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1. 发明公开

KR1020150038432A 증가된 고유 주파수를 갖는 하이브리드 정전 렌즈 有权
标题翻译：具有增加的自然频率的混合静电镜头
公开(公告)号：KR1020150038432A
公开(公告)日：2015-04-08
申请号：KR1020157005088
申请日：2013-06-28
申请人： 베리안 세미콘덕터 이큅먼트 어소시에이츠, 인크.
发明人： 노모스키,올리버브이. , 파텔,샤덜 , 테오도르키,찰스에이.
IPC分类号： H01J37/12 , H01J37/147 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/1472 , H01J37/12 , H01J37/3171 , H01J49/062 , H01J2237/0216 , H01J2237/151 , H01Q9/04 , Y10T428/2918 , Y10T428/292
摘要： 복합정전로드(302a)는길이 L 및단면적 A를갖는몸체를포함할수 있다. 몸체는제 1 재료를포함하는외부부분, 및제 1 재료와상이한제 2 재료를포함하며, 외부부분에의해둘러싸인코어를포함할수 있으며, 여기에서복합정전로드의고유주파수는길이 L 및단면적 A를갖는흑연로드의고유주파수보다더 크다.

2. 发明公开

KR1020050102688A 복수 개의 빔렛 발생 장치 有权
标题翻译：用于产生大量光束的装置
公开(公告)号：KR1020050102688A
公开(公告)日：2005-10-26
申请号：KR1020057016959
申请日：2004-03-10
申请人： 마퍼 리쏘그라피 아이피 비.브이.
发明人： 크루이트피터
IPC分类号： H01J37/317
CPC分类号： H01J3/07 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/063 , H01J37/12 , H01J37/153 , H01J37/3174 , H01J37/3177 , H01J2237/1205 , H01J2237/151 , H01J2237/1536 , H01J2237/26 , H01J2237/31774
摘要： The invention relates to an apparatus for generating a plurality of charged particle beamlets, comprising a charged particle source for generating a diverging charged particle beam, a converging means for refracting said diverging charged particle beam and a lens array comprising a plurality of lenses, wherein said lens array is located between said charged particle source and said converging means. In this way, it is possible to reduce aberrations of the converging means.
摘要翻译：本发明涉及一种用于产生多个带电粒子束的装置，包括用于产生发散带电粒子束的带电粒子源，用于折射所述发散带电粒子束的会聚装置和包括多个透镜的透镜阵列，其中所述透镜阵列位于所述带电粒子源和所述会聚装置之间。以这种方式，可以减小会聚装置的像差。

3. 发明公开

KR1020150074139A 이온 빔을 다루기 위한 장치 审中-实审
标题翻译：用于处理离子束的装置
公开(公告)号：KR1020150074139A
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：KR1020157013442
申请日：2013-10-22
申请人： 베리안 세미콘덕터 이큅먼트 어소시에이츠, 인크.
发明人： 장,성우
IPC分类号： H01J37/12 , H01J37/317 , H01J37/147
CPC分类号： H01J37/12 , H01J37/1474 , H01J37/3171 , H01J2237/121 , H01J2237/151
摘要： 이온빔 스캐닝어셈블리(202, 300)는이온빔을수락하고제 1 평면(xz-평면)에서이온빔을스캔하기위한갭(330)을정의하는일련의스캐닝전극(314a, 314b, 316a, 316b, 318)들및 스캐닝전극들의쌍에의해경계지어지는이온빔의이동경로부분을따라서배열된복수개의전극(304, 306, 310, 312)들을포함하는다극자정전기렌즈시스템(multipole electrostatic lens system)을포함하고, 다극자정전기렌즈시스템은제 1 평면에수직방향(y)에서이온빔을형상화하도록구성된다.

