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1. 发明授权

KR101807519B1 멀티빔의 블랭킹 애퍼처 어레이 장치 및 멀티빔의 블랭킹 애퍼처 어레이 장치의 제조 방법 有权
公开(公告)号：KR101807519B1
公开(公告)日：2018-01-18
申请号：KR1020150167499
申请日：2015-11-27
申请人： 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지 , 엔.티.티. 어드밴스 테크놀로지 가부시키가이샤
发明人： 치바카즈히로 , 마츠모토히로시 , 오가사와라무네히로 , 요시카와료이치 , 모리타히로후미 , 야마다히로카즈 , 사후테루아키 , 코니시토시후미 , 마츠시마타카아키 , 쿠도카즈히사 , 야노마사키 , 마치다카츠유키
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/311 , H01L21/3213 , G03F1/20
CPC分类号： H01J37/045 , H01J2237/043 , H01J2237/0432 , H01J2237/0437 , H01J2237/303 , H01J2237/3175 , H01J2237/31774
摘要： 본발명의일 태양의멀티빔의블랭킹애퍼처어레이장치의제조방법은, 하층측으로부터제1 절연막과제1 금속막과제2 절연막과제2 금속막이표면에차례로적층된기판을이용하여, 제2 금속막상에복수의전극과복수의패드를형성하고, 제2 금속막의일부를에칭에의해제거하고, 복수의전극과복수의패드와제2 금속막의잔부를마스크로하여, 제2 절연막을에칭에의해제거하고, 각각이복수의전극중 쌍이되는전극끼리사이의위치에서기판을관통하는복수의개구부를형성하고, 제2 금속막의일부를에칭에의해제거할시, 각각복수의전극중 1 개와복수의패드의 1 개를연결하는복수의영역에제2 금속막의일부가각각잔존하도록제2 금속막이에칭되고, 기판면상방으로부터보아, 복수의개구부의형성후에있어서의복수의개구부전체를포함하는영역이, 복수의전극과복수의패드와제1과제2 금속막에의해절연막이노출되지않도록형성된다.

2. 发明公开

KR1020160127650A 소자, 노광 장치 및 제조 방법 审中-实审
标题翻译：装置曝光装置和制造方法
公开(公告)号：KR1020160127650A
公开(公告)日：2016-11-04
申请号：KR1020160047023
申请日：2016-04-18
申请人： 인텔 코포레이션
发明人： 야마다,아키오 , 스가타니,신지 , 쿠로카와,마사키 , 타키자와,마사히로 , 이와시타,류마
IPC分类号： G03F7/09 , G03F7/20 , H01L21/02 , H01L21/321
CPC分类号： H01J37/3174 , H01J37/045 , H01J37/3177 , H01J2237/0213 , H01J2237/0437 , H01J2237/1501 , H01J2237/20228 , H01J2237/31766
摘要： [과제] 컴플리멘터리·리소그래피로, 미세한라인패턴을안정적으로가공할수 있는멀티빔형성소자를실현한다. [해결수단] 빔을성형하여편향시키는소자로서, 소자의제1 면측으로부터입사되는빔을성형하여통과시키는제1 개공(開孔)을갖는어퍼처층과, 어퍼처층을통과한빔을통과시켜편향시키는편향층을구비하고, 편향층은, 제1 개공에대응하는편향층내의빔 통과공간에상대하는제1 전극을갖는제1 전극부와, 편향층내에있어서인접층과는독립적으로빔 통과공간을향해연신하는연신부및 단부에있어서빔 통과공간을사이에두고제1 전극에대향하는제2 전극을갖는제2 전극부를갖는소자및 이러한소자를적용한노광장치를제공한다.
摘要翻译：一种使梁变形和偏转的装置，包括孔层，其包括第一孔，该第一孔从装置的第一表面侧变形并通过入射到其上的束;以及偏转层，该偏转层使已经通过孔径层。偏转层包括第一电极部分，其包括面对对应于第一孔的偏转层中的光束通过空间的第一电极和第二电极部分，第二电极部分包括朝向光束通过空间延伸并且与邻近层和面对第一电极的第二电极，以夹住第一电极和第二电极的端部之间的光束通过空间。

