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    • 2. 发明专利
    • 基板搬送裝置、基板處理裝置
    • 基板搬送设备、基板处理设备
    • TW202022976A
    • 2020-06-16
    • TW109101226
    • 2017-03-06
    • 日商芝浦機械電子裝置股份有限公司SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION
    • 古矢正明FURUYA, MASAAKI
    • H01L21/677H01L21/687
    • 提供一種能使基板搬送時間縮短的基板搬送裝置、基板處理裝置及基板處理方法。 作為有關實施形態的基板搬送裝置作用的第2搬送機器人(14)具有:第1把持板(21);由該第1把持板(21)所支持,且相對於第1把持板(21)的表面在上下具有抵接於基板(W)外周面的抵接面的第1爪部(21b);重疊第1把持板(21)設置的第2把持板(22);由該第2把持板(22)所支持,且相對於第1把持板(21)的表面在上下具有抵接於基板(W)外周面的抵接面的第2爪部(22b);使第1把持板(21)及第2把持板(22)相對移動,使第1爪部(21b)及第2爪部(22b)在相交於基板(W)外周面的方向上接合分離的把持部(23)。
    • 提供一种能使基板搬送时间缩短的基板搬送设备、基板处理设备及基板处理方法。 作为有关实施形态的基板搬送设备作用的第2搬送机器人(14)具有:第1把持板(21);由该第1把持板(21)所支持,且相对于第1把持板(21)的表面在上下具有抵接于基板(W)外周面的抵接面的第1爪部(21b);重叠第1把持板(21)设置的第2把持板(22);由该第2把持板(22)所支持,且相对于第1把持板(21)的表面在上下具有抵接于基板(W)外周面的抵接面的第2爪部(22b);使第1把持板(21)及第2把持板(22)相对移动,使第1爪部(21b)及第2爪部(22b)在相交于基板(W)外周面的方向上接合分离的把持部(23)。
    • 5. 发明专利
    • 晶圓卡盤組件
    • 晶圆卡盘组件
    • TW202018856A
    • 2020-05-16
    • TW108114847
    • 2019-04-29
    • 美商蘭姆研究公司LAM RESEARCH CORPORATION
    • 拉布里 亞倫 路易斯LABRIE, AARON LOUIS普哈 克勞迪烏 瓦倫廷PUHA, CLAUDIU VALENTIN史多維 羅伯特 馬修STOWELL, ROBERT MARSHALL
    • H01L21/687
    • 本發明大體上係關於用於在處理期間支撐半導體晶圓之卡盤技術。在一些範例中,一晶圓卡盤組件包含一卡盤轂部及設置於該卡盤轂部之內的一定心轂部。一嚙合裝置係可分別在嚙合位置與脫離位置之間操作,以使該卡盤轂部與該定心轂部嚙合,俾防止在至少一第一方向上的該卡盤轂部與該定心轂部之間的相對運動、或允許該卡盤轂部與該定心轂部之間的相對運動。提供一卡盤馬達,以用於基於該嚙合裝置的該嚙合或脫離位置而在晶圓處理操作及晶圓定心操作期間選擇性地使該卡盤轂部及/或該定心轂部轉動。複數卡盤臂係裝設於該卡盤轂部,每一卡盤臂在鄰近該卡盤轂部的近端與遠離該卡盤轂部的遠端之間徑向地延伸。複數定心凸輪之各者係裝設於一卡盤臂的遠端處或附近且係可移動的,以響應於該定心轂部相對於該卡盤轂部的旋轉運動而嚙合或釋放晶圓邊緣。
    • 本发明大体上系关于用于在处理期间支撑半导体晶圆之卡盘技术。在一些范例中,一晶圆卡盘组件包含一卡盘毂部及设置于该卡盘毂部之内的一定心毂部。一啮合设备系可分别在啮合位置与脱离位置之间操作,以使该卡盘毂部与该定心毂部啮合,俾防止在至少一第一方向上的该卡盘毂部与该定心毂部之间的相对运动、或允许该卡盘毂部与该定心毂部之间的相对运动。提供一卡盘马达,以用于基于该啮合设备的该啮合或脱离位置而在晶圆处理操作及晶圆定心操作期间选择性地使该卡盘毂部及/或该定心毂部转动。复数卡盘臂系装设于该卡盘毂部,每一卡盘臂在邻近该卡盘毂部的近端与远离该卡盘毂部的远程之间径向地延伸。复数定心凸轮之各者系装设于一卡盘臂的远程处或附近且系可移动的,以响应于该定心毂部相对于该卡盘毂部的旋转运动而啮合或释放晶圆边缘。
    • 10. 发明专利
    • 靜電吸盤
    • 静电吸盘
    • TW202008502A
    • 2020-02-16
    • TW108126103
    • 2019-07-24
    • 日商TOTO股份有限公司TOTO LTD.
    • 籾山大MOMIYAMA, YUTAKA佐佐木均SASAKI, HITOSHI
    • H01L21/687
    • 本發明的課題為提供一種靜電吸盤,可提高RF響應性,同時可提高電漿密度的面內均勻性。 本發明的解決手段為一種靜電吸盤,其特徵在於包含:陶瓷介電質基板,具有:載置吸附的對象物的第一主表面,和與第一主表面相反側的第二主表面;底板,支撐陶瓷介電質基板;及至少一個第一電極層,配設於陶瓷介電質基板的內部,與高頻電源連接,第一電極層在從底板朝向陶瓷介電質基板的Z軸方向上配設於第一主表面與第二主表面之間,第一電極層具有第一主表面側的第一面,和與第一面相反側的第二面,第二面的表面粗糙度大於第一面的表面粗糙度。
    • 本发明的课题为提供一种静电吸盘,可提高RF响应性,同时可提高等离子密度的面内均匀性。 本发明的解决手段为一种静电吸盘,其特征在于包含:陶瓷介电质基板,具有:载置吸附的对象物的第一主表面,和与第一主表面相反侧的第二主表面;底板,支撑陶瓷介电质基板;及至少一个第一电极层,配设于陶瓷介电质基板的内部,与高频电源连接,第一电极层在从底板朝向陶瓷介电质基板的Z轴方向上配设于第一主表面与第二主表面之间,第一电极层具有第一主表面侧的第一面,和与第一面相反侧的第二面,第二面的表面粗糙度大于第一面的表面粗糙度。