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1. 发明专利

TWI680353B 圖案形成方法、抗蝕劑圖案及電子元件的製造方法有权
简体标题：图案形成方法、抗蚀剂图案及电子组件的制造方法
公开(公告)号：TWI680353B
公开(公告)日：2019-12-21
申请号：TW104131674
申请日：2015-09-25
申请人：日商富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：山本慶 , YAMAMOTO, KEI , 丹呉直紘 , TANGO, NAOHIRO , 井上尚紀 , INOUE, NAOKI , 白川三千紘 , SHIRAKAWA, MICHIHIRO , 後藤研由 , GOTO, AKIYOSHI
IPC分类号： G03F7/11 , G03F7/26 , H01L21/027

2. 发明专利

TW201704878A 圖案形成方法、抗蝕劑圖案、電子元件的製造方法及上層膜形成用組成物审中-公开
简体标题：图案形成方法、抗蚀剂图案、电子组件的制造方法及上层膜形成用组成物
公开(公告)号：TW201704878A
公开(公告)日：2017-02-01
申请号：TW105109099
申请日：2016-03-24
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：畠山直也 , HATAKEYAMA, NAOYA , 井上尚紀 , INOUE, NAOKI , 丹呉直紘 , TANGO, NAOHIRO , 白川三千紘 , SHIRAKAWA, MICHIHIRO , 後藤研由 , GOTO, AKIYOSHI
IPC分类号： G03F7/11 , G03F7/095 , H01L21/027 , G03F7/038 , G03F7/039
CPC分类号： G03F7/11 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F2220/185 , C08F2220/1858 , C08F2220/1891 , C08F2220/283 , C09D133/066 , C09D133/10 , C09D133/14 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/0397 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/2006 , G03F7/2041 , G03F7/325 , H01L21/027
摘要：藉由本發明的圖案形成方法、利用所述圖案形成方法而形成的抗蝕劑圖案、包含所述圖案形成方法的電子元件的製造方法及上層膜形成用組成物，而高水準地使DOF、EL及液狀殘渣缺陷性能併存，所述圖案形成方法包括：步驟a，將感光化射線性或感放射線性樹脂組成物塗佈於基板上而形成抗蝕劑膜；步驟b，在抗蝕劑膜上使用上層膜形成用組成物而形成上層膜；步驟c，對形成有上層膜的抗蝕劑膜進行曝光；以及步驟d，使用包含有機溶劑的顯影液，對經曝光的抗蝕劑膜進行顯影而形成圖案；並且上層膜形成用組成物含有具有ClogP值為2.85以上的重複單元（a）的樹脂、及ClogP為1.30以下的化合物（b），且上層膜對水的後退接觸角為70度以上。
简体摘要：借由本发明的图案形成方法、利用所述图案形成方法而形成的抗蚀剂图案、包含所述图案形成方法的电子组件的制造方法及上层膜形成用组成物，而高水准地使DOF、EL及液状残渣缺陷性能并存，所述图案形成方法包括：步骤a，将感光化射线性或感放射线性树脂组成物涂布于基板上而形成抗蚀剂膜；步骤b，在抗蚀剂膜上使用上层膜形成用组成物而形成上层膜；步骤c，对形成有上层膜的抗蚀剂膜进行曝光；以及步骤d，使用包含有机溶剂的显影液，对经曝光的抗蚀剂膜进行显影而形成图案；并且上层膜形成用组成物含有具有ClogP值为2.85以上的重复单元（a）的树脂、及ClogP为1.30以下的化合物（b），且上层膜对水的后退接触角为70度以上。

