽度表，其中该狭缝宽度距离该原点的一位移量与对应于该位移量的一驱动指令值，是互相对应的；以及一驱动控制部，用以指提取出对应于一指定狭缝宽度的驱动指令值，并根据该提取出之驱动指令值来驱动该驱动部。

4. 发明专利

TW200920334A 測量聚焦雷射光束的測量裝置 MEASURING DEVICE FOR MEASURING A FOCUSED LASER BEAM 审中-公开
简体标题：测量聚焦激光光束的测量设备 MEASURING DEVICE FOR MEASURING A FOCUSED LASER BEAM
公开(公告)号：TW200920334A
公开(公告)日：2009-05-16
申请号：TW097135025
申请日：2008-09-12
申请人：光波有限公司 WAVELIGHT AG
发明人：柏恩德哲爾 ZERL, BERND , 歐勒夫凱特曼 KITTELMANN, OLAF
IPC分类号： A61F , G02B
CPC分类号： G01J1/4257 , G01J1/04 , G01J1/0411 , G01J1/0448
摘要：依照一項實施例,一種測量雷射光束的測量裝置,其包含一具有全部二透鏡(10、12)之放大透鏡系統,該二透鏡被串聯配置於雷射光束之光束路徑中,且其焦點是一致,連同一被配置於該二透鏡(10、12)之後方而在該最後透鏡(12)之焦點內的照相機(74),且包括一用於產生放大雷射光束之一電子影像的電子影像感測器(14)。該二透鏡(10、12)連同該照相機(74)是可以相對於該測量裝置之一參考點(46)而沿著該光束路徑被調整,用以得到下列目的,安置該雷射光束之光束腰收歛部分和決定該雷射光束之一直徑廓形。該測量裝置更還包含一圍繞著該雷射路徑的轉接器(42),用以將該測量裝置耦合至一提供該雷射光束之雷射系統。該轉接器(42)組成一用於該雷射系統之鄰接表面(46),該鄰接表面(46)是相對於該雷射光束之一光束軸(16)而被導引成沿著軸向,且容許該測量裝置當場被耦合至該雷射系統之安裝位置。
简体摘要：依照一项实施例,一种测量激光光束的测量设备,其包含一具有全部二透镜(10、12)之放大透镜系统,该二透镜被串联配置于激光光束之光束路径中,且其焦点是一致,连同一被配置于该二透镜(10、12)之后方而在该最后透镜(12)之焦点内的照相机(74),且包括一用于产生放大激光光束之一电子影像的电子影像传感器(14)。该二透镜(10、12)连同该照相机(74)是可以相对于该测量设备之一参考点(46)而沿着该光束路径被调整,用以得到下列目的,安置该激光光束之光束腰收敛部分和决定该激光光束之一直径廓形。该测量设备更还包含一围绕着该激光路径的转接器(42),用以将该测量设备耦合至一提供该激光光束之激光系统。该转接器(42)组成一用于该激光系统之邻接表面(46),该邻接表面(46)是相对于该激光光束之一光束轴(16)而被导引成沿着轴向,且容许该测量设备当场被耦合至该激光系统之安装位置。

