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1. 发明专利

TWI701271B 感光性樹脂組成物及其製造方法、硬化膜、硬化膜的製造方法及半導體裝置有权
简体标题：感光性树脂组成物及其制造方法、硬化膜、硬化膜的制造方法及半导体设备
公开(公告)号：TWI701271B
公开(公告)日：2020-08-11
申请号：TW105120423
申请日：2016-06-29
申请人：日商富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：渋谷明規 , SHIBUYA, AKINORI , 岩井悠 , IWAI, YU , 川端健志 , KAWABATA, TAKESHI , 小山一郎 , KOYAMA, ICHIRO
IPC分类号： C08G73/10 , C08G73/22 , G03F7/032 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027 , H01L21/312

2. 发明专利

TWI644176B 感光化射線性或感放射線性樹脂組成物、感光化射線性或感放射線性膜、圖案形成方法及鎓鹽化合物有权
简体标题：感光化射线性或感放射线性树脂组成物、感光化射线性或感放射线性膜、图案形成方法及鎓盐化合物
公开(公告)号：TWI644176B
公开(公告)日：2018-12-11
申请号：TW107104623
申请日：2013-12-26
申请人：日商富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：川端健志 , KAWABATA,TAKESHI , 滝沢裕雄 , TAKIZAWA,HIROO , 渋谷明規 , SHIBUYA,AKINORI , 後藤研由 , GOTO,AKIYOSHI , 小島雅史 , KOJIMA,MASAFUMI , 加藤啓太 , KATO,KEITA
IPC分类号： G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/32 , H01L21/027

3. 发明专利

TWI634135B 樹脂、組成物、硬化膜、硬化膜的製造方法及半導體元件有权
简体标题：树脂、组成物、硬化膜、硬化膜的制造方法及半导体组件
公开(公告)号：TWI634135B
公开(公告)日：2018-09-01
申请号：TW105141976
申请日：2016-12-19
申请人：日商富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：川端健志 , KAWABATA, TAKESHI , 岩井悠 , IWAI, YU , 渋谷明規 , SHIBUYA, AKINORI
IPC分类号： C08G73/06 , C08L79/04 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/38 , H01L21/027 , H01L21/312

4. 发明专利

TW201821454A 感光化射線性或感放射線性樹脂組成物、抗蝕劑膜、圖案形成方法、電子器件的製造方法审中-公开
简体标题：感光化射线性或感放射线性树脂组成物、抗蚀剂膜、图案形成方法、电子器件的制造方法
公开(公告)号：TW201821454A
公开(公告)日：2018-06-16
申请号：TW106136960
申请日：2017-10-26
申请人：日商富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：白川三千紘 , SHIRAKAWA, MICHIHIRO , 國田一人 , KUNITA, KAZUTO , 高橋秀知 , TAKAHASHI, HIDENORI , 渋谷明規 , SHIBUYA, AKINORI , 小川倫弘 , OGAWA, MICHIHIRO , 東耕平 , HIGASHI, KOHEI
IPC分类号： C08F220/06 , C08F220/10 , C08F212/14 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/30 , H01L21/027
摘要：本發明提供一種能夠形成LWR小的圖案且曝光寬容度較大的感光化射線性或感放射線性樹脂組成物、抗蝕劑膜、圖案形成方法及電子器件的製造方法。感光化射線性或感放射線性樹脂組成物包含：具有複數個包含反應性基X或其前驅物基之官能基A之化合物A；具有複數個包含與反應性基X進行反應之反應性基Y或其前驅物基之官能基B之化合物B，感光化射線性或感放射線性樹脂組成物進一步包含光酸產生劑、或者化合物A及化合物B中的至少一者進一步具有光酸產生基。
简体摘要：本发明提供一种能够形成LWR小的图案且曝光宽容度较大的感光化射线性或感放射线性树脂组成物、抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。感光化射线性或感放射线性树脂组成物包含：具有复数个包含反应性基X或其前驱物基之官能基A之化合物A；具有复数个包含与反应性基X进行反应之反应性基Y或其前驱物基之官能基B之化合物B，感光化射线性或感放射线性树脂组成物进一步包含光酸产生剂、或者化合物A及化合物B中的至少一者进一步具有光酸产生基。

