专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TW202022930A 用於處理基板的設備和方法审中-公开
简体标题：用于处理基板的设备和方法
公开(公告)号：TW202022930A
公开(公告)日：2020-06-16
申请号：TW108141362
申请日：2019-11-14
申请人：南韓商周星工程股份有限公司 , JUSUNG ENGINEERING CO., LTD.
发明人：黃喆周 , HWANG, CHUL-JOO
IPC分类号： H01L21/20 , H01L21/302 , H01L21/67
摘要：本發明涉及基板的處理裝置，包含一腔體、一基板支撐部件，可旋轉地安裝在該腔體的一處理空間中，以支撐一個或多個基板、一第一氣體分配單元，用於將一源氣體分配到該處理空間的一第一區域、一第二氣體分配單元，用於將與該源氣體反應的一反應氣體分配到該處理空間的一第二區域、以及一第三氣體分配單元，用於分配一吹掃氣體至一第三區域以劃分該第一區域和該第二區域，以及一種處理基板的方法。
简体摘要：本发明涉及基板的处理设备，包含一腔体、一基板支撑部件，可旋转地安装在该腔体的一处理空间中，以支撑一个或多个基板、一第一气体分配单元，用于将一源气体分配到该处理空间的一第一区域、一第二气体分配单元，用于将与该源气体反应的一反应气体分配到该处理空间的一第二区域、以及一第三气体分配单元，用于分配一吹扫气体至一第三区域以划分该第一区域和该第二区域，以及一种处理基板的方法。

2. 发明专利

TWI694538B 處理腔室中排列的基板處理設備及其作業方法有权
简体标题：处理腔室中排列的基板处理设备及其作业方法
公开(公告)号：TWI694538B
公开(公告)日：2020-05-21
申请号：TW105118756
申请日：2016-06-15
申请人：南韓商周星工程股份有限公司 , JUSUNG ENGINEERING CO.,LTD.
发明人：金起範 , KIM, KI BUM , 金秀雄 , KIM, SU WOONG , 史勝曄 , SA, SEUNG YOUB , 禹覽 , WOO, RAM , 李明振 , LEE, MYUNG-JIN , 丁錫徹 , JUNG, SUK-CHUL , 崔鐘聖 , CHOI, JONG-SUNG , 許浩範 , HER, HO BOEM
IPC分类号： H01L21/683

3. 发明专利

TWI694484B 基板處理裝置及方法有权
简体标题：基板处理设备及方法
公开(公告)号：TWI694484B
公开(公告)日：2020-05-21
申请号：TW105113078
申请日：2016-04-27
申请人：南韓商周星工程股份有限公司 , JUSUNG ENGINEERING CO.,LTD.
发明人：韓泰晟 , HAN, TAE-SEONG , 姜大鳳 , KANG, DAE-BONG , 郭在燦 , KWAK, JAE-CHAN , 金卡蘭 , KIM, KA-LAM , 金斗榮 , KIM, DOO-YOUNG , 徐東源 , SEO, DONG-WON , 李相斗 , LEE, SANG-DU , 李聖光 , LEE, SEONG-KWANG , 趙炳夏 , CHO, BYOUNG-HA , 千東碩 , CHUN, DONG-SEOK , 黃喆周 , HWANG, CHUL-JOO
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/205 , H01L21/3065 , H01L21/67 , H01L21/683

4. 发明专利

TWI667712B 基板處理方法有权
简体标题：基板处理方法
公开(公告)号：TWI667712B
公开(公告)日：2019-08-01
申请号：TW107107677
申请日：2013-06-28
申请人：南韓商周星工程有限公司 , JUSUNG ENGINEERING CO.,LTD.
发明人：郭在燦 , KWAK,JAE-CHAN , 姜成圭 , KANG,SUNG-KYU , 鄭勳 , JUNG,HUN , 趙炳夏 , CHO,BYOUNG-HA
IPC分类号： H01L21/365