4. 发明授权

KR100350308B1 전자빔 노출 장치를 위한 정전 편향기 失效
标题翻译：用于电子束曝光装置的静电放电器
公开(公告)号：KR100350308B1
公开(公告)日：2002-08-24
申请号：KR1019990047929
申请日：1999-11-01
申请人： 주식회사 아도반테스토
发明人： 오오아에요시히사 , 타나카히토시 , 하라구치타케시 , 아시와라카추토 , 아베토모히코 , 카토료우지
IPC分类号： H01L21/26
CPC分类号： H01J37/1477 , H01J2237/151
摘要： 높은정밀도와편향위치의감소된변위를갖도록전자빔을편향시킬수 있는전정편향기를구비하는전자빔조사장치가개시된다. 상기정전편향기는, 절연재료로이루어진실린더지지부재와, 금속막으로도포된상기지지부재의표면의적어도일부분갖는, 상기지지부재의내부에서로떨어져서고정되어있는다수의전극을포함한다. 상기지지부재는, 전극이고정되는, 전극부분에해당하는웨지형상(wedge-shaped)으로된 다수의고정홀을각각구비하되, 상기고정홀은지지부재의내부원주면에서보다외부원주면에서더 큰직경을갖는, 상기고정홀을갖는다. 상기전극은, 용융연결금속이지지부재상에배열된전극과함께고정홀내로주입되고연결금속은전극의금속피막으로밀접하게접촉하여경화되는방식으로상기지지부재상에고정된다. 지지부재에고정된전극이그렇게형성되어서지지부재의내벽이지지부재의실린더축으로부터보이지않는다. 전극은지지부재에고정된이후에전극의내벽면에증기증착(vapor deposition)에의하여구성된금속박막을구비한다.

5. 发明授权

KR101729124B1 지지 유닛, 기판 처리 장치 및 방법 有权
标题翻译：支撑单元，基板处理装置和方法
公开(公告)号：KR101729124B1
公开(公告)日：2017-04-24
申请号：KR1020150144885
申请日：2015-10-16
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 황석원 , 엄기상 , 정선욱
IPC分类号： H01L21/3065 , H01L21/683 , H01L21/687
CPC分类号： H01J37/32697 , H01J37/3244 , H01J37/32642 , H01J37/3266 , H01J37/32724 , H01J2237/1502 , H01J2237/151 , H01J2237/334
摘要： 본발명은기판처리장치를제공한다. 본발명에의한기판처리장치는, 내부에처리공간이제공되는공정챔버와; 상기공정챔버내에서기판을지지하는지지유닛과; 상기공정챔버내로가스를공급하는가스공급유닛과; 상기가스로부터플라즈마를발생시키는플라즈마소스를포함하되; 상기지지유닛은, 기판이놓이는지지판과; 상기지지판을감싸도록배치되는포커스링과; 상기포커스링의아래에배치되는전기장조절링과; 상기전기장조절링을상하구동하는구동기를가진다.
摘要翻译：本发明提供一种基板处理装置。根据本发明的基板处理设备包括：处理室，在处理室中设置处理空间; 支撑单元，用于在处理室中支撑衬底; 气体供应单元，用于将气体供应到处理室中; 一种用于从气体产生等离子体的等离子体源; 支撑单元包括：支撑板，衬底放置在该支撑板上; 聚焦环设置成围绕支撑板; 一个位于聚焦环下方的电场调节环; 还有一个用于驱动电场调节环的驱动器。

6. 发明授权

KR101626082B1 증가된 고유 주파수를 갖는 하이브리드 정전 렌즈 有权
标题翻译：具有增加的自然频率的混合静电镜头
公开(公告)号：KR101626082B1
公开(公告)日：2016-05-31
申请号：KR1020157005088
申请日：2013-06-28
申请人： 베리안 세미콘덕터 이큅먼트 어소시에이츠, 인크.
发明人： 노모스키,올리버브이. , 파텔,샤덜 , 테오도르키,찰스에이.
IPC分类号： H01J37/12 , H01J37/147 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/1472 , H01J37/12 , H01J37/3171 , H01J49/062 , H01J2237/0216 , H01J2237/151 , H01Q9/04 , Y10T428/2918 , Y10T428/292
摘要： 복합정전로드(302a)는길이 L 및단면적 A를갖는몸체를포함할수 있다. 몸체는제 1 재료를포함하는외부부분, 및제 1 재료와상이한제 2 재료를포함하며, 외부부분에의해둘러싸인코어를포함할수 있으며, 여기에서복합정전로드의고유주파수는길이 L 및단면적 A를갖는흑연로드의고유주파수보다더 크다.

