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    • 3. 发明公开
    • 반도체 패키지 및 그의 제조 방법
    • 半导体封装及其制造方法
    • KR1020100062316A
    • 2010-06-10
    • KR1020080120885
    • 2008-12-02
    • 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사
    • 박동주김진성
    • H01L21/60H01L23/12
    • H01L23/552H01L2224/16225H01L2224/16227H01L2924/15311H01L2924/181H01L2924/00012
    • PURPOSE: A semiconductor package and a manufacturing method thereof are provided to improve the safety and the shield property of the semiconductor package by electrically connecting a ground layer with a shield layer through a wiring pattern. CONSTITUTION: A plurality of first wiring patterns(111) is formed on the upper side of an insulating layer. A second wiring pattern is formed on the lower side of the insulating layer. A circuit board(110) includes a ground layer electrically connected with the first wiring pattern. A conductive bump electrically connected with the first wiring pattern is formed on a semiconductor die(120). An encapsulant(130) forms a trench exposing the first wiring pattern to the outside. A conformal shield(140) is formed with a constant thickness to cover the entire of the encapsulant.
    • 目的:提供半导体封装及其制造方法,以通过布线图案将接地层与屏蔽层电连接来提高半导体封装的安全性和屏蔽性能。 构成:在绝缘层的上侧形成多个第一布线图案(111)。 在绝缘层的下侧形成第二布线图案。 电路板(110)包括与第一布线图形电连接的接地层。 在半导体管芯(120)上形成与第一布线图案电连接的导电凸块。 密封剂(130)形成将第一布线图案暴露于外部的沟槽。 形成具有恒定厚度的保形屏蔽(140)以覆盖整个密封剂。
    • 7. 发明授权
    • 반도체 패키지 제조용 레이저 가공 장치 및 방법
    • 半导体封装激光光学系统
    • KR101300575B1
    • 2013-08-27
    • KR1020110099470
    • 2011-09-30
    • 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사
    • 박동주김진성정정웅조영민
    • B23K26/067B23K26/073B23K26/382H01L23/12
    • 본 발명은 반도체 패키지 제조용 레이저 가공 장치 및 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 분기된 레이저 빔의 출력파워 편차를 동일하게 맞추는 동시에 가공 대상물에 대한 포컬 포인트를 정확하게 맞추어줄 수 있도록 한 반도체 패키지 제조용 레이저 가공 장치 및 방법에 관한 것이다.
      즉, 본 발명은 빔 익스팬더와 X,Y 스캐닝 미러 사이에 파워 조절용 필터를 설치하여, 레이저 소스로부터 조사된 레이저 빔이 빔 스프리터에서 마스터 레이저 빔과 슬래이브 레이저 빔으로 분할될 때, 레이저 빔의 출력 파워가 정확하게 절반으로 분할되지 않더라도, 파워 조절용 필터에 의하여 마스터 레이저 빔과 슬래이브 레이저 빔 간의 출력 파워를 동일한 수준으로 조절할 수 있고, 빔 익스팬더를 빔 사이즈를 조절할 수 있는 빔 사이즈 조절용 익스팬더로 채택하여, 마스터용 집광렌즈를 통과한 마스터 레이저 빔의 가공대상물에 대한 포컬 포인트와, 슬래이브용 집광렌즈를 통과한 슬래이브 레이저 빔의 가공대상물에 대한 포컬 포인트가 항상 동일하게 이루어질 수 있도록 한 반도체 패키지 제조용 레이저 가공 장치 및 방법을 제공하고자 한 것이다 .
    • 10. 发明授权
    • 플라즈마 클리닝 장치의 클램프
    • CLAMPOF等离子清洗装置
    • KR101177223B1
    • 2012-08-24
    • KR1020100123950
    • 2010-12-07
    • 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사
    • 김광호김진성박동주
    • H01L21/50H01L21/687H01L21/3065
    • 본 발명의 일 실시예는 플라즈마 클리닝 장치의 클램프에 관한 것으로, 해결하고자 하는 기술적 과제는 봉지부로 봉지된 인쇄회로기판의 경우 상기 인쇄회로기판의 양단을 그 내부에 압축스프링이 관통되도록 결합된 가압수단을 이용하여 클램핑함과 동시에 눌러줌으로써, 상기 인쇄회로기판을 수평으로 유지시킬 수 있고, 나아가 상기 인쇄회로기판의 하면의 솔더 볼과 그 하부의 공간을 최소화하여 버닝(burning) 및 솔더 볼의 손상을 방지시키고자 하는 데 있다.
      이를 위해 본 발명의 일 실시예는, 플라즈마 클리닝 챔버 내에 인쇄회로기판을 클램핑하는 플라즈마 클리닝 장치의 클램프에 있어서, 상기 인쇄회로기판의 하면에는 다수의 솔더 볼(solider ball)이 소정간격으로 부착되어 있고, 그 중앙 부위에 상기 인쇄회로기판이 안착되는 안착홈이 다수 형성되고, 그 양측 부위에 상기 안착홈에 이격되어 가이드 홈이 각각 형성되는 바닥판; 상기 가이드 홈 상에 수직으로 설치된 압축스프링; 및 상기 가이드 홈 상에 상기 압축스프링이 관통되도록 결합되고, 상기 인쇄회로기판의 양단을 클램핑하는 가압수단;을 포함하며, 상기 인쇄회로기판이 상기 가압수단에 슬라이딩된 상태에서 상기 가압수단의 상부를 가압하여 상기 인쇄회로기판의 양단을 눌러줌으로써, 상기 인쇄회로기판을 수평으로 유지시킬 수 있는 플라즈마 클리닝 장치의 클램프를 개시한다.