5. 发明专利

TWI653764B 具有改善能見度的光伏裝置及其製造方法有权
简体标题：具有改善能见度的光伏设备及其制造方法
公开(公告)号：TWI653764B
公开(公告)日：2019-03-11
申请号：TW104104162
申请日：2015-02-06
申请人：周星工程股份有限公司 , JUSUNG ENGINEERING CO., LTD.
发明人：金容玹 , KIM, YONG HYUN , 朴昶均 , PARK, CHANG KYUN , 片昇哲 , PYUN, SEUNG CHEOL , 洪龍圭 , HONG, YONG KYU
IPC分类号： H01L31/0468 , H01L31/18

6. 发明专利

TW201839850A 電容耦合電漿基板處理裝置审中-公开
简体标题：电容耦合等离子基板处理设备
公开(公告)号：TW201839850A
公开(公告)日：2018-11-01
申请号：TW107113860
申请日：2018-04-24
申请人：南韓商周星工程股份有限公司 , JUSUNG ENGINEERING CO., LTD.
发明人：劉光洙 , YOO, KWANG SU , 朴特齊 , PARK, TEUGKI , 李龍炫 , LEE, YONG-HYUN , 鄭喆羽 , CHONG, CHEOL-WOO
IPC分类号： H01L21/3065 , H01L21/205 , H05H1/46
摘要：一種電容耦合電漿基板處理裝置包含：製程腔室，可被抽真空並提供密封的內部空間；氣體流入管道，與製程腔室連接，氣體流入管道用以為製程腔室提供製程氣體；氣體分配單元，與氣體流入管道連接，氣體分配單元用以將氣體流入管道內的製程氣體注入內部空間；阻抗匹配網路，設置於製程腔室的外面，阻抗匹配網路用以將射頻電源的射頻功率傳輸給氣體分配單元；射頻連接線，將阻抗匹配網路的輸出端連接至氣體流入管道或氣體分配單元；以及遮蔽板，射頻連接線和氣體流入管道中的至少其中之一者穿過遮蔽板，並且遮蔽板包含一鐵磁材料。
简体摘要：一种电容耦合等离子基板处理设备包含：制程腔室，可被抽真空并提供密封的内部空间；气体流入管道，与制程腔室连接，气体流入管道用以为制程腔室提供制程气体；气体分配单元，与气体流入管道连接，气体分配单元用以将气体流入管道内的制程气体注入内部空间；阻抗匹配网络，设置于制程腔室的外面，阻抗匹配网络用以将射频电源的射频功率传输给气体分配单元；射频连接线，将阻抗匹配网络的输出端连接至气体流入管道或气体分配单元；以及屏蔽板，射频连接线和气体流入管道中的至少其中之一者穿过屏蔽板，并且屏蔽板包含一铁磁材料。

7. 发明专利

TWI623981B 基板處理設備與方法有权
简体标题：基板处理设备与方法
公开(公告)号：TWI623981B
公开(公告)日：2018-05-11
申请号：TW102123285
申请日：2013-06-28
申请人：周星工程有限公司 , JUSUNG ENGINEERING CO., LTD.
发明人：郭在燦 , KWAK, JAE CHAN , 姜成圭 , KANG, SUNG KYU , 鄭勳 , JUNG, HUN , 趙柄夏 , CHO, BYOUNG HA
IPC分类号： H01L21/365

