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1. 发明公开

KR1020170019237A 자기장을 이용하여 드롭릿 포지션을 컨트롤할 수 있는 드롭릿 발생부를 가진 ＥＵＶ 광 발생 장치 审中-实审
标题翻译：具有配置为使用磁场控制液滴位置的液滴发生器的EUV发光器
公开(公告)号：KR1020170019237A
公开(公告)日：2017-02-21
申请号：KR1020150113388
申请日：2015-08-11
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 이승구 , 김인성
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： H05G2/006 , G02B19/0095 , H05G2/008
摘要： 드롭릿노즐, 상기드롭릿노즐에감긴중앙코일을포함하는중앙전자석, 및상기중앙전자석의주변의사이드전자석들을포함하는드롭릿발생부를포함하는 EUV 광발생장치가설명된다.
摘要翻译：描述了一种极紫外（EUV）光发生器装置。 EUV发光装置包括液滴喷嘴，包括卷绕在液滴喷嘴上的中心线圈的中心电磁体，以及包括在中央电磁体周围的侧面电磁体的液滴发生器。

2. 发明公开

KR1020160049036A 빔 형성 장치 有权
标题翻译：光束形成装置
公开(公告)号：KR1020160049036A
公开(公告)日：2016-05-04
申请号：KR1020167010152
申请日：2009-06-05
申请人： 리모 파텐트페어발퉁 게엠베하 운트 코. 카게
发明人： 미트라토마스 , 아쉬케루츠 , 바르토쉐프스키다니엘
IPC分类号： G02B27/09 , G02B19/00 , H01S3/00
CPC分类号： G02B27/0905 , G02B27/0927 , G02B27/0961 , H01S3/005 , H01S2301/206 , G02B27/0966 , G02B19/0014 , G02B19/0052 , G02B19/0095
摘要： 이발명은적어도 2개의레이저광원(1a, 1b, 1c) 및광학수단을포함하는빔 형성장치에관한것으로서, 상기레이저광원들은레이저방사선(2a, 2b, 2c)을방출할수 있고, 상기광학수단은레이저방사선(2a, 2b, 2c)이하나의작동면(7)에서적어도하나의방향과관련해서적어도부분적으로탑-햇(top-hat) 분포에상응하는강도분포(8)를갖도록상기레이저방사선(2a, 2b, 2c)에영향을줄 수있다. 레이저방사선(2a, 2b, 2c)은적어도전파방향(Z)에대해수직인방향(X)과관련해서싱글-모드레이저방사선이다.

3. 发明公开

KR1020130103670A 무알칼리 및 무할로겐 금속 인산염을 함유하는 광전자 반도체 부품 无效
标题翻译：含有无碱和无卤素金属磷酸盐的光电子半导体器件
公开(公告)号：KR1020130103670A
公开(公告)日：2013-09-24
申请号：KR1020127032149
申请日：2011-04-20
申请人： 오스람 게엠베하
发明人： 에베르하르트,앙겔라 , 빌레,크리스티나 , 비르트-숀,요아힘
IPC分类号： C03C8/24 , C03C3/17 , C03C27/00 , G02B1/10
CPC分类号： C03C3/17 , C03C27/00 , G02B19/0028 , G02B19/0061 , G02B19/0095 , G02B27/0916 , H01L33/48 , H01L33/501 , H01L33/58 , H01L2224/48091 , H01L2224/48247 , H01L2924/12044 , H01L2924/181 , H01L2924/00014 , H01L2924/00 , H01L2924/00012
摘要： 광전자 반도체 부품은 금속 인산염으로 이루어진 컴포넌트를 이용한다. 상기 금속 인산염은 실질적으로 알칼리 및 할로겐을 함유하는 컴포넌트들이 없다. 상기 금속 인산염은 특히, 부품들 및/또는 입자들을 위한 접착제로서 이용된다.