3. 发明公开

KR1020130135258A 리소그래피 시스템, 변조 디바이스 및 광섬유 고정 기판의 제조 방법 有权
标题翻译：光刻系统，调制装置和制造光纤固定基板的方法
公开(公告)号：KR1020130135258A
公开(公告)日：2013-12-10
申请号：KR1020137013171
申请日：2011-10-26
申请人： 마퍼 리쏘그라피 아이피 비.브이.
发明人： 반멜레,랄프 , 반데페우트,테우니스 , 데르크스,헨크
IPC分类号： H01J37/04 , H01J37/22 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/045 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/22 , H01J37/3174 , H01J37/3177 , H01J2237/0437
摘要： 복수의 하전 입자 빔렛들을 이용하여 타겟의 표면에 패턴을 전사하기 위한 하전-입자 멀티-빔렛 리소그래피 시스템. 이 시스템은, 복수의 하전 입자 빔렛들을 발생시키기 위한 빔 발생기, 패턴에 따라서 복수의 빔렛들을 패터닝하기 위한 빔렛 블랭커 어레이(beamlet blanker array), 및 패터닝된 빔렛들을 타겟 표면으로 투영하기 위한 투영 시스템을 포함한다. 빔렛 블랭커 어레이는 복수의 변조기들 및 복수의 광 감지 소자들을 포함하고, 여기서 광 감지 소자는 광 빔들을 운반하는 패턴 데이터를 수신하고 광 빔들을 전기 신호들로 변환하도록 배열되고, 광 감지 소자는 수신된 패턴 데이터를 하나 또는 둘 이상의 변조기들로 제공하기 위해 하나 또는 둘 이상의 변조기들에 전기적으로 접속되고, 그리고 빔렛 블랭커 어레이는 고정 접속을 갖는 조립된 그룹으로서 광 빔들을 운반하는 패턴 데이터를 제공하기 위한 복수의 섬유들의 말단 섹션들을 수용하는 섬유 고정 기판에 커플링된다.
摘要翻译：本发明涉及一种用于将图案转印到目标表面上的带电粒子多子束光刻系统。该系统包括用于产生多个带电粒子子束的束发生器，用于根据图案对子束进行图案化的子束遮断器阵列，以及用于将图案化的子束投影到目标表面上的投影系统。遮光器阵列包括多个调制器和多个光敏元件。光敏元件布置成接收携带光束的图案数据并将光束转换成电信号。光敏元件电连接到一个或多个调制器以提供接收到的图案数据。遮光器阵列耦合到光纤固定基板，该光纤固定基板容纳多个光纤的端部，用于提供携带光束的图案数据作为具有固定连接的组合组。

4. 发明公开

KR1020120008469A 묘화 장치 및 물품 제조 방법 有权
标题翻译：绘图装置和制造方法
公开(公告)号：KR1020120008469A
公开(公告)日：2012-01-30
申请号：KR1020110070385
申请日：2011-07-15
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 히라따요시히로 , 야마자끼도루
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： H01J37/3177 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/045 , H01J37/24 , H01J2237/0216 , H01J2237/0437 , H01L21/0274 , G03F7/2004 , H01L21/0275 , H01L21/0279
摘要： PURPOSE: A drawing apparatus and a product manufacturing method are provided to rapidly eliminate remaining charges in a blanking electrode using a push-pull circuit, thereby switching an on-state to an off-state with a high speed. CONSTITUTION: A blanking unit(116) comprises a supporting substrate(209), a blanker array(208), and a blanking control circuit(203). A plurality of opening parts(206) is arranged into a matrix pattern in the supporting substrate. The blanking control circuit controls a plurality of blankers(207) through an operation signal line(204). The blanker comprises a pair of blanking electrodes(207a,207b) which are facing each other while placing the opening part between the blanking electrodes. The multiple blankers is arranged in the internal space of a tube housing(210).
摘要翻译：目的：提供一种绘图装置和产品制造方法，以使用推挽电路快速消除在消隐电极中的剩余电荷，从而以高速将接通状态切换到截止状态。构成：消隐单元（116）包括支撑衬底（209），消隐器阵列（208）和消隐控制电路（203）。多个开口部分（206）在支撑基板中被布置成矩阵图案。消隐控制电路通过操作信号线（204）控制多个消隐器（207）。消隐器包括一对在将打开部分放置在消隐电极之间时彼此面对的消隐电极（207a，207b）。多个阻塞件布置在管壳体（210）的内部空间中。