8. 发明专利

TW201812843A 分配氣體的設備及基板加工設備审中-公开
简体标题：分配气体的设备及基板加工设备
公开(公告)号：TW201812843A
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW106124127
申请日：2017-07-19
申请人：周星工程股份有限公司 , JUSUNG ENGINEERING CO.,LTD.
发明人：尹鎬彬 , YOON, HOBIN , 辛昇澈 , SHIN, SEUNG-CHUL , 劉眞赫 , YOO, JIN-HYUK , 趙炳夏 , CHO, BYOUNG-HA
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/683 , H01L21/687 , H01L21/67 , H05H1/46
摘要：本發明是關於一基板加工設備和基板加工設備的氣體分配裝置，基板加工設備包含一電漿產生器、一基板承載單元、一接地主體和一電漿遮蔽物。電漿產生器產生用來對一基板進行一加工程序所需的電漿。基板由基板承載單元承載。接地主體耦接電漿產生器。電漿產生器包含一第一電極和一第二電極，第一電極用以產生電漿，第二電極在遠離第一電極的位置耦接接地主體，使得電漿產生器得以在第一電極與第二電極之間提供用以分配一加工氣體的一氣體分配空間。電漿遮蔽物在基板的頂部、底部的至少其中之一處遮蔽電漿產生器產生的電漿。
简体摘要：本发明是关于一基板加工设备和基板加工设备的气体分配设备，基板加工设备包含一等离子产生器、一基板承载单元、一接地主体和一等离子屏蔽物。等离子产生器产生用来对一基板进行一加工进程所需的等离子。基板由基板承载单元承载。接地主体耦接等离子产生器。等离子产生器包含一第一电极和一第二电极，第一电极用以产生等离子，第二电极在远离第一电极的位置耦接接地主体，使得等离子产生器得以在第一电极与第二电极之间提供用以分配一加工气体的一气体分配空间。等离子屏蔽物在基板的顶部、底部的至少其中之一处屏蔽等离子产生器产生的等离子。

9. 发明专利

TWI594299B 基板處理設備有权
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TWI594299B
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：TW102124265
申请日：2013-07-05
申请人：周星工程有限公司 , JUSUNG ENGINEERING CO., LTD.
发明人：韓政勳 , HAN, JEUNG HOON , 黃喆周 , HWANG, CHUL-JOO , 金度衡 , KIM, DO HYUNG , 徐承勳 , SEO, SEUNG HOON
IPC分类号： H01L21/205
CPC分类号： H01J37/32449 , C23C16/509 , H01J37/32541 , H01J37/32568

10. 发明专利

TW201718936A 基板處理方法审中-公开
简体标题：基板处理方法
公开(公告)号：TW201718936A
公开(公告)日：2017-06-01
申请号：TW106107958
申请日：2013-05-29
申请人：周星工程股份有限公司 , JUSUNG ENGINEERING CO., LTD.
发明人：韓政勳 , HAN,JEUNG HOON , 黃喆周 , HWANG,CHUL-JOO , 徐承勳 , SEO,SEUNG HOON , 李相敦 , LEE,SANG DON
IPC分类号： C23C16/54 , C23C16/455
CPC分类号： H01J37/32532 , C23C16/455 , C23C16/45551 , C23C16/45574 , C23C16/458 , C23C16/4584 , C23C16/50 , C23C16/509 , H01L21/02532 , H01L21/0262
摘要：本揭露提供一種基板處理設備以及方法，其中此種基板處理設備包含：一處理腔室；一基板支撐件，用於支撐至少一個基板，其中基板支撐件提供於處理腔室中，以及基板支撐件在一預定方向旋轉；一腔室蓋，與基板支撐件相面對，腔室蓋用於覆蓋處理腔室的一頂部；以及一氣體分佈件，具有用於將氣體分佈於基板的複數個氣體分佈模組，其中氣體分佈模組與腔室蓋相連接，其中每一氣體分佈模組包含彼此面對的一電源電極以及一接地電極，一電漿放電空間形成於電源電極與接地電極之間，以及電漿放電空間不與透過基板支撐件支撐的基板的一薄膜形成區相重疊。
简体摘要：本揭露提供一种基板处理设备以及方法，其中此种基板处理设备包含：一处理腔室；一基板支撑件，用于支撑至少一个基板，其中基板支撑件提供于处理腔室中，以及基板支撑件在一预定方向旋转；一腔室盖，与基板支撑件相面对，腔室盖用于覆盖处理腔室的一顶部；以及一气体分布件，具有用于将气体分布于基板的复数个气体分布模块，其中气体分布模块与腔室盖相连接，其中每一气体分布模块包含彼此面对的一电源电极以及一接地电极，一等离子放电空间形成于电源电极与接地电极之间，以及等离子放电空间不与透过基板支撑件支撑的基板的一薄膜形成区相重叠。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式