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1. 发明授权

KR101496398B1 리소그래피 시스템, 클램핑 방법 및 웨이퍼 테이블 有权
标题翻译： LITHOGRAPHY SYSTEM，METHOD OF CLAMPING AND WAFER TABLE
公开(公告)号：KR101496398B1
公开(公告)日：2015-02-27
申请号：KR1020107003385
申请日：2008-07-11
申请人： 마퍼 리쏘그라피 아이피 비.브이.
发明人： 드보어귀도 , 댄스버그미쉘피터 , 크루이트피터
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/67 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/707 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/70308 , G03F7/70783 , H01J37/20 , H01J37/3174 , H01J2237/2007 , H01L21/6875 , H01L21/68757
摘要： 본 발명은 예를 들어 웨이퍼와 같은 타겟(1) 상에 이미지 또는 이미지 패턴을 투사하기 위한 리소그래피 시스템에 관한 것이고, 상기 타겟은 타겟 테이블(2)에 의해 상기 시스템 내에 포함되고, 상기 테이블 상에 상기 타겟을 클램핑하기 위한 클램핑 수단이 제공된다. 상기 클램핑 수단은 타겟(1) 및 타겟 테이블(2)의 각각의 접촉면(A, B)의 재료 및 액체(C)의 재료가 제공되면 압력 강하(ΔP
cap )가 발생하는 타겟과 타겟 테이블 사이의 이러한 두께에 포함된 고정 액체(3)의 층을 포함한다.

2. 发明授权

KR101486407B1 리소그래피 시스템, 방열 방법 및 프레임 有权
标题翻译：光刻系统，散热方法和框架
公开(公告)号：KR101486407B1
公开(公告)日：2015-01-26
申请号：KR1020097004269
申请日：2007-07-13
申请人： 마퍼 리쏘그라피 아이피 비.브이.
发明人： 단스버그미첼피터 , 크루이트피터 , 위랜드마르코얀-야코
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70875
摘要： 본 발명은 웨이퍼와 같은 타겟 표면 상으로 이미지 패턴을 투사하는 리소그래피 시스템에 관한 것이다. 웨이퍼와 같은 타겟 상에 이미지 또는 이미지 패턴을 투사하는 리소그래피 시스템으로서, 타겟의 국부적 및/또는 전체적인 가열에 의한 팽창을 관련된 소정치로 제한시키도록 이미지 또는 이미지 패턴의 투사에 의해 타겟 내에 축적되는 에너지를 타겟으로부터 제거하고, 이러한 열의 제거는 타겟과 열 접촉하게 되는 열 흡수 물질에서의 상변화를 이용함으로써 구현된다. 더 구체적으로, 이러한 물질은 우수한 열 잔달 계수를 갖는 추가의 물질과 조합하여 도포될 수 있으며, 우수한 열 전달 계수를 갖는 물질을 포함하는 에멀젼에 혼합될 수 있다. 이러한 물질은 예컨대, 타겟의 하부면에 부착될 수 있고, 프레임 내에 포함될 수도 있다.

3. 发明授权

KR101476950B1 리소그래피 시스템, 클램핑 방법 및 웨이퍼 테이블 有权
标题翻译： LITHOGRAPHY SYSTEM，METHOD OF CLAMPING AND WAFER TABLE
公开(公告)号：KR101476950B1
公开(公告)日：2014-12-24
申请号：KR1020137025226
申请日：2008-07-11
申请人： 마퍼 리쏘그라피 아이피 비.브이.
发明人： 드보어귀도 , 댄스버그미쉘피터 , 크루이트피터
IPC分类号： H01L21/67 , H01J37/317 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/707 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/70308 , G03F7/70783 , H01J37/20 , H01J37/3174 , H01J2237/2007 , H01L21/6875 , H01L21/68757
摘要： 본발명은예를들어웨이퍼와같은타겟(1) 상에이미지또는이미지패턴을투사하기위한리소그래피시스템에관한것이고, 상기타겟은타겟테이블(2)에의해상기시스템내에포함되고, 상기테이블상에상기타겟을클램핑하기위한클램핑수단이제공된다. 상기클램핑수단은타겟(1) 및타겟테이블(2)의각각의접촉면(A, B)의재료및 액체(C)의재료가제공되면압력강하(P)가발생하는타겟과타겟테이블사이의이러한두께에포함된고정액체(3)의층을포함한다.