5. 发明公开

KR1020110044334A 리소그라피 장치 有权
标题翻译： LITHOGRAPHY系统
公开(公告)号：KR1020110044334A
公开(公告)日：2011-04-28
申请号：KR1020117007696
申请日：2003-10-24
申请人： 마퍼 리쏘그라피 아이피 비.브이.
发明人： 윌랜드마르코잰-자코 , 반트스피제커조네스크리스티안 , 자저램코 , 크루이트피터
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70383 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03B27/52 , G03F7/70291 , G03F7/70508 , G03F7/70825 , G03F7/70991 , H01J37/045 , H01J37/3174 , H01J37/3177 , H01J2237/0432 , H01J2237/0435 , H01J2237/0437 , H01J2237/2482 , G03F7/2008 , H01L21/0275
摘要： 본 발명은 타겟 표면 상에 패턴을 전송하는 무마스크(maskless) 리소그라피 시스템에 관한 것으로서, 복수의 빔릿을 생성하는 적어도 하나의 빔 생성기; 복수의 변조기를 포함하여 빔릿의 진폭을 변조하는 변조 수단; 및 상기 변조기 각각을 제어하는 제어 유닛을 포함하며, 상기 제어 유닛은 패턴 데이터를 생성하여 상기 패턴 데이터를 각각의 개별 빔릿의 진폭을 제어하는 상기 제어 수단에 전달하며, 상기 제어 유닛은, 상기 패턴 데이터를 저장하는 적어도 하나의 데이터 저장부; 상기 데이터 저장부에서 상기 패턴 데이터를 판독하는 적어도 하나의 판독부; 상기 데이터 저장부에서 판독된 상기 패턴 데이터를 적어도 하나의 변조 광 빔으로 변환하는 적어도 하나의 데이터 변환기; 및 상기 적어도 하나의 변조 광 빔을 상기 변조 수단에 전송하는 적어도 하나의 광 전송기를 포함한다.

6. 发明公开

KR1020020082769A 하전입자선노광장치와 디바이스의 제조방법 및하전입자선응용장치 失效
标题翻译：充电颗粒光束对准器，器件的制造方法和充电粒子束应用器件
公开(公告)号：KR1020020082769A
公开(公告)日：2002-10-31
申请号：KR1020020021943
申请日：2002-04-22
申请人： 캐논 가부시끼가이샤 , 가부시키가이샤 어드밴티스트 , 가부시끼가이샤 히다치 세이사꾸쇼
发明人： 무라키마사토 , 소다야스나리 , 하시모토신이치
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/045 , H01J37/3177 , H01J2237/0437 , H01J2237/31774
摘要： PURPOSE: To provide a high-precision multiple charged particle beam aligner without raising the performance of a demagnification electronic optical system. CONSTITUTION: There are provided a charged particle beam source ES which radiates a charged particle beam, an aperture array AA in which a plurality of openings are arrayed to divide the charged particle beam from the charged particle source ES into a plurality of charged particle beams, a lens array A in which a plurality of electron lenses are arrayed to form a plurality of intermediate images of the charged particle beam source ES on an almost identical plane by a plurality of charged particle beam from the aperture array AA, a blanker array BA which is on a plane where a plurality of intermediate images are formed ad comprises a plurality of blankers, and a demagnification electron optical system which projects a demagnified image of the charged particle beam source ES on a substrate.
摘要翻译：目的：提供高精度多重带电粒子束对准器，而不会提高缩小电子光学系统的性能。构成：提供了一个辐射带电粒子束的带电粒子束源ES，其中排列多个开口以将带电粒子束从带电粒子源ES分成多个带电粒子束的孔径阵列AA，透镜阵列A，其中排列多个电子透镜，以通过来自孔径阵列AA的多个带电粒子束在几乎相同的平面上形成带电粒子束源ES的多个中间图像;消隐器阵列BA，在形成有多个中间图像的平面上，包括多个遮蔽物，以及将带电粒子束源ES的缩小图像投影在基板上的缩小电子光学系统。

