基本信息:
- 专利标题： 感光化射線性或感放射線性樹脂組成物、使用該組成物的抗蝕劑膜、圖案形成方法、電子元件的製造方法及電子元件
- 专利标题（英）：Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film using the same, pattern forming method, method for manufacturing electronic device and electronic device
- 专利标题（中）：感光化射线性或感放射线性树脂组成物、使用该组成物的抗蚀剂膜、图案形成方法、电子组件的制造方法及电子组件
- 申请号：TW102148578 申请日：2013-12-27
- 公开(公告)号：TW201426174A 公开(公告)日：2014-07-01
- 发明人： 小島雅史 , KOJIMA, MASAFUMI , 渋谷明規 , SHIBUYA, AKINORI , 後藤研由 , GOTO, AKIYOSHI , 片岡祥平 , KATAOKA, SHOHEI , 越島康介 , KOSHIJIMA, KOSUKE
- 申请人： 富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
- 专利权人： 富士軟片股份有限公司,FUJIFILM CORPORATION
- 当前专利权人： 富士軟片股份有限公司,FUJIFILM CORPORATION
- 代理人： 詹銘文; 葉璟宗
- 优先权： 2012-288967 20121228
- 主分类号： G03F7/004
- IPC分类号： G03F7/004 ; C07C381/12 ; H01L21/027
摘要：
本發明提供一種感光化射線性或感放射線性樹脂組成物，其含有藉由光化射線或放射線的照射而產生酸的化合物(A)，當將以全氟丁基磺酸三苯基鋶鹽作為基準的情況下的相對吸光度設為εr，且將相對量子效率設為φr時，上述化合物(A)的相對吸光度εr為0.4~0.8，且εr×φr為0.5~1.0。
摘要（中）：
本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组成物，其含有借由光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物(A)，当将以全氟丁基磺酸三苯基锍盐作为基准的情况下的相对吸光度设为εr，且将相对量子效率设为φr时，上述化合物(A)的相对吸光度εr为0.4~0.8，且εr×φr为0.5~1.0。
摘要（英）：
An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition is provided, which includes a compound (A) that produces an acid by irradiation of an actinic ray or a radiation. When a relative absorbance is set as &egr; r and a relative quantum efficiency is set as &phgr; r under the condition that triphenylsulfonium nonaflate is set as the standard, the relative absorbance &egr; r of the compound (A) is 0.4 to 0.8, and &egr; r* &phgr; r is 0.5 to 1.0.
公开/授权文献:
- TWI585523B 感光化射線性或感放射線性樹脂組成物、使用該組成物的抗蝕劑膜、圖案形成方法、電子元件的製造方法及電子元件 公开/授权日：2017-06-01