4. 发明公开

KR1020110044334A 리소그라피 장치 有权
标题翻译： LITHOGRAPHY系统
公开(公告)号：KR1020110044334A
公开(公告)日：2011-04-28
申请号：KR1020117007696
申请日：2003-10-24
申请人： 마퍼 리쏘그라피 아이피 비.브이.
发明人： 윌랜드마르코잰-자코 , 반트스피제커조네스크리스티안 , 자저램코 , 크루이트피터
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70383 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03B27/52 , G03F7/70291 , G03F7/70508 , G03F7/70825 , G03F7/70991 , H01J37/045 , H01J37/3174 , H01J37/3177 , H01J2237/0432 , H01J2237/0435 , H01J2237/0437 , H01J2237/2482 , G03F7/2008 , H01L21/0275
摘要： 본 발명은 타겟 표면 상에 패턴을 전송하는 무마스크(maskless) 리소그라피 시스템에 관한 것으로서, 복수의 빔릿을 생성하는 적어도 하나의 빔 생성기; 복수의 변조기를 포함하여 빔릿의 진폭을 변조하는 변조 수단; 및 상기 변조기 각각을 제어하는 제어 유닛을 포함하며, 상기 제어 유닛은 패턴 데이터를 생성하여 상기 패턴 데이터를 각각의 개별 빔릿의 진폭을 제어하는 상기 제어 수단에 전달하며, 상기 제어 유닛은, 상기 패턴 데이터를 저장하는 적어도 하나의 데이터 저장부; 상기 데이터 저장부에서 상기 패턴 데이터를 판독하는 적어도 하나의 판독부; 상기 데이터 저장부에서 판독된 상기 패턴 데이터를 적어도 하나의 변조 광 빔으로 변환하는 적어도 하나의 데이터 변환기; 및 상기 적어도 하나의 변조 광 빔을 상기 변조 수단에 전송하는 적어도 하나의 광 전송기를 포함한다.

5. 发明公开

KR1020100101682A 전자 빔 노출 시스템 有权
公开(公告)号：KR1020100101682A
公开(公告)日：2010-09-17
申请号：KR1020107016868
申请日：2003-10-30
申请人： 마퍼 리쏘그라피 아이피 비.브이.
发明人： 윌랜드마르코잰-자코 , 캠퍼비크베르트잰 , 반빈알렉산더핸드릭빈센트 , 크루이트피터
IPC分类号： H01J37/302 , H01J37/304 , H01J37/317 , G03F7/20
CPC分类号： H01J3/02 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/06 , H01J37/3177 , H01J2237/0435 , H01J2237/06308 , H01J2237/06375 , H01J2237/3045
摘要： The invention relates to an electron beam generator for generating an electron beam, comprising an electron source and an extractor. The combination of electron source and extractor in use forms a negative lens, wherein said extractor has a positive voltage with respect to the source. The extractor and the electron source are positioned such that, in use, a space charge limited region is present between them. In an embodiment, the extractor is a planar extractor. In another embodiment, the source is a thermionic source.. The generator may comprise an illumination system for collimating the electron beam.