3. 发明专利

TW201612643A 圖案形成方法、保護膜形成用組成物及電子元件的製造方法审中-公开
简体标题：图案形成方法、保护膜形成用组成物及电子组件的制造方法
公开(公告)号：TW201612643A
公开(公告)日：2016-04-01
申请号：TW104131971
申请日：2015-09-30
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：井上尚紀 , INOUE, NAOKI , 丹呉直紘 , TANGO, NAOHIRO , 山本慶 , YAMAMOTO, KEI , 白川三千紘 , SHIRAKAWA, MICHIHIRO , 後藤研由 , GOTO, AKIYOSHI
IPC分类号： G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20 , G03F7/32 , G03F7/11 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/11 , C08F2/48 , C08F220/18 , C09D133/08 , C09D133/10 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/0397 , G03F7/091 , G03F7/16 , G03F7/168 , G03F7/2041 , G03F7/325 , G03F7/327 , G03F7/38 , G03F7/40 , C08F2220/283 , C08F2220/1875 , C08F2220/185
摘要：本發明是有關於一種圖案形成方法及該圖案形成方法中適合使用的保護膜形成用組成物，所述圖案形成方法能夠形成焦點深度及曝光寬容度優異且線邊緣粗糙度得到抑制的圖案。本發明的圖案形成方法包括：將感光化射線性或感放射線性樹脂組成物塗佈於基板上而形成感光化射線性或感放射線性膜的步驟；將保護膜形成用組成物塗佈於所述感光化射線性或感放射線性膜上而形成保護膜的步驟；對由所述保護膜所被覆的感光化射線性或感放射線性膜進行曝光的步驟；以及利用包含有機溶劑的顯影液，對經曝光的所述感光化射線性或感放射線性膜進行顯影的步驟；所述保護膜含有：包含至少一個選自由醚鍵、硫醚鍵、羥基、硫醇基、羰基鍵及酯鍵所組成的組群中的基團或鍵的化合物（A），以及樹脂（X）。
简体摘要：本发明是有关于一种图案形成方法及该图案形成方法中适合使用的保护膜形成用组成物，所述图案形成方法能够形成焦点深度及曝光宽容度优异且线边缘粗糙度得到抑制的图案。本发明的图案形成方法包括：将感光化射线性或感放射线性树脂组成物涂布于基板上而形成感光化射线性或感放射线性膜的步骤；将保护膜形成用组成物涂布于所述感光化射线性或感放射线性膜上而形成保护膜的步骤；对由所述保护膜所被覆的感光化射线性或感放射线性膜进行曝光的步骤；以及利用包含有机溶剂的显影液，对经曝光的所述感光化射线性或感放射线性膜进行显影的步骤；所述保护膜含有：包含至少一个选自由醚键、硫醚键、羟基、硫醇基、羰基键及酯键所组成的组群中的基团或键的化合物（A），以及树脂（X）。

4. 发明专利

TW201435507A 感光化射線性或感放射線性樹脂組成物、使用該組成物的抗蝕劑膜、圖案形成方法、電子元件的製造方法及電子元件审中-公开
简体标题：感光化射线性或感放射线性树脂组成物、使用该组成物的抗蚀剂膜、图案形成方法、电子组件的制造方法及电子组件
公开(公告)号：TW201435507A
公开(公告)日：2014-09-16
申请号：TW103108860
申请日：2014-03-13
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：丹呉直紘 , TANGO, NAOHIRO , 吉留正洋 , YOSHIDOME, MASAHIRO , 山本慶 , YAMAMOTO, KEI , 山本長生 , YAMAMOTO, HISAO , 片岡祥平 , KATAOKA, SHOHEI
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/075 , H01L21/31 , H01L21/311 , H01L21/306 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/2041 , C08F2230/085 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/0755
摘要：一種感光化射線性或感放射線性樹脂組成物，其可抑制超微細區域中的圖案崩塌、提昇焦點深度，包括：(A)具有含有因酸的作用而分解並產生極性基的基的重複單元的樹脂、(B)藉由光化射線或放射線的照射而產生酸的化合物、以及(F)由通式(1)所表示的化合物。通式(1)中，R1表示烷基、環烷基、芳基或醯基。當存在多個R1時，R1分別獨立地表示烷基、環烷基、芳基或醯基。X表示具有選自由胺基、含氮雜環基、環氧基、甲基丙烯醯基、乙烯基及巰基所組成的群組中的至少1種的有機基，烷基，環烷基，芳基或烷氧基。n表示0~3的整數。
简体摘要：一种感光化射线性或感放射线性树脂组成物，其可抑制超微细区域中的图案崩塌、提升焦点深度，包括：(A)具有含有因酸的作用而分解并产生极性基的基的重复单元的树脂、(B)借由光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物、以及(F)由通式(1)所表示的化合物。通式(1)中，R1表示烷基、环烷基、芳基或酰基。当存在多个R1时，R1分别独立地表示烷基、环烷基、芳基或酰基。X表示具有选自由胺基、含氮杂环基、环氧基、甲基丙烯酰基、乙烯基及巯基所组成的群组中的至少1种的有机基，烷基，环烷基，芳基或烷氧基。n表示0~3的整数。

