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1. 发明授权

KR101402429B1 광빔 강도의 비균일성을 보정하는 장치 및 광빔의 강도분포를 보정하는 방법 有权
标题翻译：用于修正光束强度分布的光束强度非均匀性校正装置和方法
公开(公告)号：KR101402429B1
公开(公告)日：2014-06-03
申请号：KR1020087012700
申请日：2006-09-21
申请人： 칼 짜이스 레이저 옵틱스 게엠베하
发明人： 쉬클로퍼피탈리 , 키레이홀거 , 뮌쯔홀거 , 레마이레미첼 , 바이글베른하르트
IPC分类号： G02B1/11 , G02B27/00 , G03F7/20
CPC分类号： G02B27/0988 , G02B1/115 , G02B5/22 , G02B13/08 , G02B27/0966 , G03F7/70591 , G03F7/70958 , G03F7/70975
摘要： 본 발명은 반사 방지 특성을 갖는 광입사면(36)을 구비하는 광학 소자(34)를 포함하는 광빔 강도의 비균일성 보정 장치(34)에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 상기 반사 방지 특성은 광빔 강도의 비균일성을 향상시키기 위하여 국소적으로 보정된다. 본 발명은 또한, a) 미리 정해진 위치에 배열되어 있는 광학 소자들(16, 24, 26, 34)을 갖는 광학 시스템(2)을 조립하는 단계; b) 강도 분포를 측정하는 단계; c) 측정된 강도 분포를 미리 정해진 강도 분포로 보정하기 위하여 상기 광학 소자들 중 하나(34)의 흡수 및/또는 반사에 대해 국소적으로 요구되는 증가 또는 감소를 계산하는 단계; d) 상기 광학 시스템(2)으로부터 상기 광학 소자들 중 상기 하나(34)를 제거하는 단계; e) 계산에 따라 상기 광학 소자들 중 상기 하나의 흡수 및/또는 반사를 국소적으로 보정하는 단계; f) 상기 광학 시스템(2) 내의 미리 정해진 위치에 상기 광학 소자들 중 상기 하나(34)를 설치하는 단계;를 포함하는, 하나의 광학 소자 또는 다수의 광학 소자들(16, 24, 26, 34)을 구비하는 광학 시스템(2)에서 광빔(12)의 강도 분포를 보정하기 위한 방법에 관한 것이다.

2. 发明公开

KR1020120041774A 기판 처리를 위해 광 빔을 생성하는 광학 시스템 无效
标题翻译：用于产生用于处理基板的光束的光学系统
公开(公告)号：KR1020120041774A
公开(公告)日：2012-05-02
申请号：KR1020127005459
申请日：2010-07-19
申请人： 칼 짜이스 레이저 옵틱스 게엠베하
发明人： 뮈엔쯔,홀거 , 메르켈,볼프강 , 피올카,다미안 , 뱅글러,요하네스
IPC分类号： G02B27/09 , G02B27/48
CPC分类号： G02B19/0014 , B23K26/0006 , B23K26/0066 , B23K26/0604 , B23K26/0622 , B23K26/0676 , B23K2201/40 , B23K2203/56 , G02B19/0052 , G02B19/0095 , G02B27/0927 , G02B27/0961 , G02B27/0972
摘要： 기판 면(14)에 배치된 기판을 처리하기 위해 광 빔을 생성하는 광학 시스템이, 이 때 광 빔이 광 빔의 전파 방향(Z)에 수직인 제1 디멘젼(X)에서 빔 길이(L)를 갖고, 제1 디멘젼(X) 및 광 전파 방향(Z)에 수직인 제2 디멘젼(Y)에서 빔 폭(B)을 갖는데, 적어도 하나의 혼합 광학 장치(18)을 포함하고, 이는 광 빔을 제1 및 2 디멘젼들 중 적어도 하나에서, 서로에 중첩된 방식으로 기판 면(14)에서 입사하는 복수의 광 경로들(24a-c)로 분할한다. 적어도 하나의 코히어런스-영향 광학 배열이 광 빔의 빔 경로에 존재하고, 하나의 광 경로에서 적어도 하나의 다른 광 경로(24a-c)까지의 적어도 하나의 광 경로 거리에 대해 광의 코히어런스의 정도를 적어도 감소시키기 위한 방식으로 광 빔 상에 작용한다.