6. 发明公开

KR1020050109492A 디스펜서 음극 失效
标题翻译：分配器CATHODE
公开(公告)号：KR1020050109492A
公开(公告)日：2005-11-21
申请号：KR1020057014997
申请日：2004-02-13
申请人： 마퍼 리쏘그라피 아이피 비.브이.
发明人： 크루이트피터 , 스티인브링크스티즌빌렘헤르만카렐
IPC分类号： H01J1/28 , H01J29/04
CPC分类号： H01J37/065 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J1/28 , H01J37/3177 , H01J2237/3175 , H01J2237/31754 , H01J2237/31774
摘要： A dispenser cathode which comprises an emission surface (4), a reservoir (1) for material releasing, when heated, work-function-lowering particles, and at least one passage (7) for allowing diffusion of work-function-lowering particles from said reservoir to said emission surface, said emission surface comprising at least one emission area (9) and at least one non-emission area (8) covered with emission-suppressing material and surrounding each emission area, said non-emission area comprising at least one passage connecting said reservoir with said non-emission area and debouching within a diffusion length distance from an emission area for allowing diffusion of work-function-lowering particles from said reservoir to said emission area.
摘要翻译：一种分配器阴极，其包括排放表面（4），用于当加热时材料释放的储存器（1），功能降低颗粒和至少一个通道（7），用于允许功能降低功能颗粒从所述发射表面包括至少一个发射区域（9）和被发射抑制材料覆盖并围绕每个发射区域的至少一个非发射区域（8），所述非发射区域至少包括一个通道，其将所述储存器与所述非发射区域连接，并且在与发射区域的扩散长度距离内脱模，以允许将功函数降低的颗粒从所述储存器扩散到所述发射区域。

7. 发明公开

KR1020050065659A 전자 빔 노출 시스템 有权
标题翻译：电子束曝光系统
公开(公告)号：KR1020050065659A
公开(公告)日：2005-06-29
申请号：KR1020057007705
申请日：2003-10-30
申请人： 마퍼 리쏘그라피 아이피 비.브이.
发明人： 윌랜드마르코잰-자코 , 캠퍼비크베르트잰 , 반빈알렉산더핸드릭빈센트 , 크루이트피터
IPC分类号： H01J37/302 , H01J37/304 , H01J37/317
CPC分类号： H01J3/02 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/06 , H01J37/3177 , H01J2237/0435 , H01J2237/06308 , H01J2237/06375 , H01J2237/3045
摘要： The invention relates to an electron beam exposure apparatus for transferring a pattern onto the surface of a target (14), comprising: a beamlet generator for generating a plurality of electron beamlets (5a, 5b); a modulation array for receiving said plurality of electron beamlets, comprising a plurality of modulators for modulating the intensity of an electron beamlet; a controller, connected to the modulation array for individually controlling the modulators, an adjustor, operationally connected to each modulator, for individually adjusting the control signal of each modulator; a focusing electron optical system comprising an array of electrostatic lenses (7) wherein each lens focuses a corresponding individual beamlet, which is transmitted by said modulation array, to a cross section smaller than 300 nm, and a target holder for holding a target with its exposure surface onto which the pattern is to be transferred in the first focal plane of the focusing electron optical system.
摘要翻译：本发明涉及一种用于将图案转印到目标（14）的表面上的电子束曝光装置，包括：用于产生多个电子束（5a，5b）的小波发生器; 用于接收所述多个电子子束的调制阵列，包括用于调制电子束的强度的多个调制器; 连接到用于单独控制调制器的调制阵列的控制器，可操作地连接到每个调制器的调节器，用于单独调整每个调制器的控制信号; 一种聚焦电子光学系统，包括静电透镜阵列（7），其中每个透镜将由所述调制阵列传输的相应的单独子束聚焦到小于300nm的横截面，以及用于保持目标的靶保持器在聚焦电子光学系统的第一焦平面中将图案转印到其上的曝光表面。

8. 发明授权

KR100354158B1 리소그래피 시스템 失效
标题翻译： LITHOGRAPHY系统
公开(公告)号：KR100354158B1
公开(公告)日：2002-09-28
申请号：KR1019997011059
申请日：1998-05-25
申请人： 마퍼 리쏘그라피 아이피 비.브이.
发明人： 크루이트피터
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/70058 , G03F7/70358 , G03F7/70375 , H01J37/3175 , H01J2237/31777
摘要： 본발명은마스크레벨에위치한마스크(3)로유도되는광선을발생하는광원및 그비임을축소및 집중시키는광 축소기(4 내지 6)를포함하는리소그래피(lithography) 시스템에관한것이다. 광선은변환기소자(8) 상에집중되어, 그비임을자외선보다더 작은파장의빔으로변환한다. 마스크레벨의비임은상기축소비율로확대된객체레벨에서의소망분해능보다더 작은횡단크기를갖는다.