5. 发明专利

TWI303940B 自動對焦方法失效
简体标题：自动对焦方法
公开(公告)号：TWI303940B
公开(公告)日：2008-12-01
申请号：TW094134500
申请日：2005-10-03
申请人：致茂電子股份有限公司 CHROMA ATE INC.
发明人：廖界程 LIAO, CHIEH-CHENG , 林耀明 LIN, YAOMIN
IPC分类号： H04N
CPC分类号： G03B13/36 , G01J1/04 , G01J1/0448
摘要：本發明係一種自動對焦方法,其主要係提供影像擷取裝置以多階段搜尋法則與對焦函數為基礎,搭配不同大小之,並對焦位置之粗搜尋、波包區域搜尋以及最佳對焦位置之細搜尋三個階段進行對焦。其中,以影像擷取裝置之入射光束的波長二分之一整數倍作為搜尋步幅,在波包區域搜尋對焦函數之極大値,且定義對焦函數極大値所對應之對焦位置為最佳對焦位置,用以快速且有效地獲得最佳對焦位置。
简体摘要：本发明系一种自动对焦方法,其主要系提供影像截取设备以多阶段搜索法则与对焦函数为基础,搭配不同大小之,并对焦位置之粗搜索、波包区域搜索以及最佳对焦位置之细搜索三个阶段进行对焦。其中,以影像截取设备之入射光束的波长二分之一整数倍作为搜索步幅,在波包区域搜索对焦函数之极大値,且定义对焦函数极大値所对应之对焦位置为最佳对焦位置,用以快速且有效地获得最佳对焦位置。

6. 发明专利

TW200715833A 自動對焦方法及其應用失效
简体标题：自动对焦方法及其应用
公开(公告)号：TW200715833A
公开(公告)日：2007-04-16
申请号：TW094134500
申请日：2005-10-03
申请人：致茂電子股份有限公司
发明人：廖界程 CHIEH-CHENG LIAO , 林耀明 YAOMIN LIN
IPC分类号： H04N
CPC分类号： G03B13/36 , G01J1/04 , G01J1/0448
摘要：本發明係一種自動對焦方法及其應用,其主要係提供影像擷取裝置以多階段搜尋法則與對焦函數為基礎,搭配不同大小之,並對焦位置之粗搜尋、波包區域搜尋以及最佳對焦位置之細搜尋三個階段進行對焦。其中,以影像擷取裝置之入射光束的波長二分之一整數倍作為搜尋步幅,在波包區域搜尋對焦函數之極大値,且定義對焦函數極大値所對應之對焦位置為最佳對焦位置,用以快速且有效地獲得最佳對焦位置。
简体摘要：本发明系一种自动对焦方法及其应用,其主要系提供影像截取设备以多阶段搜索法则与对焦函数为基础,搭配不同大小之,并对焦位置之粗搜索、波包区域搜索以及最佳对焦位置之细搜索三个阶段进行对焦。其中,以影像截取设备之入射光束的波长二分之一整数倍作为搜索步幅,在波包区域搜索对焦函数之极大値,且定义对焦函数极大値所对应之对焦位置为最佳对焦位置,用以快速且有效地获得最佳对焦位置。

7. 发明专利

TW201734414A 用於相依於重複率的效能變數之線上校準审中-公开
简体标题：用于相依于重复率的性能变量之在线校准
公开(公告)号：TW201734414A
公开(公告)日：2017-10-01
申请号：TW105140383
申请日：2016-12-07
申请人：希瑪有限責任公司 , CYMER, LLC , ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：索恩斯約書亞瓊 , THORNES, JOSHUA JON , 亞果爾沃坦奴智 , AGGARWAL, TANUJ , 歐布萊恩凱文麥可 , O'BRIEN, KEVIN MICHAEL , 雅佛資法蘭克 , EVERTS, FRANK , 高德福萊德荷曼菲力普 , GODFRIED, HERMAN PHILIP , 包迪特羅素亞倫 , BURDT, RUSSELL ALLEN
IPC分类号： G01J1/42 , G01J3/28 , G03F7/20 , H01S3/13
CPC分类号： G01J11/00 , G01J1/0228 , G01J1/0448 , G01J1/4257 , G03F7/70041 , G03F7/70516 , G03F7/7055 , G03F7/70558 , G03F7/70575 , H01S3/0014 , H01S3/10046 , H01S3/10069
摘要：本發明揭示依據操作雷射所處之重複率變化的雷射效能之線上校準。該校準可為週期性的且在一非曝光週期期間在一經排程期間進行。各種準則可用以自動地選擇產生可靠之符合規範之效能的該等重複率。接著使重複率之可靠值作為所允許之值可用於掃描器，且接著准許雷射/掃描器系統使用彼等所允許之重複率。
简体摘要：本发明揭示依据操作激光所处之重复率变化的激光性能之在线校准。该校准可为周期性的且在一非曝光周期期间在一经调度期间进行。各种准则可用以自动地选择产生可靠之符合规范之性能的该等重复率。接着使重复率之可靠值作为所允许之值可用于扫描仪，且接着准许激光/扫描仪系统使用彼等所允许之重复率。