4. 发明公开

KR1020120041774A 기판 처리를 위해 광 빔을 생성하는 광학 시스템 无效
标题翻译：用于产生用于处理基板的光束的光学系统
公开(公告)号：KR1020120041774A
公开(公告)日：2012-05-02
申请号：KR1020127005459
申请日：2010-07-19
申请人： 칼 짜이스 레이저 옵틱스 게엠베하
发明人： 뮈엔쯔,홀거 , 메르켈,볼프강 , 피올카,다미안 , 뱅글러,요하네스
IPC分类号： G02B27/09 , G02B27/48
CPC分类号： G02B19/0014 , B23K26/0006 , B23K26/0066 , B23K26/0604 , B23K26/0622 , B23K26/0676 , B23K2201/40 , B23K2203/56 , G02B19/0052 , G02B19/0095 , G02B27/0927 , G02B27/0961 , G02B27/0972
摘要： 기판 면(14)에 배치된 기판을 처리하기 위해 광 빔을 생성하는 광학 시스템이, 이 때 광 빔이 광 빔의 전파 방향(Z)에 수직인 제1 디멘젼(X)에서 빔 길이(L)를 갖고, 제1 디멘젼(X) 및 광 전파 방향(Z)에 수직인 제2 디멘젼(Y)에서 빔 폭(B)을 갖는데, 적어도 하나의 혼합 광학 장치(18)을 포함하고, 이는 광 빔을 제1 및 2 디멘젼들 중 적어도 하나에서, 서로에 중첩된 방식으로 기판 면(14)에서 입사하는 복수의 광 경로들(24a-c)로 분할한다. 적어도 하나의 코히어런스-영향 광학 배열이 광 빔의 빔 경로에 존재하고, 하나의 광 경로에서 적어도 하나의 다른 광 경로(24a-c)까지의 적어도 하나의 광 경로 거리에 대해 광의 코히어런스의 정도를 적어도 감소시키기 위한 방식으로 광 빔 상에 작용한다.

5. 发明公开

KR1020100087006A 빔 형성 장치 有权
标题翻译：光束形成装置
公开(公告)号：KR1020100087006A
公开(公告)日：2010-08-02
申请号：KR1020107010546
申请日：2008-11-15
申请人： 리모 파텐트페어발퉁 게엠베하 운트 코. 카게
发明人： 미클리아예프유리
IPC分类号： G02B27/09
CPC分类号： G02B27/0927 , G02B19/0014 , G02B19/0052 , G02B19/0095 , G02B27/0961
摘要： 이 발명은 빔 형성 장치, 특히 작동 면(7, 7
1 , 7
2 , 7
3 )에 선형 강도 분포(28)를 형성하기 위한 장치에 관한 것이다. 상기 장치는 레이저 방사선(8)을 방출할 수 있는 레이저 광원(1), 상기 레이저 방사선(8)을 상기 작동 면(7, 7
1 , 7
2 , 7
3 )에 선형 강도 분포(28)로 전달할 수 있는 광학 수단들, 및 상기 작동 면(7) 상의 선형 강도 분포(28)에 영향을 주기 위해 사용되며 레이저 방사선의 확산 방향(z)으로 이동 가능한 렌즈 수단(37)을 포함한다. 강도 프로파일은 레이저 방사선의 확산 방향(z)으로 렌즈 수단(37)의 위치 변동에 의해 선형 강도 분포(28)의 연장에 대해 수직으로 변동될 수 있다.

6. 发明公开

KR1020070100964A 광학 적분기, 조명 광학 장치, 노광 장치, 및 노광 방법 无效
标题翻译：光学整合器，照明光学装置，曝光装置和曝光方法
公开(公告)号：KR1020070100964A
公开(公告)日：2007-10-15
申请号：KR1020077017882
申请日：2006-01-25
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 고마츠다히데키
IPC分类号： H01L21/027 , G02B17/00 , G02B13/24 , G03F7/20
CPC分类号： G02B17/002 , G02B7/16 , G02B17/0657 , G02B17/0663 , G02B19/0023 , G02B19/0028 , G02B19/0047 , G02B19/0095 , G02B27/0905 , G02B27/0961 , G02B27/0983 , G03F7/70075 , G03F7/702
摘要： A wavefront-division type optical integrator capable of setting an interval between an incoming surface and an outgoing surface to an arbitrary value without generating aberration or lowering the reflectance at a reflection film. The optical integrator includes a plurality of first collection elements (first concave reflecting mirror element (18a)) arranged in parallel, a plurality of second collection elements (second concave reflecting mirror elements (20a)) arranged in parallel corresponding to the first collection elements, and a relay optical system (19) arranged in an optical path between the first collection elements and the second collection elements. The relay optical system again collects the light collected via one of the first collection elements on or in the vicinity of the corresponding second collection element so that one of the first collection elements and one of the second collection elements have an image formation relationship corresponding by 1:1.
摘要翻译：能够将入射面和出射面之间的间隔设定为任意值的波前分割型光学积分器，而不产生像差或降低反射膜的反射率。光学积分器包括并排布置的多个第一收集元件（第一凹面反射镜元件（18a）），与第一收集元件平行布置的多个第二收集元件（第二凹面反射镜元件（20a）），以及布置在所述第一收集元件和所述第二收集元件之间的光路中的中继光学系统（19）。中继光学系统再次收集通过相应的第二收集元件上或其附近的第一收集元件之一收集的光，使得第一收集元件和第二收集元件之一具有对应于1的图像形成关系：1。