5. 发明专利

TWI701512B 圖案形成方法、電子元件的製造方法、積層膜及上層膜形成用組成物有权
简体标题：图案形成方法、电子组件的制造方法、积层膜及上层膜形成用组成物
公开(公告)号：TWI701512B
公开(公告)日：2020-08-11
申请号：TW105139637
申请日：2016-12-01
申请人：日商富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：井上尚紀 , INOUE, NAOKI , 丹呉直紘 , TANGO, NAOHIRO , 白川三千紘 , SHIRAKAWA, MICHIHIRO , 後藤研由 , GOTO, AKIYOSHI
IPC分类号： G03F7/11

6. 发明专利

TW202011114A 感光化射線性或感放射線性樹脂組成物、感光化射線性或感放射線性膜、圖案形成方法、電子器件之製造方法审中-公开
简体标题：感光化射线性或感放射线性树脂组成物、感光化射线性或感放射线性膜、图案形成方法、电子器件之制造方法
公开(公告)号：TW202011114A
公开(公告)日：2020-03-16
申请号：TW108126202
申请日：2019-07-24
申请人：日商富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：吉村務 , YOSHIMURA, TSUTOMU , 川端健志 , KAWABATA, TAKESHI , 後藤研由 , GOTO, AKIYOSHI , 丹呉直紘 , TANGO, NAOHIRO , 王惠瑜 , OU, KEIYU , 丸茂和博 , MARUMO, KAZUHIRO
IPC分类号： G03F7/004 , H01L21/027
摘要：本發明提供一種感光化射線性或感放射線性樹脂組成物、使用其之感光化射線性或感放射線性膜、圖案形成方法及電子器件之製造方法，該感光化射線性或感放射線性樹脂組成物含有共聚物（P），該共聚物（P）包含兩種以上的重複單元，上述兩種以上的重複單元中的至少一種係具有氟原子或矽原子、或碳數6以上的直鏈狀或支鏈狀的烴基，並且滿足特定的條件。
简体摘要：本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组成物、使用其之感光化射线性或感放射线性膜、图案形成方法及电子器件之制造方法，该感光化射线性或感放射线性树脂组成物含有共聚物（P），该共聚物（P）包含两种以上的重复单元，上述两种以上的重复单元中的至少一种系具有氟原子或硅原子、或碳数6以上的直链状或支链状的烃基，并且满足特定的条件。