3. 发明公开

KR1020120039747A 기판 처리를 위해 광 빔을 생성하는 광학 시스템 无效
标题翻译：用于产生用于衬底处理的光束的光学系统
公开(公告)号：KR1020120039747A
公开(公告)日：2012-04-25
申请号：KR1020127005256
申请日：2010-07-20
申请人： 칼 짜이스 레이저 옵틱스 게엠베하
发明人： 뱅글러,요하네스 , 라이,미카엘 , 젠징거,마르크스 , 뮈엔쯔,홀거
IPC分类号： G02B27/09 , B23K26/073
CPC分类号： G02B27/0927 , B23K26/0608 , B23K26/0676 , B23K26/0732 , B23K26/0738
摘要： 기판 면(14)에 배치된 기판을 처리하기 위해 광 빔을 생성하는 광학 시스템으로서, 상기 광 빔은 상기 광 빔의 전파 방향(Z)에 수직인 제1 디멘젼(X)에서의 빔 길이(L)와 상기 제1 디멘젼(X)에 및 상기 광 전파 방향(Z)에 수직인 제2 디멘젼(Y)에서의 빔 폭(B)을 갖고, 상기 빔 길이(L)는 빔 폭(B)에 비해 크며, 상기 제1 디멘젼(X)에서 서로의 옆에 배치되고 상기 제1 디멘젼(X)에서의 상기 광 빔을 복수의 부분 필드(30, 32, 34)로 분할하는 복수의 광 채널(26; 28)을 형성하는 제1 광학 장치(18)를 포함하고, 상기 부분 필드(30, 32, 34)는 상기 제1 디멘젼(X)에서 서로에 중첩되는 방식으로 상기 기판 면(14)에 입사된다. 제2 광학 장치(20)가 상기 광 전파 방향으로 상기 제1 광학 장치(18)의 업스트림에 배치되며, 상기 제2 광학 장치는, 상기 제1 디멘젼(X)에서 상기 제2 광학 장치(20)의 에텐듀가 상기 제1 디멘젼(X)에서 상기 광학 시스템의 총 에텐듀의 50% 내지 100%가 되도록 상기 제1 디멘젼(X)에서 그러한 범위를 갖고, 상기 제1 디멘젼(X)에서 상기 제1 광학 장치(18)에 입사하는 상기 광 빔(42)의 각 스펙트럼을 확장시켜, 상기 제1 광학 장치(18)의 상기 광 채널(26; 28)의 적어도 거의 모두가 광으로 균일하게 조명된다.

