专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TW201821454A 感光化射線性或感放射線性樹脂組成物、抗蝕劑膜、圖案形成方法、電子器件的製造方法审中-公开
简体标题：感光化射线性或感放射线性树脂组成物、抗蚀剂膜、图案形成方法、电子器件的制造方法
公开(公告)号：TW201821454A
公开(公告)日：2018-06-16
申请号：TW106136960
申请日：2017-10-26
申请人：日商富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：白川三千紘 , SHIRAKAWA, MICHIHIRO , 國田一人 , KUNITA, KAZUTO , 高橋秀知 , TAKAHASHI, HIDENORI , 渋谷明規 , SHIBUYA, AKINORI , 小川倫弘 , OGAWA, MICHIHIRO , 東耕平 , HIGASHI, KOHEI
IPC分类号： C08F220/06 , C08F220/10 , C08F212/14 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/30 , H01L21/027
摘要：本發明提供一種能夠形成LWR小的圖案且曝光寬容度較大的感光化射線性或感放射線性樹脂組成物、抗蝕劑膜、圖案形成方法及電子器件的製造方法。感光化射線性或感放射線性樹脂組成物包含：具有複數個包含反應性基X或其前驅物基之官能基A之化合物A；具有複數個包含與反應性基X進行反應之反應性基Y或其前驅物基之官能基B之化合物B，感光化射線性或感放射線性樹脂組成物進一步包含光酸產生劑、或者化合物A及化合物B中的至少一者進一步具有光酸產生基。
简体摘要：本发明提供一种能够形成LWR小的图案且曝光宽容度较大的感光化射线性或感放射线性树脂组成物、抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。感光化射线性或感放射线性树脂组成物包含：具有复数个包含反应性基X或其前驱物基之官能基A之化合物A；具有复数个包含与反应性基X进行反应之反应性基Y或其前驱物基之官能基B之化合物B，感光化射线性或感放射线性树脂组成物进一步包含光酸产生剂、或者化合物A及化合物B中的至少一者进一步具有光酸产生基。

2. 发明专利

TWI680472B 導電性膜、觸控面板感測器以及觸控面板有权
简体标题：导电性膜、触摸皮肤传感器以及触摸皮肤
公开(公告)号：TWI680472B
公开(公告)日：2019-12-21
申请号：TW105116539
申请日：2016-05-27
申请人：日商富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：東耕平 , HIGASHI, KOHEI , 塚本直樹 , TSUKAMOTO, NAOKI , 佐藤真隆 , SATOU, MASATAKA
IPC分类号： H01B5/14 , B32B15/08 , C23C18/30 , C23C18/31 , G06F3/041 , G06F3/044 , G09F9/00 , H05K9/00

3. 发明专利

TW202010763A 感光化射線性或感放射線性樹脂組成物、圖案形成方法、抗蝕劑膜及電子元件的製造方法审中-公开
简体标题：感光化射线性或感放射线性树脂组成物、图案形成方法、抗蚀剂膜及电子组件的制造方法
公开(公告)号：TW202010763A
公开(公告)日：2020-03-16
申请号：TW108125883
申请日：2019-07-22
申请人：日商富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：冨賀敬充 , TOMIGA, TAKAMITSU , 椿英明 , TSUBAKI, HIDEAKI , 東耕平 , HIGASHI, KOHEI , 米久田康智 , YONEKUTA, YASUNORI , 畠山直也 , HATAKEYAMA, NAOYA
IPC分类号： C08F212/14 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F212/08 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/38 , H01L21/027
摘要：本發明提供一種感光化射線性或感放射線性樹脂組成物、使用上述組成物之抗蝕劑膜、圖案形成方法、及電子元件的製造方法，該感光化射線性或感放射線性樹脂組成物含有樹脂（A）、溶劑（B）以及光酸產生劑，樹脂（A）包含源自作為均聚物時之玻璃轉移溫度為50℃以下之單體之非酸分解性的重複單元（a1）、以及具有酸分解性基團之重複單元（a2），並且，包含具有芳香族環之重複單元，溶劑（B）的沸點為135℃以下且黏度為1.5mPa·s以下。
简体摘要：本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组成物、使用上述组成物之抗蚀剂膜、图案形成方法、及电子组件的制造方法，该感光化射线性或感放射线性树脂组成物含有树脂（A）、溶剂（B）以及光酸产生剂，树脂（A）包含源自作为均聚物时之玻璃转移温度为50℃以下之单体之非酸分解性的重复单元（a1）、以及具有酸分解性基团之重复单元（a2），并且，包含具有芳香族环之重复单元，溶剂（B）的沸点为135℃以下且黏度为1.5mPa·s以下。