7. 发明授权

KR101449581B1 이온 빔 중심 광선 궤적 주위의 정전기 렌즈를 제어하기 위한 방법 및 장치 有权
标题翻译：用于控制静电镜的方法和装置关于离子束的中心射线
公开(公告)号：KR101449581B1
公开(公告)日：2014-10-13
申请号：KR1020137019555
申请日：2011-12-12
申请人： 베리안 세미콘덕터 이큅먼트 어소시에이츠, 인크.
发明人： 라도바노프,스베틀라나 , 켈러만,피터,엘. , 싱클레어,프랭크 , 린드버그,로버트,씨.
IPC分类号： H01J37/12 , H01J37/15 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/12 , H01J37/15 , H01J37/3171 , H01J2237/121 , H01J2237/151
摘要： 정전기 렌즈(electrostatic lens)(700)에서의 대전된 입자 빔의 편향을 제어하기 위한 방법은 인가되는 미조정된 전압들, 중심 광선 궤적(central ray trajectory)에 대하여 대칭인 필드들을 생성하는,을 가지면서 미조정된 위치들(L1)에, 상기 대전된 입자 빔의 상기 중심 광선 궤적(702)에 대하여 대칭인, 배치되는 복수개의 전극들(714,716)을 포함하는 대칭 정전기 렌즈 구성을 수립하는 단계를 포함한다. 대칭인 전기장은 상기 일련의 미조정된 전압들에 상당하는 것으로 산출된다. 복수개의 하단 전극들(716)은 조정된 위치들(L2), 상기 중심 광선 궤적에 대하여 비대칭인,에 배열된다. 일련의 조정된 전압들이 상기 복수개의 하단 전극들에 대하여 획득되고, 상기 일련의 조정된 전압들은 각각의 조정된 비대칭의 위치들에서 상기 대칭 전기장의 일련의 개별 포텐셜들에 상당한다. 상기 조정된 전압들이 상기 대전된 입자 빔이 그것을 통하여 지나갈 때 상기 비대칭 렌즈 구성에 인가된다.

8. 发明授权

KR101068607B1 복수 개의 빔렛 발생 장치 有权
标题翻译：用于产生大量光束的装置
公开(公告)号：KR101068607B1
公开(公告)日：2011-09-30
申请号：KR1020057016959
申请日：2004-03-10
申请人： 마퍼 리쏘그라피 아이피 비.브이.
发明人： 크루이트피터
IPC分类号： H01J37/317
CPC分类号： H01J3/07 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/063 , H01J37/12 , H01J37/153 , H01J37/3174 , H01J37/3177 , H01J2237/1205 , H01J2237/151 , H01J2237/1536 , H01J2237/26 , H01J2237/31774
摘要： 본 발명은 복수 개의 하전 입자 빔렛을 발생시키는 장치로서, 발산하는 하전 입자 빔을 발생시키는 하전 입자 공급원과, 상기 발산하는 하전 입자 빔을 굴절시키는 수렴 수단과, 상기 하전 입자 공급원과 상기 수렴 수단 사이에 배치되는, 복수 개의 렌즈를 구비한 렌즈 어레이를 포함하는 복수 개의 하전 입자 빔렛 발생 장치에 관한 것이다. 이 방식으로, 수렴 수단의 수차를 감소시킬 수 있다.