4. 发明公开

KR1020080039449A 선 초점을 생성하기 위한 광학 시스템, 그러한 광학시스템을 이용하는 스캐닝 시스템, 및 기판의 레이저 공정방법 无效
标题翻译：用于使用这种光学系统创建线聚焦扫描系统的光学系统和用于激光加工基板的方法
公开(公告)号：KR1020080039449A
公开(公告)日：2008-05-07
申请号：KR1020087004868
申请日：2006-07-22
申请人： 칼 짜이스 레이저 옵틱스 게엠베하
发明人： 헤르코메르알로이스 , 뮌츠홀거 , 키에리홀거 , 르마리미셸 , 베이글버나드
IPC分类号： G02B27/18 , B23K26/073 , H01L21/20 , B23K26/06
CPC分类号： G02B27/0933 , B23K26/066 , B23K26/0738 , G02B27/0075 , G02B27/0944 , G02B27/0955
摘要： An optical system for creating a line focus on a surface of a substrate from an input light beam, comprises a light source emitting the input light beam propagating in a propagation direction, the input light beam having an extension in a first dimension transverse to the propagation direction and an extension in a second dimension transverse to the first dimension and to the propagation direction, at least one beam expanding optical element for expanding the input light beam in the first dimension, at least one focusing optical element which is curved in the second dimension so that the focusing optical element focuses the input light beam in the second dimension to the line focus on the surface, and at least one correcting optical element for flattening the line focus such that the line focus is straight and lies in a flat focus plane on the surface over at least approximately the full length of the line focus.
摘要翻译：一种用于从输入光束产生在基板表面上的线的光学系统，包括发射在传播方向上传播的输入光束的光源，所述输入光束具有横向于传播的第一维度的延伸部分方向和在横向于第一尺寸和传播方向的第二尺寸中的延伸，至少一个用于在第一维度上扩展输入光束的扩束光学元件，至少一个在第二维度上弯曲的聚焦光学元件使得聚焦光学元件将第二维度中的输入光束聚焦到表面上的线对焦，以及至少一个校正光学元件，用于使线对焦平坦化，使得线对焦是直的并且位于平焦点平面上表面至少大致为线条焦点的全长。

5. 发明授权

KR101656883B1 광학 장치 有权
标题翻译：光学布置
公开(公告)号：KR101656883B1
公开(公告)日：2016-09-12
申请号：KR1020100023687
申请日：2010-03-17
申请人： 칼 짜이스 레이저 옵틱스 게엠베하
发明人： 리페르트,요한네스 , 베버,울리히 , 홀데르에르,후베르트 , 쇠파흐,아르민
IPC分类号： G02B7/02 , H01S5/022 , G02B7/00
CPC分类号： G02B7/026 , G02B7/006 , G02B7/008 , G02B7/028
摘要： 광축(18)에대해비 회전대칭이고, 상기광축(18)에대해수직인적어도하나의대칭축(20)을가지는광학소자(12) 및상기광학소자(12)를위한상기광학소자(12)가고정되는적어도세 개의베어링들(26,28,30)을갖는장착바디(24)를갖는광학장치로서, 상기베어링들(26,28,30)은상기장착바디(24)에대해이동가능하고, 상기베어링들(26,28,30)의각각은직선상의움직임(40,42,44)을따라서만각각이동가능하고, 상기베어링들(26,28,30)의상기직선상의움직임(40,42,44)들은대칭축(20) 상에놓인교차점(46)에서교차하는것인광학장치.

6. 发明公开

KR1020100014176A 표면 처리 방법 및 장치 无效
标题翻译：用于处理表面的方法和装置
公开(公告)号：KR1020100014176A
公开(公告)日：2010-02-10
申请号：KR1020090070553
申请日：2009-07-31
申请人： 칼 짜이스 레이저 옵틱스 게엠베하
发明人： 바이글,베른하드
IPC分类号： H01L21/324 , H01L21/26
CPC分类号： B23K26/0626 , B23K26/032 , C30B13/06 , C30B13/22 , C30B29/06 , H01L21/268 , H01L21/02675 , H01L21/67242
摘要： PURPOSE: A method and a device for processing a surface are provided to transmit a light to the surface of a substrate by using a light transmitter. CONSTITUTION: A transmitter transmits a certain intensive light beam on the surface of a substrate. The incident beam is progressed the surface of the substrate by a define angle against a normal line. A sensor(44) senses the intensity of the reflect beam from the surface of the substrate. A beam splitter(40) divides the reflect beam into a first beam and a second beam. The first part beam is progressed from the sensor. The second part beam is progressed to a beam trap.
摘要翻译：目的：提供一种用于处理表面的方法和装置，以通过使用光发射器将光透射到衬底的表面。构成：发射器将一定浓度的光束发射到衬底的表面上。入射光束以基于法线的限定角度前进到衬底的表面。传感器（44）感测来自基板表面的反射光束的强度。分束器（40）将反射光束分成第一光束和第二光束。第一部分光束从传感器进行。第二部分光束进入光束捕获器。