8. 发明专利

TWI548869B 用於最佳化光學感測器中之信號雜訊比之方法及裝置、以及感測器調整機構有权
简体标题：用于最优化光学传感器中之信号噪声比之方法及设备、以及传感器调整机构
公开(公告)号：TWI548869B
公开(公告)日：2016-09-11
申请号：TW101102839
申请日：2012-01-30
申请人：魯道夫科技股份有限公司 , RUDOLPH TECHNOLOGIES, INC.
发明人：米亨戴爾曼珠沙 , MEHENDALE, MANJUSHA , 柯特爾洋斯基麥可J , KOTELYANSKII, MICHAEL J. , 摩肯漢布利亞 , MUKUNDHAN, PRIYA , 柯根麥可 , COLGAN, MICHAEL , 周偉 , ZHOU, WEI
IPC分类号： G01N21/17
CPC分类号： G01J1/0448 , G01N21/1702 , G01N21/1717 , G01N21/47 , G01N21/55 , G01N21/636 , G01N21/9501

9. 发明专利

TWI454738B 狹縫寬度調整裝置及顯微鏡雷射加工裝置有权
简体标题：狭缝宽度调整设备及显微镜激光加工设备
公开(公告)号：TWI454738B
公开(公告)日：2014-10-01
申请号：TW098119419
申请日：2009-06-10
申请人：三豐股份有限公司 , MITUTOYO CORPORATION
发明人：淺野秀光 , ASANO, HIDEMITSU , 宇和田誠 , UWADA, MAKOTO , 海江田誠 , KAIEDA, MAKOTO
IPC分类号： G02B26/02
CPC分类号： B23K26/032 , B23K26/04 , B23K26/066 , B23K26/067 , G01J1/0448 , G01J1/0462 , G02B5/005 , G03F1/72

10. 发明专利

TW201239335A 位置敏感偵測最佳化 POSITION SENSITIVE DETECTION OPTIMIZATION 审中-公开
简体标题：位置敏感侦测最优化 POSITION SENSITIVE DETECTION OPTIMIZATION
公开(公告)号：TW201239335A
公开(公告)日：2012-10-01
申请号：TW101102839
申请日：2012-01-30
申请人：魯道夫科技股份有限公司
发明人：米亨戴爾曼珠沙 , 柯特爾洋斯基麥可J , 摩肯漢布利亞 , 柯根麥可 , 周偉
IPC分类号： G01N
CPC分类号： G01J1/0448 , G01N21/1702 , G01N21/1717 , G01N21/47 , G01N21/55 , G01N21/636 , G01N21/9501
摘要：本發明描述一種用於光聲計量或其他類型的計量操作中之自動可調整方法。該方法包括修改使用一PSD式感測器配置之一計量系統之操作。該方法可用於快速調整一計量系統之操作以確保自其獲得之資料具所要品質。此外,該方法在搜尋及最佳化係所關注基質或樣本特徵或特性或者可能與其相關聯之資料中係有用的。本發明亦描述裝置及電腦可讀取媒體。
简体摘要：本发明描述一种用于光声计量或其他类型的计量操作中之自动可调整方法。该方法包括修改使用一PSD式传感器配置之一计量系统之操作。该方法可用于快速调整一计量系统之操作以确保自其获得之数据具所要品质。此外,该方法在搜索及最优化系所关注基质或样本特征或特性或者可能与其相关联之数据中系有用的。本发明亦描述设备及电脑可读取媒体。

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