7. 发明授权

KR100376184B1 레이저조사장치및방법 失效
公开(公告)号：KR100376184B1
公开(公告)日：2003-06-11
申请号：KR1019970003726
申请日：1997-02-06
申请人： 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼
发明人： 야마자끼순페이 , 테라모토사토시 , 쿠수모토나오토 , 타나카코이치로
IPC分类号： H01S3/00
CPC分类号： G02B19/0057 , B23K26/0613 , B23K26/067 , B23K26/0738 , G02B19/0014 , G02B19/0095 , G02B27/09 , G02B27/0905 , G02B27/0927 , G02B27/0961 , G02B27/0966 , H01L21/02532 , H01L21/02672 , H01L21/02678 , H01L21/02686 , H01L27/1285 , H01L27/1296
摘要： There is provided an improvement on homogeneity of annealing performed utilizing radiation of a laser beam on a silicon film having a large area. In a configuration wherein a linear laser beam is applied to a surface to be irradiated, optimization is carried out on the width and number of cylindrical lenses forming homogenizers 103 and 104 for controlling the distribution of radiation energy density in the longitudinal direction of the linear beam. For example, the width of the cylindrical lenses forming the homogenizers 103 and 104 is set in the range from 0.1 mm to 5 mm, and the number of the lenses is chosen such that one lens is provided for every 5 mm-15 mm along the length of the linear laser beam in the longitudinal direction thereof. This makes it possible to improve homogeneity of the radiation energy density of the linear laser in the longitudinal direction thereof.
摘要翻译：提供了利用激光束照射在具有大面积的硅膜上进行退火的均匀性的改进。在将线性激光束照射到待照射表面的构造中，对形成均化器103和104的圆柱形透镜的宽度和数量进行优化，以控制辐射能密度在线性光束的纵向上的分布。例如，形成均化器103和104的柱面透镜的宽度被设定在0.1mm至5mm的范围内，并且透镜的数量被选择为使得沿着透镜的每5mm-15mm提供一个透镜线性激光束在其纵向上的长度。这使得可以改善线性激光器在其纵向方向上的辐射能密度的均匀性。

8. 发明公开

KR1020010112240A 박막을 패터닝하기 위한 방법 无效
标题翻译：用于绘制薄膜的方法
公开(公告)号：KR1020010112240A
公开(公告)日：2001-12-20
申请号：KR1020017008860
申请日：1999-12-13
申请人： 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 캄파니
发明人： 오브라이언데니스,피. , 플로크작제프리,엠. , 스미스손로버트,엘.
IPC分类号： G03F7/36 , G03F1/00
CPC分类号： H01Q1/2225 , B41M5/262 , G02B19/0014 , G02B19/0052 , G02B19/009 , G02B19/0095 , G02B27/09 , G02B27/0911 , G02B27/0966 , G03F1/68 , G03F7/30 , G03F7/3014 , G03F7/34 , H01Q1/22 , H01Q7/00 , H05K3/027
摘要： RFID 안테나와같은패턴화된제품은준 융제에의해제작되고, A 금속또는금속산화물과같은코팅을갖는기판을제공하는단계와, B 경계면을파열시키기에충분하지만코팅을융제시키기에는충분하지않은초점이맞춰진엑시머레이저비임과같은전자기에너지에플럭스로코팅의전체영역의적어도일부를노출시키는단계와, C 초음파교반과같은수단에의해파열된경계면영역의부분과정합하는코팅의부분을제거하는단계를포함하고, 경계면은코팅과기판이서로가장인접한얇은영역을포함한다. 공정은기판상에남겨진잔여유해화학물저항이없고, 패턴또는상의하부절단이없는포토레지스트공정을지나는장점을갖는다. 그것은동일한에너지레벨로고출력이가능하고, 제품표면상에남는초소형파편이없는레이저융제를지나는장점을갖는다.
摘要翻译：图案化的物品，例如RFID天线，是通过消融来进行的，其过程包括以下步骤：提供具有涂层的基底，例如金属或金属氧化物，以及包括涂层和基底彼此最接近的薄区域的界面; B。将涂层的总面积的至少一部分暴露于足以破坏界面但不足以消除涂层的电磁能量（例如聚焦的准分子激光束）; 和C。通过超声波搅拌等手段，将涂层的部分与被破坏的界面区域对齐，从而与光刻胶工艺相比具有优势，因为在产品上没有留下残留的化学抗蚀剂，没有底切的图案或图像。它具有优于激光烧蚀工艺的优点，因为在相同的能量水平下可以实现更高的产量，并且在产品表面上没有留下微观碎片。