7. 发明公开

KR1020080066058A 광빔 강도의 비균일성을 보정하는 장치 및 광빔의 강도분포를 보정하는 방법 有权
标题翻译：光束强度非均匀性校正装置和修改光束强度分布的方法
公开(公告)号：KR1020080066058A
公开(公告)日：2008-07-15
申请号：KR1020087012700
申请日：2006-09-21
申请人： 칼 짜이스 레이저 옵틱스 게엠베하
发明人： 쉬클로퍼피탈리 , 키레이홀거 , 뮌쯔홀거 , 레마이레미첼 , 바이글베른하르트
IPC分类号： G02B1/11 , G02B27/00 , G03F7/20
CPC分类号： G02B27/0988 , G02B1/115 , G02B5/22 , G02B13/08 , G02B27/0966 , G03F7/70591 , G03F7/70958 , G03F7/70975
摘要： The invention relates to a light beam intensity non-uniformity correction device (34) comprising an optical element (34) having a light entrance face (36) with an antireflective property. According to the invention said antireflective property is locally amended in order to enhance light beam intensity uniformity. The invention further relates to a method for amending intensity distribution of a light beam (12) in an optical system (2) having one optical element or a plurality of optical elements (16, 24, 26, 34), comprising the steps of: a) assembling said optical system (2) with said optical elements (16, 24, 26, 34) being arranged in predetermined positions, b) measuring intensity distribution, c) calculating locally required increase or decrease in absorption and/or reflection of one of said optical elements (34) in order to amend measured intensity distribution into a predetermined intensity distribution, d) removing said one of said optical elements (34) from said optical system (2), e) locally amending absorption and/or reflection of said one of said optical elements according to the calculation, f) installing said one of said optical elements (34) in said predetermined position in said optical system (2).
摘要翻译：本发明涉及一种光束强度不均匀性校正装置（34），其包括具有防反射特性的光入射面（36）的光学元件（34）。根据本发明，为了增强光束强度均匀性，局部地修改了抗反射性能。本发明还涉及一种用于修正具有一个光学元件或多个光学元件（16,24,26,34）的光学系统（2）中的光束（12）的强度分布的方法，包括以下步骤： a）将所述光学系统（2）与布置在预定位置的所述光学元件（16,24,26,34）组装，b）测量强度分布，c）计算局部所需的增加或减小的吸收和/或反射的一个的所述光学元件（34），以便将测量的强度分布修改为预定的强度分布，d）从所述光学系统（2）中去除所述光学元件（34）中的所述一个，e）局部地修改所述光学元件（34）的吸收和/或反射根据所述计算所述光学元件中的一个，f）将所述光学元件（34）中的所述一个安装在所述光学系统（2）中的所述预定位置。

8. 发明公开

KR1020010107631A 리트로우 격자(Ｌｉｔｔｒｏｗｇｒａｔｉｎｇ) 및리트로우 격자의 사용방법 无效
标题翻译：如何使用Littrow光栅和棱镜光栅
公开(公告)号：KR1020010107631A
公开(公告)日：2001-12-07
申请号：KR1020010027956
申请日：2001-05-22
申请人： 칼 짜이스 레이저 옵틱스 게엠베하
发明人： 클리만,베른드 , 하이데만,클라우스
IPC分类号： G02B5/18
摘要： 리트로우 격자는 베이스영역을 한정하는 지지수단상에 배치되고 리트로우 각과 역-플랭크에서 베이스영역을 향하여 경사지는 블레이즈 플랭크를 각각 달성하는 서로 주기적으로 연속하는 평행한 다중 회절구조를 가지며, 상기 블레이즈 플랭크와 역-플랭크가 90°미만의 정점각으로 회절구조의 정점에서 형성되고, 역-플랭크(6)가 서로 경계를 이루고 경사각 beta 로 서로 경사지며 회절구조(3)의 연장방향과 평행하게 연장되는 둘 이상의 평평한 영역섹션(7,8)을 포함하고, 서로에 대한 상기 둘 이상의 섹션(7,8)의 경사로 인해, 상기 역-플랭크(6)가 광입사측면으로부터 오목한 표면을 대체로 나타낸다.
고반사성의 리트로우 격자(1)는 제조단계에서 물질의 오직 작은 양만을 제거함으로써 달성될 수 있다.

