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1. 发明专利

TW201727711A 基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TW201727711A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：TW106103028
申请日：2017-01-25
申请人：周星工程股份有限公司 , JUSUNG ENGINEERING CO.,LTD.
发明人：金世英 , KIM, SE-YOUNG , 權秀泳 , KWON, SU-YOUNG , 劉眞赫 , YOO, JIN-HYUK , 趙炳夏 , CHO, BYOUNG-HA , 千珉鎬 , CHEON, MIN-HO , 黃喆周 , HWANG, CHUL-JOO
IPC分类号： H01L21/20 , H01L21/67 , H01J37/32
CPC分类号： H01J37/32 , H01L21/02 , H01L21/3065 , H01L21/67
摘要：一種基板處理裝置，分配有一源氣體和一反應氣體，基板處理裝置包含：一第一排放管，排出包含反應氣體和多於反應氣體的源氣體的一第一排放氣體，一第二排放管，排出包含源氣體和多於源氣體的反應氣體的一第二排放氣體，一捕獲裝置，安裝在第一排放管中，以及一第三排放管，連接到一排放泵以排出通過捕獲裝置的第一排放氣體和通過第二排放管的第二排放氣體，其中捕獲裝置捕獲流入第一排放管中的源氣體。
简体摘要：一种基板处理设备，分配有一源气体和一反应气体，基板处理设备包含：一第一排放管，排出包含反应气体和多于反应气体的源气体的一第一排放气体，一第二排放管，排出包含源气体和多于源气体的反应气体的一第二排放气体，一捕获设备，安装在第一排放管中，以及一第三排放管，连接到一排放泵以排出通过捕获设备的第一排放气体和通过第二排放管的第二排放气体，其中捕获设备捕获流入第一排放管中的源气体。

2. 发明专利

TWI694484B 基板處理裝置及方法有权
简体标题：基板处理设备及方法
公开(公告)号：TWI694484B
公开(公告)日：2020-05-21
申请号：TW105113078
申请日：2016-04-27
申请人：南韓商周星工程股份有限公司 , JUSUNG ENGINEERING CO.,LTD.
发明人：韓泰晟 , HAN, TAE-SEONG , 姜大鳳 , KANG, DAE-BONG , 郭在燦 , KWAK, JAE-CHAN , 金卡蘭 , KIM, KA-LAM , 金斗榮 , KIM, DOO-YOUNG , 徐東源 , SEO, DONG-WON , 李相斗 , LEE, SANG-DU , 李聖光 , LEE, SEONG-KWANG , 趙炳夏 , CHO, BYOUNG-HA , 千東碩 , CHUN, DONG-SEOK , 黃喆周 , HWANG, CHUL-JOO
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/205 , H01L21/3065 , H01L21/67 , H01L21/683

3. 发明专利

TW201812843A 分配氣體的設備及基板加工設備审中-公开
简体标题：分配气体的设备及基板加工设备
公开(公告)号：TW201812843A
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW106124127
申请日：2017-07-19
申请人：周星工程股份有限公司 , JUSUNG ENGINEERING CO.,LTD.
发明人：尹鎬彬 , YOON, HOBIN , 辛昇澈 , SHIN, SEUNG-CHUL , 劉眞赫 , YOO, JIN-HYUK , 趙炳夏 , CHO, BYOUNG-HA
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/683 , H01L21/687 , H01L21/67 , H05H1/46
摘要：本發明是關於一基板加工設備和基板加工設備的氣體分配裝置，基板加工設備包含一電漿產生器、一基板承載單元、一接地主體和一電漿遮蔽物。電漿產生器產生用來對一基板進行一加工程序所需的電漿。基板由基板承載單元承載。接地主體耦接電漿產生器。電漿產生器包含一第一電極和一第二電極，第一電極用以產生電漿，第二電極在遠離第一電極的位置耦接接地主體，使得電漿產生器得以在第一電極與第二電極之間提供用以分配一加工氣體的一氣體分配空間。電漿遮蔽物在基板的頂部、底部的至少其中之一處遮蔽電漿產生器產生的電漿。
简体摘要：本发明是关于一基板加工设备和基板加工设备的气体分配设备，基板加工设备包含一等离子产生器、一基板承载单元、一接地主体和一等离子屏蔽物。等离子产生器产生用来对一基板进行一加工进程所需的等离子。基板由基板承载单元承载。接地主体耦接等离子产生器。等离子产生器包含一第一电极和一第二电极，第一电极用以产生等离子，第二电极在远离第一电极的位置耦接接地主体，使得等离子产生器得以在第一电极与第二电极之间提供用以分配一加工气体的一气体分配空间。等离子屏蔽物在基板的顶部、底部的至少其中之一处屏蔽等离子产生器产生的等离子。