9. 发明公开

KR1020170025860A 드립 홀을 갖는 콜렉팅 미러를 포함하는 EUV 광 발생 장치 审中-实审
标题翻译： EUV EUV光发生器，包括具有滴漏孔的收集镜
公开(公告)号：KR1020170025860A
公开(公告)日：2017-03-08
申请号：KR1020150122923
申请日：2015-08-31
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김호연 , 김성수
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G02B19/0019 , G02B19/0095 , G21K1/062 , H05G2/005 , H05G2/008
摘要： 가까운제1 초점및 먼제2 초점을갖는콜렉팅미러, 레이저를발생시켜상기콜렉팅미러의상기제1 초점으로조사하는레이저발생부, 및드롭릿을발생시켜상기제1 초점으로발사하는드롭릿발생부를포함하는 EUV 광발생장치가설명된다. 상기콜렉팅미러는오목한반사면, 상기반사면의중앙의관통홀, 및상기관통홀과상기반사면의외주면사이에배치된드립홀을포함할수 있다.
摘要翻译：一种极紫外（EUV）光发生器包括具有第一焦点和第二焦点的收集镜，第一焦点比第二焦点更靠近收集镜，激光产生激光束并辐射激光束朝向收集镜的第一焦点，以及液滴发生器，用于产生液滴并在收集反射镜的第一焦点处排出液滴，其中收集反射镜包括凹面反射表面，反射面的中心，以及通孔与反射面的外周面之间的滴漏孔。

10. 发明公开

KR1020170015617A 극자외선 발생 장치 및 노광 장치 审中-实审
标题翻译：用于光刻和超极紫外光源装置的装置
公开(公告)号：KR1020170015617A
公开(公告)日：2017-02-09
申请号：KR1020150107298
申请日：2015-07-29
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김억봉 , 김문자 , 박종주 , 이동근 , 김병국
IPC分类号： G03F7/20 , H05H1/46 , C01B31/04 , H01L21/027
CPC分类号： G02B19/0095 , G02B5/003 , G02B19/0023 , G03F7/70033 , G03F7/70916 , G21K1/062 , G21K1/10 , H05G2/001
摘要： 본발명의일 실시예에따른극자외선발생장치는, 극자외선생성을위한원료를공급하는원료공급유닛, 상기원료공급유닛으로부터공급된원료로부터플라즈마를생성하는플라즈마생성유닛, 상기극자외선이생성되는공간을제공하는챔버, 상기챔버내에배치되고, 상기플라즈마로부터상기극자외선을생성하는광학유닛, 그리고상기광학유닛을상기극자외선으로부터보호하는보호필름을포함하되, 상기보호필름은흑연또는그래핀중 적어도어느하나를포함한다.
摘要翻译：一种极紫外（EUV）光产生装置包括：室中的源供给单元，源供给单元，包括用于产生极紫外光的源材料;等离子体发生器，用于从源材料产生等离子体;室中的光学单元; 以及与光学单元相邻的至少一个保护膜，所述至少一个保护膜包括石墨或石墨烯中的至少一个。

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