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1. 发明专利

TWI638586B 改良功率均勻性的微波電漿施加器有权
简体标题：改良功率均匀性的微波等离子施加器
公开(公告)号：TWI638586B
公开(公告)日：2018-10-11
申请号：TW104109842
申请日：2015-03-26
申请人：美商MKS儀器公司 , MKS INSTRUMENTS, INC.
发明人：陳新 , CHEN, XING , 冀成相 , JI, CHENGXIANG , 瑪登艾林 , MADDEN, ERIN , 波奇朵艾亞 , POKIDOV, ILYA , 溫佐凱文W , WENZEL, KEVIN W.
IPC分类号： H05H1/46

2. 发明专利

TW201542043A 改良功率均勻性的微波電漿施加器审中-公开
简体标题：改良功率均匀性的微波等离子施加器
公开(公告)号：TW201542043A
公开(公告)日：2015-11-01
申请号：TW104109842
申请日：2015-03-26
申请人： MKS儀器公司 , MKS INSTRUMENTS, INC.
发明人：陳新 , CHEN, XING , 冀成相 , JI, CHENGXIANG , 瑪登艾林 , MADDEN, ERIN , 波奇朵艾亞 , POKIDOV, ILYA , 溫佐凱文W , WENZEL, KEVIN W.
IPC分类号： H05H1/46
CPC分类号： H01J37/32229 , H01J37/32201 , H01J37/32311 , H01J37/32522 , H05H1/46 , H05H2001/4622
摘要：本發明揭示一種用於產生電漿之裝置，其包含一電漿放電管及螺旋地纏繞於該電漿放電管之一外表面之一導電線圈。一波導經耦合至包圍該電漿放電管之一微波腔，以將微波能量導引至該電漿放電管中，使得在該電漿放電管中產生該電漿。該波導經定位使得該微波能量之一電場經定向成與該電漿放電管之縱向軸成一預定角度。該導電線圈中之一所得感應電流影響該電漿放電管中之功率吸收，該預定角度係可選擇的，使得該電漿放電管中之功率吸收係取決相對於該電漿放電管之該縱向軸之一預定形態。
简体摘要：本发明揭示一种用于产生等离子之设备，其包含一等离子放电管及螺旋地缠绕于该等离子放电管之一外表面之一导电线圈。一波导经耦合至包围该等离子放电管之一微波腔，以将微波能量导引至该等离子放电管中，使得在该等离子放电管中产生该等离子。该波导经定位使得该微波能量之一电场经定向成与该等离子放电管之纵向轴成一预定角度。该导电线圈中之一所得感应电流影响该等离子放电管中之功率吸收，该预定角度系可选择的，使得该等离子放电管中之功率吸收系取决相对于该等离子放电管之该纵向轴之一预定形态。

3. 发明专利

TW201334023A 用於電漿塗佈器之氣體注射裝置审中-公开
简体标题：用于等离子涂布器之气体注射设备
公开(公告)号：TW201334023A
公开(公告)日：2013-08-16
申请号：TW101146238
申请日：2012-12-07
申请人： MKS儀器公司 , MKS INSTRUMENTS, INC.
发明人：陳新 , CHEN, XING , 顧永方 , GU, YOUFAN , 冀成相 , JI, CHENGXIANG , 魯米斯保羅A , LOOMIS, PAUL A. , 波奇朵艾亞 , POKIDOV, ILYA , 溫佐凱文W , WENZEL, KEVIN W.
IPC分类号： H01J37/32
CPC分类号： H01J37/32449 , C23C16/452 , H01J37/32495
摘要：本發明揭示一種供與一反應性氣體源一起使用之電漿室，該電漿室包含一第一導管，該第一導管包括一壁、一入口、一出口、一內及外表面以及穿過該壁之複數個開口，該入口接納一第一氣體用於藉助形成於該第一導管中之一電漿在該第一導管中產生一反應性氣體。該電漿室亦包含一第二導管，該第二導管包含一壁、一入口及一內表面。該第一導管安置於該第二導管中，在該第一導管之該外表面與該第二導管之該內表面之間界定一通道。提供至該第二導管之該入口之一第二氣體沿著該通道且透過該第一導管之該壁之該複數個開口流動至該第一導管中以環繞該第一導管中之該反應性氣體及電漿。
简体摘要：本发明揭示一种供与一反应性气体源一起使用之等离子室，该等离子室包含一第一导管，该第一导管包括一壁、一入口、一出口、一内及外表面以及穿过该壁之复数个开口，该入口接纳一第一气体用于借助形成于该第一导管中之一等离子在该第一导管中产生一反应性气体。该等离子室亦包含一第二导管，该第二导管包含一壁、一入口及一内表面。该第一导管安置于该第二导管中，在该第一导管之该外表面与该第二导管之该内表面之间界定一信道。提供至该第二导管之该入口之一第二气体沿着该信道且透过该第一导管之该壁之该复数个开口流动至该第一导管中以环绕该第一导管中之该反应性气体及等离子。

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