7. 发明公开

KR1020170122113A 멀티 하전 입자빔 조사 장치, 멀티 하전 입자빔의 조사 방법 및 멀티 하전 입자빔의 조정 방법 审中-实审
标题翻译：多带电粒子束照射装置，照射多电荷粒子束的方法以及调整多带电粒子束的方法
公开(公告)号：KR1020170122113A
公开(公告)日：2017-11-03
申请号：KR1020170040797
申请日：2017-03-30
申请人： 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지
发明人： 니시무라신스케 , 오가사와라무네히로 , 토우야타카나오 , 모리타히로후미
IPC分类号： G03F1/86 , H01J37/30 , H01J37/317 , G03F7/20
CPC分类号： H01J37/153 , H01J37/045 , H01J37/141 , H01J37/1472 , H01J37/3007 , H01J37/3177 , H01J2237/0437 , H01J2237/0492 , H01J2237/153
摘要： 본발명의일 태양의멀티하전입자빔조사장치는, 하전입자빔을방출하는방출부와, 복수의제1 개구부가형성되며, 복수의제1 개구부전체를포함하는영역에하전입자빔의조사를받아, 하전입자빔의일부가복수의제1 개구부중 대응하는제1 개구부를각각통과함으로써멀티빔을형성하고또한멀티빔을성형하는성형애퍼처어레이기판과, 최종단의렌즈에의한멀티빔의축소배율보다최종단의앞측의적어도 1 개의렌즈에의한멀티빔의축소배율이커지도록배치되어, 멀티빔을성형한멀티빔의애퍼처상의결상왜곡을보정하면서, 최종단의렌즈와최종단의 1 개전의렌즈의사이의높이위치및 시료면상에멀티빔의애퍼처상을결상하는복수단의렌즈를구비한것을특징으로한다.
摘要翻译：一个多级的带电粒子的本发明的方面，并且用于发射带电粒子束的发射部分的光束照射装置中，形成所述多个第一开口中，带电粒子束的照射的区域，包括全部多个所述第一开口的接收，用带电粒子束的一部分，以形成穿过所述第一开口的多个第一开口，分别的中相应的一个，并且还模制孔阵列形成所述多波束衬底，所述多光束由最后一级的透镜的多波束减速比被设置成根据最终级前英亩中的至少一个透镜的多光束的减速比，同时纠正的多波束形成多束的孔径cheosang成像失真，在所述透镜的最终阶段和最终阶段1 以及用于在样本表面上形成多光束的空间图像的多级透镜。

8. 发明公开

KR1020170118598A 멀티 하전 입자빔 노광 방법 및 멀티 하전 입자빔의 블랭킹 장치 审中-实审
标题翻译：多带电粒子束的多粒子束曝光方法和消隐装置
公开(公告)号：KR1020170118598A
公开(公告)日：2017-10-25
申请号：KR1020170039881
申请日：2017-03-29
申请人： 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지
发明人： 마츠모토히로시
IPC分类号： G03F7/20 , G03F1/78 , G03F1/20
CPC分类号： H01J37/045 , H01J37/1472 , H01J37/3177 , H01J2237/0437 , H01J2237/31761
摘要： 본발명의일 태양의멀티하전입자빔노광방법은, 하전입자선을이용한멀티빔의각각대응하는빔이통과하는복수의통과홀이형성된기판과, 기판에배치되며, 멀티빔의각 빔을개별적으로블랭킹편향시키는복수의개별블랭킹기구가탑재된블랭킹장치에멀티빔의각 빔의 ON / OFF 제어신호를일괄전송하고, 블랭킹장치에탑재된복수의개별블랭킹기구에의해멀티빔이복수의그룹으로그룹화된그룹마다조사타이밍을전환하면서, 일괄전송된각 빔의 ON / OFF 제어신호를따라멀티빔을묘화대상기판에조사하는것을특징으로한다.
摘要翻译：一个多级的带电粒子的本发明的方面的束曝光方法中，基板分别对应的多个通孔，其光束通过使用带电粒子束的多光束，形成并设置在基板上，分别对所述多光束的各个光束到消隐偏转多个每个波束上共同地发送给多个个体消隐设备组的所述多个多波束的由安装到用于多束到单个消隐机构冲切装置配备有用于消隐设备/ OFF控制信号的而切换为分组每组照射定时，根据用于每个波束一个批处理传输的特征在于，所述开/关控制信号的多束照射到成像目标基板。