4. 发明专利

TW201920310A 感光化射線性或感放射線性樹脂組成物、抗蝕劑膜、圖案形成方法及電子元件的製造方法审中-公开
简体标题：感光化射线性或感放射线性树脂组成物、抗蚀剂膜、图案形成方法及电子组件的制造方法
公开(公告)号：TW201920310A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107132037
申请日：2018-09-12
申请人：日商富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：吉村務 , YOSHIMURA, TSUTOMU , 米久田康智 , YONEKUTA, YASUNORI , 畠山直也 , HATAKEYAMA, NAOYA , 東耕平 , HIGASHI, KOHEI , 西田陽一 , NISHIDA, YOICHI
IPC分类号： C08F212/08 , C08F212/14 , C08F220/18 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/20 , G03F7/30 , H01L21/027
摘要：藉由本發明，提供一種感光化射線性或感放射線性樹脂組成物、使用了感光化射線性或感放射線性樹脂組成物之抗蝕劑膜、圖案形成方法及電子元件之製造方法，該感光化射線性或感放射線性樹脂組成物含有樹脂(A)且用於形成如膜厚為2μm以上的膜，上述樹脂(A)包含具有酸性基之重複單元及具有酸分解性基之重複單元，上述具有酸性基之重複單元的含量相對於上述樹脂(A)中的所有重複單元係15莫耳%以上，上述具有酸分解性基之重複單元的含量相對於上述樹脂(A)中的所有重複單元大於20莫耳%，上述樹脂(A)的玻璃轉移溫度係145℃以下。
简体摘要：借由本发明，提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组成物、使用了感光化射线性或感放射线性树脂组成物之抗蚀剂膜、图案形成方法及电子组件之制造方法，该感光化射线性或感放射线性树脂组成物含有树脂(A)且用于形成如膜厚为2μm以上的膜，上述树脂(A)包含具有酸性基之重复单元及具有酸分解性基之重复单元，上述具有酸性基之重复单元的含量相对于上述树脂(A)中的所有重复单元系15莫耳%以上，上述具有酸分解性基之重复单元的含量相对于上述树脂(A)中的所有重复单元大于20莫耳%，上述树脂(A)的玻璃转移温度系145℃以下。

5. 发明专利

TW202010762A 感光化射線性或感放射線性樹脂組成物、抗蝕劑膜、圖案形成方法及電子器件的製造方法审中-公开
简体标题：感光化射线性或感放射线性树脂组成物、抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法
公开(公告)号：TW202010762A
公开(公告)日：2020-03-16
申请号：TW108125868
申请日：2019-07-22
申请人：日商富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：椿英明 , TSUBAKI, HIDEAKI , 冨賀敬充 , TOMIGA, TAKAMITSU , 東耕平 , HIGASHI, KOHEI , 米久田康智 , YONEKUTA, YASUNORI , 畠山直也 , HATAKEYAMA, NAOYA
IPC分类号： C08F212/14 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F220/06 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/20 , G03F7/30 , G03F7/38 , H01L21/027
摘要：本發明提供一種感光化射線性或感放射線性樹脂組成物、由上述組成物形成之抗蝕劑膜、使用上述組成物之圖案形成方法及電子器件的製造方法，該感光化射線性或感放射線性樹脂組成物含有樹脂（A）、玻璃轉移溫度為100℃以下的化合物（B）及溶劑，上述樹脂（A）包含源自設為均聚物時的玻璃轉移溫度為50℃以下的單體之重複單元（a1）和具有酸分解性基之重複單元（a2），上述重複單元（a1）係非酸分解性的重複單元，上述樹脂（A）含有具有芳香族環之重複單元，上述化合物（B）的含量相對於總固體成分為1質量%以上，該樹脂組成物的固體成分濃度為10質量%以上。
简体摘要：本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组成物、由上述组成物形成之抗蚀剂膜、使用上述组成物之图案形成方法及电子器件的制造方法，该感光化射线性或感放射线性树脂组成物含有树脂（A）、玻璃转移温度为100℃以下的化合物（B）及溶剂，上述树脂（A）包含源自设为均聚物时的玻璃转移温度为50℃以下的单体之重复单元（a1）和具有酸分解性基之重复单元（a2），上述重复单元（a1）系非酸分解性的重复单元，上述树脂（A）含有具有芳香族环之重复单元，上述化合物（B）的含量相对于总固体成分为1质量%以上，该树脂组成物的固体成分浓度为10质量%以上。