4. 发明专利

TW201716618A 電容器沈積設備以及使用該電容器沈積設備之電介質層之沈積方法审中-公开
简体标题：电容器沉积设备以及使用该电容器沉积设备之电介质层之沉积方法
公开(公告)号：TW201716618A
公开(公告)日：2017-05-16
申请号：TW105123719
申请日：2016-07-27
申请人：周星工程股份有限公司 , JUSUNG ENGINEERING CO.,LTD.
发明人：徐東源 , SEO, DONG-WON , 郭在燦 , KWAK, JAE-CHAN , 趙炳夏 , CHO, BYOUNG-HA
IPC分类号： C23C16/30 , C23C16/44 , H01L21/285
摘要：一種具有高介電常數之電容器之製造方法，避免電介質層的表面由於真空破壞而被劣化，以及避免電介質層的品質由於裝載與卸載半導體基板時物理應力的緣故被劣化。
简体摘要：一种具有高介电常数之电容器之制造方法，避免电介质层的表面由于真空破坏而被劣化，以及避免电介质层的品质由于装载与卸载半导体基板时物理应力的缘故被劣化。

5. 发明专利

TW201707057A 基板處理裝置及方法审中-公开
简体标题：基板处理设备及方法
公开(公告)号：TW201707057A
公开(公告)日：2017-02-16
申请号：TW105113078
申请日：2016-04-27
申请人：周星工程股份有限公司 , JUSUNG ENGINEERING CO.,LTD.
发明人：韓泰晟 , HAN, TAE-SEONG , 姜大鳳 , KANG, DAE-BONG , 郭在燦 , KWAK, JAE-CHAN , 金卡蘭 , KIM, KA-LAM , 金斗榮 , KIM, DOO-YOUNG , 徐東源 , SEO, DONG-WON , 李相斗 , LEE, SANG-DU , 李聖光 , LEE, SEONG-KWANG , 趙炳夏 , CHO, BYOUNG-HA , 千東碩 , CHUN, DONG-SEOK , 黃喆周 , HWANG, CHUL-JOO
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/205 , H01L21/3065 , H01L21/67 , H01L21/683
CPC分类号： H01L21/67017 , C23C16/34 , C23C16/40 , C23C16/455 , C23C16/45531 , C23C16/45551 , C23C16/50 , H01L21/0217 , H01L21/02178 , H01L21/02181 , H01L21/02183 , H01L21/02186 , H01L21/02189 , H01L21/02205 , H01L21/02208 , H01L21/02274 , H01L21/68771
摘要：一種基板處理裝置及方法。基板處理裝置包括一腔室，設置於腔室之底部中的一基座，設置於基座上的一腔室蓋，一第一源氣體分配器，安裝於腔室蓋中以分配一源氣體，一第二源氣體分配器，安裝於腔室蓋中以分配一源氣體，以及一第一沖洗氣體分配器，安裝於腔室蓋中以分配一沖洗氣體。至少一個基板設置於基座上，以及第一沖洗氣體分配器安裝於第一源氣體分配器和第二源氣體分配器之間。
简体摘要：一种基板处理设备及方法。基板处理设备包括一腔室，设置于腔室之底部中的一基座，设置于基座上的一腔室盖，一第一源气体分配器，安装于腔室盖中以分配一源气体，一第二源气体分配器，安装于腔室盖中以分配一源气体，以及一第一冲洗气体分配器，安装于腔室盖中以分配一冲洗气体。至少一个基板设置于基座上，以及第一冲洗气体分配器安装于第一源气体分配器和第二源气体分配器之间。

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