9. 发明公开

KR1020160146946A 각도 에너지 필터를 사용한 각도 스캐닝 审中-实审
标题翻译：使用正则能量滤波器进行角度扫描
公开(公告)号：KR1020160146946A
公开(公告)日：2016-12-21
申请号：KR1020167032770
申请日：2015-04-29
申请人： 액셀리스 테크놀러지스, 인크.
发明人： 젠,코스코-추안 , 빈츠,윌리엄
IPC分类号： H01J37/147 , H01J37/20 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/1474 , H01J37/1478 , H01J37/20 , H01J37/3171 , H01J2237/08 , H01J2237/1506 , H01J2237/151 , H01J2237/152 , H01J2237/20207 , H01J2237/20214 , H01J2237/31701 , H01J2237/31708
摘要： 스캐닝된이온빔이워크피스에충돌함과동시에워크피스에관하여스캐닝된이온빔의입사각을가변시키기위한이온주입시스템및 방법이제공된다. 시스템은이온빔을형성하도록구성된이온소스및 이온빔을질량분석하도록구성된질량분석기를가진다. 이온빔 스캐너는제 1 방향으로이온빔을스캔하도록구성되고, 이온빔 스캐너는스캐닝된이온빔을정의한다. 워크피스지지부는그 위에워크피스를지지하도록구성되고, 각도주입장치는워크피스에관하여스캐닝된이온빔의입사각을가변하도록구성된다. 각도주입장치는각도에너지필터및 워크피스지지부에동작가능하게커플링된기계적장치중 하나또는그 초과를포함하고, 제어기는각도주입장치를제어하고, 따라서스캐닝된이온빔이워크피스에충돌함과동시에워크피스에관하여스캐닝된이온빔의입사각이가변된다.
摘要翻译：提供离子注入系统和方法，用于与扫描的离子束同时冲击工件，改变扫描离子束相对于工件的入射角。该系统具有构造成形成离子束的离子源和被配置为质量分析离子束的质量分析器。离子束扫描器被配置成沿着第一方向扫描离子束，其中限定扫描的离子束。工件支撑件构造成在其上支撑工件，并且角度注入装置被配置为改变扫描离子束相对于工件的入射角。角植入装置包括角度能量过滤器和可操作地耦合到工件支撑件的机械装置中的一个或多个，其中控制器控制角度注入装置，从而改变扫描离子束相对于工件的入射角度，同时与扫描的离子束撞击工件。

10. 发明授权

KR101481950B1 투사 렌즈 배열체 有权
标题翻译：投影透镜阵列
公开(公告)号：KR101481950B1
公开(公告)日：2015-01-14
申请号：KR1020107021522
申请日：2009-01-26
申请人： 마퍼 리쏘그라피 아이피 비.브이.
发明人： 비란트,마르코얀자코 , 캄퍼벡,베르트,얀 , 반빈,알렉산더,헨드릭,빈센트 , 크룻,피터 , 스틴브린크,스틴,윌리엄,헤르만,카를
IPC分类号： H01J37/12
CPC分类号： H01J37/3007 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/12 , H01J37/3177 , H01J2237/0435 , H01J2237/1205 , H01J2237/121 , H01J2237/151
摘要： 본 발명은 대전 입자 다중-빔렛 시스템을 위한 투사 렌즈 배열체(10)로서, 하나 또는 복수의 플레이트(12, 13, 14) 및 하나 또는 복수의 투사 렌즈 어레이를 포함하는 투사 렌즈 배열체를 제공한다. 각각의 플레이트 내부에는 개구 어레이가 형성되며 투사 렌즈가 상기 개구의 위치에 형성된다. 상기 투사 렌즈 어레이는 투사 렌즈 시스템의 어레이를 형성하고, 각각의 투사 렌즈 시스템은 상기 하나 또는 복수의 투사 렌즈 어레이의 대응하는 지점에 형성되는 하나 또는 복수의 투사 렌즈를 포함한다. 상기 투사 렌즈 시스템은 상기 플레이트 개구 지름의 약 1 내지 3배의 범위 내에 있는 피치로 배열되며, 각각의 투사 렌즈 시스템은 타깃 평면상에 하나 또는 복수의 대전 입자 빔렛(21)을 포커싱하고 반확대시키기 위해 제공되며, 각각의 투사 렌즈 시스템은 상기 피치의 약 1 내지 5배 범위의 유효 초점 길이를 가지며 상기 대전 입자 빔렛을 25배 이상 반확대시킨다.
摘要翻译：本发明提供一种用于带电粒子多子束系统的投影透镜装置（10），其提供包括一个或多个板（12,13,14）和一个或多个投影透镜阵列。在每个板中形成孔阵列，并在孔的位置处形成投影透镜。投影透镜阵列形成投影透镜系统阵列，并且每个投影透镜系统包括形成在一个或多个投影透镜阵列的对应点处的一个或多个投影透镜。其中投影透镜系统以介于板孔直径的大约1至3倍的范围内的间距布置，并且每个投影透镜系统将一个或多个带电粒子小射束（21）聚焦并放大在目标平面而且，各投影透镜系统的有效焦距为1倍左右〜5倍左右，将带电粒子小波束的半倍放大25倍以上。

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