6. 发明专利

TW201921118A 圖案形成方法、離子植入方法、積層體、套組、抗蝕劑底層膜形成用組成物、抗蝕劑組成物及電子元件的製造方法审中-公开
简体标题：图案形成方法、离子植入方法、积层体、套组、抗蚀剂底层膜形成用组成物、抗蚀剂组成物及电子组件的制造方法
公开(公告)号：TW201921118A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107129708
申请日：2018-08-27
申请人：日商富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：畠山直也 , HATAKEYAMA, NAOYA , 米久田康智 , YONEKUTA, YASUNORI , 東耕平 , HIGASHI, KOHEI , 西田陽一 , NISHIDA, YOICHI , 藤田光宏 , FUJITA, MITSUHIRO
IPC分类号： G03F7/11 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/075 , G03F7/20 , G03F7/26 , G03F7/40 , C08F230/04
摘要：藉由本發明，提供一種圖案形成方法及使用該圖案形成方法之離子植入方法以及用於上述圖案形成方法之積層體、套組、抗蝕劑底層膜形成用組成物、抗蝕劑組成物及電子元件之製造方法，該圖案形成方法包括：（1）在被處理基板上形成抗蝕劑底層膜之步驟；（2）藉由含有（A）具有選自包括Si原子及Ti原子之群組中之原子之樹脂之抗蝕劑組成物，在抗蝕劑底層膜上形成抗蝕劑膜之步驟；（3）曝光抗蝕劑膜之步驟；（4）對經曝光之抗蝕劑膜進行顯影而形成抗蝕劑圖案之步驟；及（5）將抗蝕劑圖案作為遮罩，對抗蝕劑底層膜進行加工來形成圖案之步驟，該圖案形成方法中，抗蝕劑底層膜的膜厚係2.5 μm以上，抗蝕劑膜的膜厚係1 μm以下。
简体摘要：借由本发明，提供一种图案形成方法及使用该图案形成方法之离子植入方法以及用于上述图案形成方法之积层体、套组、抗蚀剂底层膜形成用组成物、抗蚀剂组成物及电子组件之制造方法，该图案形成方法包括：（1）在被处理基板上形成抗蚀剂底层膜之步骤；（2）借由含有（A）具有选自包括Si原子及Ti原子之群组中之原子之树脂之抗蚀剂组成物，在抗蚀剂底层膜上形成抗蚀剂膜之步骤；（3）曝光抗蚀剂膜之步骤；（4）对经曝光之抗蚀剂膜进行显影而形成抗蚀剂图案之步骤；及（5）将抗蚀剂图案作为遮罩，对抗蚀剂底层膜进行加工来形成图案之步骤，该图案形成方法中，抗蚀剂底层膜的膜厚系2.5 μm以上，抗蚀剂膜的膜厚系1 μm以下。

