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1. 发明专利

TWI699619B 圖案形成方法有权
简体标题：图案形成方法
公开(公告)号：TWI699619B
公开(公告)日：2020-07-21
申请号：TW105116918
申请日：2016-05-30
申请人：日商東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：野田国宏 , NODA, KUNIHIRO , 千坂博樹 , CHISAKA, HIROKI , 塩田大 , SHIOTA, DAI
IPC分类号： G03F7/038 , G03F7/32

2. 发明专利

TWI696046B 有機系處理液及圖案形成方法有权
简体标题：有机系处理液及图案形成方法
公开(公告)号：TWI696046B
公开(公告)日：2020-06-11
申请号：TW104143701
申请日：2015-12-25
申请人：日商富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：土橋徹 , TSUCHIHASHI, TORU , 椿英明 , TSUBAKI, HIDEAKI , 山本慶 , YAMAMOTO, KEI
IPC分类号： G03F7/32 , C11D7/26 , C11D7/24 , G03F7/40

3. 发明专利

TWI688823B 感光性組合物、硬化膜的製造方法、硬化膜及其應用有权
简体标题：感光性组合物、硬化膜的制造方法、硬化膜及其应用
公开(公告)号：TWI688823B
公开(公告)日：2020-03-21
申请号：TW104132013
申请日：2015-09-30
申请人：日商富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：崎田享平 , SAKITA, KYOUHEI , 米澤裕之 , YONEZAWA, HIROYUKI
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/027 , G03F7/031 , G03F7/075 , G03F7/32 , G03F7/40 , G02F1/1333 , H01L51/52 , G06F3/041

4. 发明专利

TWI684589B 光微影用顯影液及阻劑圖型形成方法有权
简体标题：光微影用显影液及阻剂图型形成方法
公开(公告)号：TWI684589B
公开(公告)日：2020-02-11
申请号：TW105106167
申请日：2016-03-01
申请人：日商東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：千坂博樹 , CHISAKA, HIROKI , 野田国宏 , NODA, KUNIHIRO , 三隅浩一 , MISUMI, KOICHI , 塩田大 , SHIOTA, DAI
IPC分类号： C07D233/58 , G03F7/32 , H01L21/027

5. 发明专利

TWI671590B 感光化射線性或感放射線性樹脂組成物、圖案形成方法及電子裝置的製造方法有权
简体标题：感光化射线性或感放射线性树脂组成物、图案形成方法及电子设备的制造方法
公开(公告)号：TWI671590B
公开(公告)日：2019-09-11
申请号：TW104128241
申请日：2015-08-28
申请人：日商富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：後藤研由 , GOTO, AKIYOSHI , 小島雅史 , KOJIMA, MASAFUMI , 加藤啓太 , KATO, KEITA , 王惠瑜 , OU, KEIYU , 白川三千紘 , SHIRAKAWA, MICHIHIRO
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/075 , C08F220/10 , C08F230/08 , G03F7/32 , H01L21/027

6. 发明专利

TW201910391A 感放射線性組成物及抗蝕劑圖案形成方法审中-公开
简体标题：感放射线性组成物及抗蚀剂图案形成方法
公开(公告)号：TW201910391A
公开(公告)日：2019-03-16
申请号：TW107127459
申请日：2018-08-07
申请人：日商JSR股份有限公司 , JSR CORPORATION
发明人：中川恭志 , NAKAGAWA, HISASHI , 浅野裕介 , ASANO, YUSUKE , 峯岸信也 , MINEGISHI, SHINYA
IPC分类号： C08G79/00 , C07C25/18 , C07C309/06 , C07C381/12 , C07C309/17 , C08G79/12 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/20 , G03F7/32 , H01L21/027
摘要：本發明的目的在於提供一種感度及解析性優異的感放射線性組成物及抗蝕劑圖案形成方法。本發明是含有具有下述式（1）所表示的結構單元的聚金屬氧烷、感放射線性酸產生體、及溶媒的感放射線性組成物。下述式（1）中，M為鍺原子、錫原子或鉛原子。Ar1為經取代或未經取代的環員數6～20的芳基或者經取代或未經取代的環員數5～20的雜芳基。R1為碳數1～20的一價有機基、氫原子、鹵素原子或羥基。n為2或3。
简体摘要：本发明的目的在于提供一种感度及解析性优异的感放射线性组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明是含有具有下述式（1）所表示的结构单元的聚金属氧烷、感放射线性酸产生体、及溶媒的感放射线性组成物。下述式（1）中，M为锗原子、锡原子或铅原子。Ar1为经取代或未经取代的环员数6～20的芳基或者经取代或未经取代的环员数5～20的杂芳基。R1为碳数1～20的一价有机基、氢原子、卤素原子或羟基。n为2或3。