9. 发明授权

KR101168200B1 대전 입자 빔렛 노광 시스템 有权
标题翻译：带电粒子小射束曝光系统
公开(公告)号：KR101168200B1
公开(公告)日：2012-07-25
申请号：KR1020057022719
申请日：2004-05-27
申请人： 마퍼 리쏘그라피 아이피 비.브이.
发明人： 크루이트피터 , 빌란트마르코잔-자코
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： H01J37/3007 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/045 , H01J37/3174 , H01J37/3177 , H01J2237/0435 , H01J2237/045 , H01J2237/0453 , H01J2237/0492 , H01J2237/1501
摘要： 본 발명은 대전 입자빔 노광 장치용 대전 입자 광학 시스템에 관한 것으로, 상기 시스템은,
- 적어도 실질적으로 둥그런 제 1 개구를 구비하고 방출된 대전 입자 빔을 부분적으로 차폐하여 하나 이상의 대전 입자 빔렛을 형성하는 제 1 개구 수단;
- 상기 제 1 개구로부터의 대전 입자 빔렛을 상기 렌즈의 이미지 초점 면 내에 또는 그 부근에 포커싱하는 하나 이상의 렌즈를 구비하는 렌즈 시스템;
- 실질적으로 상기 이미지 초점 면에 위치되고, 제어 신호의 수신시에 통과하는 대전 입자 빔렛을 편향시키기 위한 하나 이상의 빔렛 편향기를 구비하는 편향기 수단; 및
- 상기 제 1 개구의 컬레면에 위치되는 실질적으로 둥그런 하나 이상의 제 2 개구를 구비하는 제 2 개구 수단을 구비하며,
상기 제 2 개구는 상기 제 1 개구 및 상기 빔렛 편향기와 정렬되어 상기 빔렛 편향기에 의한 편향시 상기 대전 입자 빔렛이 차단되고 상기 빔렛 편향기에 의해 편향되지 않을 때에는 상기 대전 입자 빔렛이 송신되도록 한다.
대전 입자빔 노광 시스템
摘要翻译：带电粒子束曝光设备的带电粒子光学系统技术领域本发明涉

10. 发明授权

KR101068607B1 복수 개의 빔렛 발생 장치 有权
标题翻译：用于产生大量光束的装置
公开(公告)号：KR101068607B1
公开(公告)日：2011-09-30
申请号：KR1020057016959
申请日：2004-03-10
申请人： 마퍼 리쏘그라피 아이피 비.브이.
发明人： 크루이트피터
IPC分类号： H01J37/317
CPC分类号： H01J3/07 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/063 , H01J37/12 , H01J37/153 , H01J37/3174 , H01J37/3177 , H01J2237/1205 , H01J2237/151 , H01J2237/1536 , H01J2237/26 , H01J2237/31774
摘要： 본 발명은 복수 개의 하전 입자 빔렛을 발생시키는 장치로서, 발산하는 하전 입자 빔을 발생시키는 하전 입자 공급원과, 상기 발산하는 하전 입자 빔을 굴절시키는 수렴 수단과, 상기 하전 입자 공급원과 상기 수렴 수단 사이에 배치되는, 복수 개의 렌즈를 구비한 렌즈 어레이를 포함하는 복수 개의 하전 입자 빔렛 발생 장치에 관한 것이다. 이 방식으로, 수렴 수단의 수차를 감소시킬 수 있다.

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