7. 发明专利

TW201907549A 紅外線受光元件的製造方法、光感測器的製造方法、積層體、光阻組成物及套組审中-公开
简体标题：红外线受光组件的制造方法、光传感器的制造方法、积层体、光阻组成物及套组
公开(公告)号：TW201907549A
公开(公告)日：2019-02-16
申请号：TW107122729
申请日：2018-07-02
申请人：日商富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：高桑英希 , TAKAKUWA, HIDEKI , 東耕平 , HIGASHI, KOHEI
IPC分类号： H01L27/14 , G03F7/20
摘要：提供一種能夠提高紅外線的S/N比而進行檢測之紅外線受光元件的製造方法及光感測器的製造方法。並且，提供一種積層體、光阻組成物及套組。本發明的紅外線受光元件的製造方法中，使用光阻組成物在支撐體上形成厚度5 μm以上的光阻膜的圖案之後，將光阻膜的圖案作為遮罩而對支撐體進行離子植入。並且，本發明的光感測器的製造方法中，藉由本發明的紅外線受光元件的製造方法來製造紅外線受光元件，接著，在紅外線受光元件中進行了離子植入之區域上的至少一部分，形成遮蔽可見光並使紅外線的至少一部分透射之紅外線透射濾光層。
简体摘要：提供一种能够提高红外线的S/N比而进行检测之红外线受光组件的制造方法及光传感器的制造方法。并且，提供一种积层体、光阻组成物及套组。本发明的红外线受光组件的制造方法中，使用光阻组成物在支撑体上形成厚度5 μm以上的光阻膜的图案之后，将光阻膜的图案作为遮罩而对支撑体进行离子植入。并且，本发明的光传感器的制造方法中，借由本发明的红外线受光组件的制造方法来制造红外线受光组件，接着，在红外线受光组件中进行了离子植入之区域上的至少一部分，形成屏蔽可见光并使红外线的至少一部分透射之红外线透射滤光层。

8. 发明专利

TW201711058A 導電性膜、觸控面板感測器以及觸控面板审中-公开
简体标题：导电性膜、触摸皮肤传感器以及触摸皮肤
公开(公告)号：TW201711058A
公开(公告)日：2017-03-16
申请号：TW105116539
申请日：2016-05-27
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：東耕平 , HIGASHI, KOHEI , 塚本直樹 , TSUKAMOTO, NAOKI , 佐藤真隆 , SATOU, MASATAKA
IPC分类号： H01B5/14 , B32B15/08 , C23C18/30 , C23C18/31 , G06F3/041 , G06F3/044 , G09F9/00 , H05K9/00
CPC分类号： G06F3/044 , B32B5/028 , B32B15/04 , B32B15/08 , B32B2307/202 , B32B2457/208 , C23C18/1605 , C23C18/1653 , C23C18/2086 , C23C18/30 , C23C18/31 , C23C18/38 , C23C18/54 , G06F2203/04103 , G06F2203/04111 , G06F2203/04112 , H05K1/0296 , H05K3/184 , H05K2201/09245 , H05K2201/10128 , H05K2203/0557 , H05K2203/072
摘要：本發明提供一種具有由金屬細線所構成的網狀金屬層、金屬細線的視認得以抑制、且金屬層的導電特性優異的導電性膜、觸控面板感測器以及觸控面板。本發明的導電性膜包括：基板；圖案狀被鍍敷層，於基板上配置為網狀，且具有與鍍敷觸媒或其前驅物相互作用的官能基；以及網狀金屬層，配置於圖案狀被鍍敷層上，且由多個金屬細線交叉而成；並且圖案狀被鍍敷層的平均厚度為0.05 μm～100 μm，金屬層的平均厚度為0.05 μm～0.5 μm，構成金屬層的網的金屬細線的交點的平均交點粗率為1.6以下。
简体摘要：本发明提供一种具有由金属细线所构成的网状金属层、金属细线的视认得以抑制、且金属层的导电特性优异的导电性膜、触摸皮肤传感器以及触摸皮肤。本发明的导电性膜包括：基板；图案状被镀敷层，于基板上配置为网状，且具有与镀敷触媒或其前驱物相互作用的官能基；以及网状金属层，配置于图案状被镀敷层上，且由多个金属细线交叉而成；并且图案状被镀敷层的平均厚度为0.05 μm～100 μm，金属层的平均厚度为0.05 μm～0.5 μm，构成金属层的网的金属细线的交点的平均交点粗率为1.6以下。