5. 发明专利

TW201708961A 負型感光性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜的製造方法及半導體元件审中-公开
简体标题：负型感光性树脂组成物、硬化膜、硬化膜的制造方法及半导体组件
公开(公告)号：TW201708961A
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：TW105120280
申请日：2016-06-28
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：岩井悠 , IWAI, YU , 渋谷明規 , SHIBUYA, AKINORI , 小山一郎 , KOYAMA, ICHIRO , 川端健志 , KAWABATA, TAKESHI
IPC分类号： G03F7/038 , G03F7/037 , C08L79/08 , H01L21/027
CPC分类号： C08F290/14 , C08G73/10 , G03F7/027 , G03F7/037 , G03F7/075 , G03F7/20 , G03F7/40
摘要：本發明提供一種曝光寬容度廣的負型感光性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜的製造方法及半導體元件。一種負型感光性樹脂組成物，其包含：具有由下述通式（1）所表示的重複單元的聚醯亞胺前驅物，及光自由基聚合起始劑；通式（1）中，A1 及A2 分別獨立地表示氧原子或-NH-，R11 為於主鏈具有由-(L-O-)n1 -所表示的基的二價的連結基，L為伸烷基或-Si(R)2 -，R為一價的有機基，n1為2以上的整數，R12 表示四價的有機基，R13 及R14 分別獨立地表示氫原子或一價的有機基。通式（1）
简体摘要：本发明提供一种曝光宽容度广的负型感光性树脂组成物、硬化膜、硬化膜的制造方法及半导体组件。一种负型感光性树脂组成物，其包含：具有由下述通式（1）所表示的重复单元的聚酰亚胺前驱物，及光自由基聚合起始剂；通式（1）中，A1 及A2 分别独立地表示氧原子或-NH-，R11 为于主链具有由-(L-O-)n1 -所表示的基的二价的链接基，L为伸烷基或-Si(R)2 -，R为一价的有机基，n1为2以上的整数，R12 表示四价的有机基，R13 及R14 分别独立地表示氢原子或一价的有机基。通式（1）

6. 发明专利

TW201632990A 感光化射線性或感放射線性樹脂組成物及感光化射線性或感放射線性膜审中-公开
简体标题：感光化射线性或感放射线性树脂组成物及感光化射线性或感放射线性膜
公开(公告)号：TW201632990A
公开(公告)日：2016-09-16
申请号：TW105103393
申请日：2016-02-03
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：西尾亮 , NISHIO, RYO , 古谷創 , FURUTANI, HAJIME , 白川三千紘 , SHIRAKAWA, MICHIHIRO , 渋谷明規 , SHIBUYA, AKINORI
IPC分类号： G03F7/004 , C08L33/14 , H01L21/027
CPC分类号： C08F20/28 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/30 , G03F7/38
摘要：本發明提供一種溶解對比度較高、不依賴於顯影液的極性而粗糙度較小的良好圖案、進而提供一種難以顯現橋接缺陷之感光化射線性或感放射線性樹脂組成物及含有該組成物之感光化射線性或感放射線性膜。本發明的感光化射線性或感放射線性樹脂組成物含有：（A）至少含有下述通式（1）所表示之酸分解性基作為藉由酸的作用分解而產生極性基之酸分解性基樹脂；及（B）藉由光化射線或放射線的照射而產生酸之化合物。式中，R1 及R2 各自獨立地表示取代基，L1 表示（n+1）價的連結基，X表示交聯性反應基，n表示1以上的整數，*表示與樹脂（A）的主鏈之鍵結位置。選自R1 、R2 及L1 中之兩個可以彼此鍵結而形成環。其中，L1 不是多環式脂肪族基及-C（CF3 ）2 -中的任何一個，並且當L1 與R1 及R2 中的任意一個形成環時，所形成之環不是多環式脂肪族基。
简体摘要：本发明提供一种溶解对比度较高、不依赖于显影液的极性而粗糙度较小的良好图案、进而提供一种难以显现桥接缺陷之感光化射线性或感放射线性树脂组成物及含有该组成物之感光化射线性或感放射线性膜。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组成物含有：（A）至少含有下述通式（1）所表示之酸分解性基作为借由酸的作用分解而产生极性基之酸分解性基树脂；及（B）借由光化射线或放射线的照射而产生酸之化合物。式中，R1 及R2 各自独立地表示取代基，L1 表示（n+1）价的链接基，X表示交联性反应基，n表示1以上的整数，*表示与树脂（A）的主链之键结位置。选自R1 、R2 及L1 中之两个可以彼此键结而形成环。其中，L1 不是多环式脂肪族基及-C（CF3 ）2 -中的任何一个，并且当L1 与R1 及R2 中的任意一个形成环时，所形成之环不是多环式脂肪族基。

7. 发明专利

TW201523139A 樹脂組成物、圖案形成方法、電子元件的製造方法、電子元件审中-公开
简体标题：树脂组成物、图案形成方法、电子组件的制造方法、电子组件
公开(公告)号：TW201523139A
公开(公告)日：2015-06-16
申请号：TW103140698
申请日：2014-11-25
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：小島雅史 , KOJIMA, MASAFUMI , 後藤硏由 , GOTO, AKIYOSHI , 渋谷明規 , SHIBUYA, AKINORI , 加藤啓太 , KATO, KEITA , 山本慶 , YAMAMOTO, KEI
IPC分类号： G03F7/004 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/11 , G03F7/20 , G03F7/2041 , G03F7/325
摘要：本發明提供一種感光化射線性或感放射線性樹脂組成物，其含有：具有通式(X)所表示的部分結構的樹脂(P)、以及藉由光化射線或放射線的照射而產生酸的化合物。
简体摘要：本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组成物，其含有：具有通式(X)所表示的部分结构的树脂(P)、以及借由光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物。