7. 发明专利

TW201906811A 藥液、藥液收容體审中-公开
简体标题：药液、药液收容体
公开(公告)号：TW201906811A
公开(公告)日：2019-02-16
申请号：TW107123339
申请日：2018-07-05
申请人：日商富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：上村哲也 , KAMIMURA, TETSUYA
IPC分类号： C07C233/36 , G03F7/16 , G03F7/32 , G03F7/40 , G03F7/42 , H01L21/027 , B65D1/00 , B65D43/02
摘要：本發明的課題為提供一種缺陷抑制性能優異之藥液及藥液收容體。本發明的藥液含有在25℃下的導電率為10-5S/m以下的有機溶劑及由通式（I）表示之化合物，該藥液中，相對於藥液總質量，由通式（I）表示之化合物的含量為0.10質量ppt～100000質量ppt。
简体摘要：本发明的课题为提供一种缺陷抑制性能优异之药液及药液收容体。本发明的药液含有在25℃下的导电率为10-5S/m以下的有机溶剂及由通式（I）表示之化合物，该药液中，相对于药液总质量，由通式（I）表示之化合物的含量为0.10质量ppt～100000质量ppt。

8. 发明专利

TWI647740B 基板處理方法、基板處理裝置及記錄媒體有权
简体标题：基板处理方法、基板处理设备及记录媒体
公开(公告)号：TWI647740B
公开(公告)日：2019-01-11
申请号：TW105132121
申请日：2016-10-05
申请人：日商東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：橋本祐作 , HASHIMOTO, YUSAKU , 下青木剛 , SHIMOAOKI, TAKESHI , 福田昌弘 , FUKUDA, MASAHIRO , 田中公一朗 , TANAKA, KOUICHIROU
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/30 , G03F7/32

9. 发明专利

TWI641910B 正型光阻組成物、光阻圖案形成方法、及空白光罩有权
简体标题：正型光阻组成物、光阻图案形成方法、及空白光罩
公开(公告)号：TWI641910B
公开(公告)日：2018-11-21
申请号：TW106125981
申请日：2017-08-02
申请人：日商信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：增永惠一 , MASUNAGA, KEIICHI , 渡邊聰 , WATANABE, SATOSHI , 小竹正晃 , KOTAKE, MASAAKI , 大橋正樹 , OHASHI, MASAKI
IPC分类号： G03F7/004 , C07C381/12 , C08F212/14 , C08F212/32 , C08F220/30 , G03F7/039 , G03F7/20 , G03F7/32 , G03F1/20 , G03F1/22 , H01L21/027

10. 发明专利

TW201840842A 藥液、藥液收容體、藥液的製造方法以及藥液收容體的製造方法审中-公开
简体标题：药液、药液收容体、药液的制造方法以及药液收容体的制造方法
公开(公告)号：TW201840842A
公开(公告)日：2018-11-16
申请号：TW106126843
申请日：2017-08-09
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：上村哲也 , KAMIMURA, TETSUYA
IPC分类号： C11D17/08 , C11D11/00 , G03F7/32
摘要：本發明的課題為提供一種具有優異的缺陷抑制性能且在製造該藥液時不易引起藥液製造用的裝置所具備之移送管路破損的藥液。又，本發明的另一課題為提供藥液收容體、藥液的製造方法及藥液收容體的製造方法。本發明的藥液含有有機溶劑及選自由Fe原子、Cr原子、Ni原子及Pb原子構成之組群之至少1種原子的離子，藥液中含有1種上述離子時，上述金屬離子的含量為0.1～100質量ppt，藥液中含有2種以上上述離子時，上述金屬離子各自的含量為0.1～100質量ppt，靜電電位為100mV以下。
简体摘要：本发明的课题为提供一种具有优异的缺陷抑制性能且在制造该药液时不易引起药液制造用的设备所具备之移送管路破损的药液。又，本发明的另一课题为提供药液收容体、药液的制造方法及药液收容体的制造方法。本发明的药液含有有机溶剂及选自由Fe原子、Cr原子、Ni原子及Pb原子构成之组群之至少1种原子的离子，药液中含有1种上述离子时，上述金属离子的含量为0.1～100质量ppt，药液中含有2种以上上述离子时，上述金属离子各自的含量为0.1～100质量ppt，静电电位为100mV以下。

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