9. 发明专利

TW201807251A 導電性積層體的製造方法、積層體及導電性積層體审中-公开
简体标题：导电性积层体的制造方法、积层体及导电性积层体
公开(公告)号：TW201807251A
公开(公告)日：2018-03-01
申请号：TW106110930
申请日：2017-03-31
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：東耕平 , HIGASHI, KOHEI , 笠原健裕 , KASAHARA, TAKEHIRO , 村井大午 , MURAI, DAIGO
IPC分类号： C23C18/20 , C23C18/31 , H01B5/14 , H01B13/00 , H05K3/18 , G06F3/041 , G06F3/044
CPC分类号： C23C18/20 , C23C18/31 , G06F3/041 , G06F3/044 , H05K3/18
摘要：本發明的課題在於提供一種可於與圖案狀被鍍覆層對應的位置形成低電阻的金屬層的導電性積層體的製造方法、積層體及導電性積層體。本發明的導電性積層體的製造方法包括：使用規定的被鍍覆層形成用組成物，於基材上形成被鍍覆層形成用層的步驟；對被鍍覆層形成用層以圖案狀實施曝光處理及顯影處理，而形成包含線寬未滿3 μm的部分的圖案狀被鍍覆層的步驟；使用含有鍍覆觸媒或其前驅物的鹼性的鍍覆觸媒賦予液，將鍍覆觸媒或其前驅物賦予至圖案狀被鍍覆層的步驟；以及使用含有胺基羧酸類的鍍覆液，對賦予有鍍覆觸媒或其前驅物的圖案狀被鍍覆層進行鍍覆處理，而於圖案狀被鍍覆層上形成金屬層的步驟。
简体摘要：本发明的课题在于提供一种可于与图案状被镀覆层对应的位置形成低电阻的金属层的导电性积层体的制造方法、积层体及导电性积层体。本发明的导电性积层体的制造方法包括：使用规定的被镀覆层形成用组成物，于基材上形成被镀覆层形成用层的步骤；对被镀覆层形成用层以图案状实施曝光处理及显影处理，而形成包含线宽未满3 μm的部分的图案状被镀覆层的步骤；使用含有镀覆触媒或其前驱物的碱性的镀覆触媒赋予液，将镀覆触媒或其前驱物赋予至图案状被镀覆层的步骤；以及使用含有胺基羧酸类的镀覆液，对赋予有镀覆触媒或其前驱物的图案状被镀覆层进行镀覆处理，而于图案状被镀覆层上形成金属层的步骤。

10. 发明专利

TW201643655A 觸控面板感測器用導電性膜的製造方法、觸控面板感測器用導電性膜以及觸控面板审中-公开
简体标题：触摸皮肤传感器用导电性膜的制造方法、触摸皮肤传感器用导电性膜以及触摸皮肤
公开(公告)号：TW201643655A
公开(公告)日：2016-12-16
申请号：TW105108899
申请日：2016-03-23
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：東耕平 , HIGASHI, KOHEI , 塚本直樹 , TSUKAMOTO, NAOKI
IPC分类号： G06F3/041 , H01B5/14
CPC分类号： G06F3/041
摘要：本發明提供一種具有透明電極的觸控面板感測器用導電性膜的製造方法、觸控面板感測器用導電性膜以及觸控面板，其中透明電極與引出配線的密接性優異，且引出配線顯示出優異的導電特性。本發明的觸控面板感測器用導電性膜的製造方法包括：步驟A，於基板上形成被鍍敷層形成用層；步驟B，對於被鍍敷層形成用層，對需形成引出配線的區域進行曝光，形成圖案狀被鍍敷層；步驟C，於圖案狀被鍍敷層上形成引出配線；步驟D，以至少重疊於引出配線的一端上的方式於基板上形成透明導電膜；步驟E，於透明導電膜上的既定位置形成抗蝕劑圖案；步驟F，藉由蝕刻處理將未配置抗蝕劑圖案的區域的透明導電膜去除，形成透明電極；以及步驟G，將抗蝕劑圖案去除。
简体摘要：本发明提供一种具有透明电极的触摸皮肤传感器用导电性膜的制造方法、触摸皮肤传感器用导电性膜以及触摸皮肤，其中透明电极与引出配线的密接性优异，且引出配线显示出优异的导电特性。本发明的触摸皮肤传感器用导电性膜的制造方法包括：步骤A，于基板上形成被镀敷层形成用层；步骤B，对于被镀敷层形成用层，对需形成引出配线的区域进行曝光，形成图案状被镀敷层；步骤C，于图案状被镀敷层上形成引出配线；步骤D，以至少重叠于引出配线的一端上的方式于基板上形成透明导电膜；步骤E，于透明导电膜上的既定位置形成抗蚀剂图案；步骤F，借由蚀刻处理将未配置抗蚀剂图案的区域的透明导电膜去除，形成透明电极；以及步骤G，将抗蚀剂图案去除。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式