7. 发明专利

TW201910417A 感光化射線性或感放射線性樹脂組成物、抗蝕劑膜、圖案形成方法及電子元件的製造方法审中-公开
简体标题：感光化射线性或感放射线性树脂组成物、抗蚀剂膜、图案形成方法及电子组件的制造方法
公开(公告)号：TW201910417A
公开(公告)日：2019-03-16
申请号：TW107124008
申请日：2018-07-12
申请人：日商富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：西尾亮 , NISHIO, RYO , 髙田暁 , TAKADA, AKIRA , 後藤研由 , GOTO, AKIYOSHI , 丹呉直紘 , TANGO, NAOHIRO , 丸茂和博 , MARUMO, KAZUHIRO , 王惠瑜 , O, KEIYU
IPC分类号： C08L33/04 , C08F220/26 , G03F7/038 , G03F7/004 , H01L21/027
摘要：本發明提供一種能夠形成具有優異之水追隨性之抗蝕劑膜、且顯示出優異之DOF之感光化射線性或感放射線性樹脂組成物、抗蝕劑膜、圖案形成方法及電子元件的製造方法。感光化射線性或感放射線性樹脂組成物包含藉由酸的作用而對鹼水溶液之溶解度增大之樹脂、藉由光化射線或放射線的照射而產生酸之化合物、酯化合物及含氟聚合物，酯化合物具有鹼分解性，且分子量為50以上且小於1500。
简体摘要：本发明提供一种能够形成具有优异之水追随性之抗蚀剂膜、且显示出优异之DOF之感光化射线性或感放射线性树脂组成物、抗蚀剂膜、图案形成方法及电子组件的制造方法。感光化射线性或感放射线性树脂组成物包含借由酸的作用而对碱水溶液之溶解度增大之树脂、借由光化射线或放射线的照射而产生酸之化合物、酯化合物及含氟聚合物，酯化合物具有碱分解性，且分子量为50以上且小于1500。

8. 发明专利

TW201642050A 反轉圖案形成方法、圖像反轉用組成物以及電子元件的製造方法审中-公开
简体标题：反转图案形成方法、图像反转用组成物以及电子组件的制造方法
公开(公告)号：TW201642050A
公开(公告)日：2016-12-01
申请号：TW105116375
申请日：2016-05-26
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：加藤啓太 , KATO, KEITA , 丹呉直紘 , TANGO, NAOHIRO , 後藤研由 , GOTO, AKIYOSHI
IPC分类号： G03F7/26 , H01L21/30
CPC分类号： C08F12/24 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20 , G03F7/40 , H01L21/027
摘要：本發明提供一種反轉圖案形成方法，其包括：（a）使用感光化射線性或感放射線性樹脂組成物來形成感光化射線性或感放射線性膜的步驟；（b）對所述感光化射線性或感放射線性膜進行曝光的步驟；（c）藉由利用含有有機溶劑的顯影液對經曝光的所述感光化射線性或感放射線性膜進行顯影，而形成包括殘膜部與空間部的負型圖案的步驟；（d）於所述負型圖案上塗佈圖像反轉用組成物而將該圖像反轉用組成物埋入至所述空間部的步驟；以及（e）藉由蝕刻處理將所述負型圖案的所述殘膜部去除而獲得反轉圖案的步驟。所述圖像反轉用組成物含有樹脂，該樹脂中的矽原子及金屬原子的含有率以合計計為0質量%～20質量%。
简体摘要：本发明提供一种反转图案形成方法，其包括：（a）使用感光化射线性或感放射线性树脂组成物来形成感光化射线性或感放射线性膜的步骤；（b）对所述感光化射线性或感放射线性膜进行曝光的步骤；（c）借由利用含有有机溶剂的显影液对经曝光的所述感光化射线性或感放射线性膜进行显影，而形成包括残膜部与空间部的负型图案的步骤；（d）于所述负型图案上涂布图像反转用组成物而将该图像反转用组成物埋入至所述空间部的步骤；以及（e）借由蚀刻处理将所述负型图案的所述残膜部去除而获得反转图案的步骤。所述图像反转用组成物含有树脂，该树脂中的硅原子及金属原子的含有率以合计计为0质量%～20质量%。

