会员体验
专利管家(专利管理)
工作空间(专利管理)
风险监控(情报监控)
数据分析(专利分析)
侵权分析(诉讼无效)
联系我们
交流群
官方交流:
QQ群: 891211   
微信请扫码    >>>
现在联系顾问~
热词
    • 2. 发明专利
    • 使用包含電漿之開放共振器中共振頻率變化之電子密度量測及電漿製程控制系統
    • 使用包含等离子之开放共振器中共振频率变化之电子密度量测及等离子制程控制系统
    • TW484015B
    • 2002-04-21
    • TW089114518
    • 2000-07-20
    • 東京威力科創有限公司
    • 喬塞夫T 維迪恩維尼L 强森莫瑞D 塞其斯
    • G01NH01JH05HG01RH01L
    • H01J37/32935H01J37/32954H01J37/3299H05H1/0006
    • 一種系統用以量測電漿電子密度(如在1010至1012Cm-3範圍),及用以控制一電漿產生器。電漿電子密度之量測作為電漿協助處理,如澱積或蝕刻之回授控制之一部份。電裝量測方法及系統產生一控制電壓依序控制電漿產生器。一可程式之頻率源,順序激勵一置於電漿處理裝置中之開放共振器之數共振模式。共振模式之共振頻率與位於開放共振器之空間之間之電漿電子密度有關。由於引進電漿及比較量測之頻率與以前進入之資料,裝置能自動決定,開放共振器之隨機選擇之共振模式共振頻率之增加。比較由以下列任何之一,(1),專用電路(2),數位信號處理器,及(3)特殊程式之通用目的電腦實施。比較器計算一控制信號用以修正電漿產生功率輸出,以達到理想之電漿電子密度。
    • 一种系统用以量测等离子电子密度(如在1010至1012Cm-3范围),及用以控制一等离子产生器。等离子电子密度之量测作为等离子协助处理,如淀积或蚀刻之回授控制之一部份。电装量测方法及系统产生一控制电压依序控制等离子产生器。一可进程之频率源,顺序激励一置于等离子处理设备中之开放共振器之数共振模式。共振模式之共振频率与位于开放共振器之空间之间之等离子电子密度有关。由于引进等离子及比较量测之频率与以前进入之数据,设备能自动决定,开放共振器之随机选择之共振模式共振频率之增加。比较由以下列任何之一,(1),专用电路(2),数码信号处理器,及(3)特殊进程之通用目的电脑实施。比较器计算一控制信号用以修正等离子产生功率输出,以达到理想之等离子电子密度。