8. 发明专利

TW201426174A 感光化射線性或感放射線性樹脂組成物、使用該組成物的抗蝕劑膜、圖案形成方法、電子元件的製造方法及電子元件审中-公开
简体标题：感光化射线性或感放射线性树脂组成物、使用该组成物的抗蚀剂膜、图案形成方法、电子组件的制造方法及电子组件
公开(公告)号：TW201426174A
公开(公告)日：2014-07-01
申请号：TW102148578
申请日：2013-12-27
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：小島雅史 , KOJIMA, MASAFUMI , 渋谷明規 , SHIBUYA, AKINORI , 後藤研由 , GOTO, AKIYOSHI , 片岡祥平 , KATAOKA, SHOHEI , 越島康介 , KOSHIJIMA, KOSUKE
IPC分类号： G03F7/004 , C07C381/12 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0045 , C07D279/12 , C07D327/06 , C07D333/46 , C07D335/02 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041
摘要：本發明提供一種感光化射線性或感放射線性樹脂組成物，其含有藉由光化射線或放射線的照射而產生酸的化合物(A)，當將以全氟丁基磺酸三苯基鋶鹽作為基準的情況下的相對吸光度設為εr，且將相對量子效率設為φr時，上述化合物(A)的相對吸光度εr為0.4~0.8，且εr×φr為0.5~1.0。
简体摘要：本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组成物，其含有借由光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物(A)，当将以全氟丁基磺酸三苯基锍盐作为基准的情况下的相对吸光度设为εr，且将相对量子效率设为φr时，上述化合物(A)的相对吸光度εr为0.4~0.8，且εr×φr为0.5~1.0。

9. 发明专利

TW201326105A 樹脂組成物、及使用其的膜、圖案形成方法、電子裝置及其製造方法审中-公开
简体标题：树脂组成物、及使用其的膜、图案形成方法、电子设备及其制造方法
公开(公告)号：TW201326105A
公开(公告)日：2013-07-01
申请号：TW101141189
申请日：2012-11-06
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：渋谷明規 , SHIBUYA, AKINORI , 徳川葉子 , TOKUGAWA, YOKO , 松田知樹 , MATSUDA, TOMOKI , 伊藤純一 , ITO, JUNICHI , 片岡祥平 , KATAOKA, SHOHEI , 福原敏明 , FUKUHARA, TOSHIAKI , 丹呉直紘 , TANGO, NAOHIRO , 岩戶薰 , IWATO, KAORU , 吉留正洋 , YOSHIDOME, MASAHIRO , 杉山真一 , SUGIYAMA, SHINICHI
IPC分类号： C07C381/12 , C08F20/18 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/038 , C07C303/32 , C07C309/04 , C07C309/12 , C07D295/16 , C07D327/06 , C07D339/08 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/325
摘要：本發明提供一種曝光寬容度以及線寬粗糙度(line width roughness，LWR)等圖案粗糙度優異、隨時間經過的顆粒產生少、且在液浸曝光的情況下所產生的酸在液浸液中的溶出少的感光化射線性或感放射線性樹脂組成物、使用其的感光化射線性或感放射線性膜以及圖案形成方法。本發明的感光化射線性或感放射線性樹脂組成物含有：(A)下述通式(1)所表示的藉由照射光化射線或放射線而產生酸的化合物、以及(B)樹脂。[化1]
简体摘要：本发明提供一种曝光宽容度以及线宽粗糙度(line width roughness，LWR)等图案粗糙度优异、随时间经过的颗粒产生少、且在液浸曝光的情况下所产生的酸在液浸液中的溶出少的感光化射线性或感放射线性树脂组成物、使用其的感光化射线性或感放射线性膜以及图案形成方法。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组成物含有：(A)下述通式(1)所表示的借由照射光化射线或放射线而产生酸的化合物、以及(B)树脂。[化1]

10. 发明专利

TWI625232B 積層體、積層體的製造方法、半導體元件以及半導體元件的製造方法有权
简体标题：积层体、积层体的制造方法、半导体组件以及半导体组件的制造方法
公开(公告)号：TWI625232B
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：TW106105668
申请日：2017-02-21
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：岩井悠 , IWAI, YU , 川端健志 , KAWABATA, TAKESHI , 渋谷明規 , SHIBUYA, AKINORI
IPC分类号： B32B27/00 , B32B27/34 , B32B7/02 , G03F7/027 , G03F7/40 , H01L23/12 , H01L23/14

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