9. 发明授权

KR101670975B1 멀티 하전 입자빔 묘화 장치 및 멀티 하전 입자빔 묘화 방법 有权
标题翻译：多带电粒子束绘制设备和多带电粒子束绘制方法
公开(公告)号：KR101670975B1
公开(公告)日：2016-10-31
申请号：KR1020140172230
申请日：2014-12-03
申请人： 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지
发明人： 요시카와료이치 , 마츠모토히로시
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： H01J37/3177 , H01J37/045 , H01J37/1471 , H01J37/243 , H01J37/3023 , H01J2237/0437
摘要： 본발명의일태양의멀티하전입자빔묘화장치는, 하전입자빔에의한멀티빔의샷마다, 각빔의 1 샷분의조사를조사시간이상이한복수회의분할샷으로분할하도록복수회의분할샷의데이터를생성하는분할샷 데이터생성부와, 복수회의분할샷의데이터에따라, 멀티빔의각 빔을개별로블랭킹제어하는개별블랭킹기구와, 분할샷마다, 멀티빔의 ON 빔수에따라멀티빔전체의상의신축률을보정하는신축률보정치를취득하는신축률보정치취득부와, 분할샷마다, 신축률보정치를이용하여멀티빔전체의상의신축률을보정하는렌즈를구비한것을특징으로한다.
摘要翻译：一个多电荷的本发明的实施例的粒子束描绘设备，以及用于通过带电粒子束多波束的每一个镜头，分割拍摄的数据进行多次以便分割gakbim多个由异常照射时间拍摄的分割次数的第一syatbun的照射根据分割拍摄数据生成单元和分割拍摄的多个次以生成，的数据中的每个与各自的消隐机构，用于消隐所述多波束作为一个单独的，劈拍的每个波束的控制，按照在整个服装多波束的多波束的上bimsu 和用于获得用于校正的校正值获取单元，每个分割拍摄的膨胀和收缩率，使用其特征在于，它包括用于校正在整个多光束对膨胀和收缩率的透镜的拉伸比校正值的膨胀率修正值的拉伸比。

10. 发明公开

KR1020160064998A 멀티 하전 입자빔 묘화 장치 및 멀티 하전 입자빔 묘화 방법 有权
标题翻译：多电荷粒子束写入装置和多重粒子束写入方法
公开(公告)号：KR1020160064998A
公开(公告)日：2016-06-08
申请号：KR1020150165487
申请日：2015-11-25
申请人： 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지
发明人： 카와나료 , 카토야스오
IPC分类号： H01L21/033 , G03F1/78 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： H01J37/3177 , H01J2237/0437 , H01J2237/31761
摘要： 본발명의일 태양의멀티하전입자빔묘화장치는, 멀티하전입자빔의 1 개의빔당의조사단위영역이되는화소마다, 당해화소를다중묘화하는복수의상이한빔의조사량에가중치를부여하는복수의가중치부여계수를연산하는가중치부여계수연산부와, 화소마다, 복수의가중치부여계수중, 대응하는가중치부여계수를이용하여가중치부여된복수의상이한빔의조사량을연산하는조사량연산부와, 각각가중치부여된조사량의복수의상이한빔이대응하는화소에조사되도록, 멀티하전입자빔을이용하여시료에패턴을묘화하는묘화부를구비한것을특징으로한다.
摘要翻译：本发明实施例的多电荷粒子束光刻设备包括：加权系数计算部分，用于计算多个加权系数，以对于成为照射的每个像素给对应于相应像素乘以的多个不同光束的照射量加权每多重带电粒子束的单位面积; 辐射量计算部分，用于计算在每个像素的多个加权系数之中使用对应的加权系数加权的多个不同波束的照射量; 以及平版印刷部分，以使用多带电粒子束对样品上的图案进行光刻，使得分别照射量的多个不同的光束分别照射到相应的像素。本发明的装置可以校正形成的图案的位置偏差和尺寸偏差。

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