9. 发明专利

TW201638658A 圖案形成方法、抗蝕圖案、及電子元件的製造方法审中-公开
简体标题：图案形成方法、抗蚀图案、及电子组件的制造方法
公开(公告)号：TW201638658A
公开(公告)日：2016-11-01
申请号：TW105103395
申请日：2016-02-03
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：井上尚紀 , INOUE, NAOKI , 丹呉直紘 , TANGO, NAOHIRO , 白川三千紘 , SHIRAKAWA, MICHIHIRO , 山本慶 , YAMAMOTO, KEI , 後藤研由 , GOTO, AKIYOSHI
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/11 , C08L33/10 , C08L33/14 , H01L21/027
CPC分类号： C08F212/14 , C08F12/20 , C08F12/22 , C08F222/38 , G03F7/0045 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/325
摘要：本發明的圖案形成方法具備：將含有極性藉由酸的作用增大之樹脂之感光化射線性或感放射線性樹脂組成物塗佈於基板上，形成光阻膜之製程；在上述光阻膜上形成上層膜之製程；將形成有上述上層膜之上述光阻膜進行曝光之製程；及使用有機系顯影液對上述經曝光之上述光阻膜進行顯影來形成圖案之製程，上述極性藉由酸的作用增大之樹脂含有具有碳原子數4～7的酸脱離性基a之酸分解性重複單元，且上述酸脱離性基a的碳原子數的最大值及保護率滿足特定條件。
简体摘要：本发明的图案形成方法具备：将含有极性借由酸的作用增大之树脂之感光化射线性或感放射线性树脂组成物涂布于基板上，形成光阻膜之制程；在上述光阻膜上形成上层膜之制程；将形成有上述上层膜之上述光阻膜进行曝光之制程；及使用有机系显影液对上述经曝光之上述光阻膜进行显影来形成图案之制程，上述极性借由酸的作用增大之树脂含有具有碳原子数4～7的酸脱离性基a之酸分解性重复单元，且上述酸脱离性基a的碳原子数的最大值及保护率满足特定条件。

10. 发明专利

TW201536729A 感光化射線性或感放射線性樹脂組成物及使用其之圖案形成方法审中-公开
简体标题：感光化射线性或感放射线性树脂组成物及使用其之图案形成方法
公开(公告)号：TW201536729A
公开(公告)日：2015-10-01
申请号：TW104120500
申请日：2010-08-31
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：白川三千紘 , SHIRAKAWA, MICHIHIRO , 丹吳直紘 , TANGO, NAOHIRO , 涉谷明規 , SHIBUYA, AKINORI , 山口修平 , YAMAGUCHI, SHUHEI , 片岡祥平 , KATAOKA, SHOHEI
IPC分类号： C07C381/12 , G03F7/004 , C08L101/04 , H01L21/027
摘要：提供可形成於圖案之正圓度改善有效果、焦點寬容度良好的圖案之感光化射線性或感放射線性樹脂組成物、及使用其之圖案形成方法。一種感光化射線性或感放射線性樹脂組成物，其為含有(A)藉由酸之作用增大對鹼顯影液之溶解度之樹脂，及(B)由下述一般式(1-1)或(1-2)表示之藉由光化射線或放射線之照射產生酸之化合物而成的感光化射線性或感放射線性樹脂組成物，樹脂(A)含有具有酸分解性基的重複單元，該重複單元的含有率相對於樹脂(A)中的全部重複單元為45~75莫耳%，且化合物(B)的含有率以該組成物的總固體成分為基準為10~30質量%。(式中的各符號係具有於本說明書及申請專利範圍中記載的意義)
简体摘要：提供可形成于图案之正圆度改善有效果、焦点宽容度良好的图案之感光化射线性或感放射线性树脂组成物、及使用其之图案形成方法。一种感光化射线性或感放射线性树脂组成物，其为含有(A)借由酸之作用增大对碱显影液之溶解度之树脂，及(B)由下述一般式(1-1)或(1-2)表示之借由光化射线或放射线之照射产生酸之化合物而成的感光化射线性或感放射线性树脂组成物，树脂(A)含有具有酸分解性基的重复单元，该重复单元的含有率相对于树脂(A)中的全部重复单元为45~75莫耳%，且化合物(B)的含有率以该组成物的总固体成分为基准为10~30质量%。(式中的各符号系具有于本说明书及申请专利范围中记载的意义)

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