9. 发明授权

KR101709820B1 레이저 시스템용 계측 모듈 有权
标题翻译：激光系统计量模块
公开(公告)号：KR101709820B1
公开(公告)日：2017-03-08
申请号：KR1020127007808
申请日：2010-08-26
申请人： 칼 짜이스 레이저 옵틱스 게엠베하
发明人： 뮨즈,홀거 , 크라우스,요하네스 , 베이글,베른하르트
IPC分类号： G01J1/42 , G01J4/04 , H01S5/00 , G02B27/10 , G03F7/20 , H01S3/02
CPC分类号： G01J4/04 , G01J1/4257 , G02B27/10 , G02B27/1073 , G02B27/108 , G03F7/70025 , G03F7/70566 , G03F7/7085 , H01S3/02
摘要： 레이저시스템(100)은레이저(110), 상기레이저를포함하는하우징(101), 및상기레이저시스템의작동중에상기레이저로부터의레이저광선을수신하도록배치된제1 챔버(120)를포함한다. 상기시스템은또한, 상기제1 챔버를인접챔버와분리하고, 레이저광선(201)의경로에배치되며, 상기제1 챔버(225)와인접챔버사이에창을형성하는제1 광학소자(220); 상기제1 광학소자(220)로부터의상류또는하류의광선(201)의경로에배치되는빔 스플리터(210); 및광선검출장치(240)를포함한다. 상기시스템의작동중에, 상기빔 스플리터(210)는레이저광선(201)을수신하여, 상기광선검출장치로, 메인빔(201)으로서레이저광선의제1 부분을투과하고, 제1 서브빔으로서상기레이저광선의제2 부분(202, 203)을지향시킨다.
摘要翻译：激光系统（100）包括激光器（110），包括激光器的壳体（101）和布置成在激光系统的操作期间接收来自激光器的激光辐射的第一腔室（120）。该系统还包括将第一腔室与相邻腔室分开的第一光学元件（220），第一光学元件（220）被布置在激光辐射（201）的路径中，并且在第一腔室（225）和相邻的室; 在所述第一光学元件（220）的上游或下游布置在所述辐射路径（201）中的分束器（210）; 和放射线检测装置（240）。在系统操作期间，分束器（210）接收激光辐射（201），将激光辐射的第一部分作为主光束（201）传输，并将激光辐射的第二部分（202,203）引导为朝向辐射检测装置的第一子光束。

10. 发明授权

KR101668875B1 광학 시스템 특히 조명 시스템에서의 광학 장치 有权
标题翻译：光学系统在特定照明系统中的光学布置
公开(公告)号：KR101668875B1
公开(公告)日：2016-10-24
申请号：KR1020100074247
申请日：2010-07-30
申请人： 칼 짜이스 레이저 옵틱스 게엠베하
发明人： 홀더러,후버트 , 리퍼트,요하네스 , 쇼파크,아르민
IPC分类号： F21V29/00 , G03F7/20
CPC分类号： G02B7/008 , G02B7/028 , G02B27/0927 , G03F7/70825 , G03F7/70891
摘要： 본발명은광학시스템특히, 조명시스템에있어서의광학장치에관한것으로, 적어도하나의광학소자(101, 201, 352, 370); 및광학소자(101, 201, 352, 370)에서생성된열 에너지를광학시스템의외부환경으로적어도부분적으로배출하기위한적어도하나의열 방출소자(120, 130, 220, 351, 360, 380)를포함하되, 상기열 방출소자(120, 130, 220, 220', 351, 360, 380)는광학소자(101, 201, 352, 370)와의직접적인접촉없이배열된다.

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