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1. 发明授权

KR101402429B1 광빔 강도의 비균일성을 보정하는 장치 및 광빔의 강도분포를 보정하는 방법 有权
标题翻译：用于修正光束强度分布的光束强度非均匀性校正装置和方法
公开(公告)号：KR101402429B1
公开(公告)日：2014-06-03
申请号：KR1020087012700
申请日：2006-09-21
申请人： 칼 짜이스 레이저 옵틱스 게엠베하
发明人： 쉬클로퍼피탈리 , 키레이홀거 , 뮌쯔홀거 , 레마이레미첼 , 바이글베른하르트
IPC分类号： G02B1/11 , G02B27/00 , G03F7/20
CPC分类号： G02B27/0988 , G02B1/115 , G02B5/22 , G02B13/08 , G02B27/0966 , G03F7/70591 , G03F7/70958 , G03F7/70975
摘要： 본 발명은 반사 방지 특성을 갖는 광입사면(36)을 구비하는 광학 소자(34)를 포함하는 광빔 강도의 비균일성 보정 장치(34)에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 상기 반사 방지 특성은 광빔 강도의 비균일성을 향상시키기 위하여 국소적으로 보정된다. 본 발명은 또한, a) 미리 정해진 위치에 배열되어 있는 광학 소자들(16, 24, 26, 34)을 갖는 광학 시스템(2)을 조립하는 단계; b) 강도 분포를 측정하는 단계; c) 측정된 강도 분포를 미리 정해진 강도 분포로 보정하기 위하여 상기 광학 소자들 중 하나(34)의 흡수 및/또는 반사에 대해 국소적으로 요구되는 증가 또는 감소를 계산하는 단계; d) 상기 광학 시스템(2)으로부터 상기 광학 소자들 중 상기 하나(34)를 제거하는 단계; e) 계산에 따라 상기 광학 소자들 중 상기 하나의 흡수 및/또는 반사를 국소적으로 보정하는 단계; f) 상기 광학 시스템(2) 내의 미리 정해진 위치에 상기 광학 소자들 중 상기 하나(34)를 설치하는 단계;를 포함하는, 하나의 광학 소자 또는 다수의 광학 소자들(16, 24, 26, 34)을 구비하는 광학 시스템(2)에서 광빔(12)의 강도 분포를 보정하기 위한 방법에 관한 것이다.

2. 发明公开

KR1020080066058A 광빔 강도의 비균일성을 보정하는 장치 및 광빔의 강도분포를 보정하는 방법 有权
标题翻译：光束强度非均匀性校正装置和修改光束强度分布的方法
公开(公告)号：KR1020080066058A
公开(公告)日：2008-07-15
申请号：KR1020087012700
申请日：2006-09-21
申请人： 칼 짜이스 레이저 옵틱스 게엠베하
发明人： 쉬클로퍼피탈리 , 키레이홀거 , 뮌쯔홀거 , 레마이레미첼 , 바이글베른하르트
IPC分类号： G02B1/11 , G02B27/00 , G03F7/20
CPC分类号： G02B27/0988 , G02B1/115 , G02B5/22 , G02B13/08 , G02B27/0966 , G03F7/70591 , G03F7/70958 , G03F7/70975
摘要： The invention relates to a light beam intensity non-uniformity correction device (34) comprising an optical element (34) having a light entrance face (36) with an antireflective property. According to the invention said antireflective property is locally amended in order to enhance light beam intensity uniformity. The invention further relates to a method for amending intensity distribution of a light beam (12) in an optical system (2) having one optical element or a plurality of optical elements (16, 24, 26, 34), comprising the steps of: a) assembling said optical system (2) with said optical elements (16, 24, 26, 34) being arranged in predetermined positions, b) measuring intensity distribution, c) calculating locally required increase or decrease in absorption and/or reflection of one of said optical elements (34) in order to amend measured intensity distribution into a predetermined intensity distribution, d) removing said one of said optical elements (34) from said optical system (2), e) locally amending absorption and/or reflection of said one of said optical elements according to the calculation, f) installing said one of said optical elements (34) in said predetermined position in said optical system (2).
摘要翻译：本发明涉及一种光束强度不均匀性校正装置（34），其包括具有防反射特性的光入射面（36）的光学元件（34）。根据本发明，为了增强光束强度均匀性，局部地修改了抗反射性能。本发明还涉及一种用于修正具有一个光学元件或多个光学元件（16,24,26,34）的光学系统（2）中的光束（12）的强度分布的方法，包括以下步骤： a）将所述光学系统（2）与布置在预定位置的所述光学元件（16,24,26,34）组装，b）测量强度分布，c）计算局部所需的增加或减小的吸收和/或反射的一个的所述光学元件（34），以便将测量的强度分布修改为预定的强度分布，d）从所述光学系统（2）中去除所述光学元件（34）中的所述一个，e）局部地修改所述光学元件（34）的吸收和/或反射根据所述计算所述光学元件中的一个，f）将所述光学元件（34）中的所述一个安装在所述光学系统（2）中的所述预定位置。

3. 发明公开

KR1020080065677A 빔 분리 광학적 요소 无效
标题翻译：光束分离光学元件
公开(公告)号：KR1020080065677A
公开(公告)日：2008-07-14
申请号：KR1020087012746
申请日：2006-10-12
申请人： 칼 짜이스 레이저 옵틱스 게엠베하
发明人： 레마이레미첼 , 트리트쉴러토르스텐 , 쉬클로퍼피탈리 , 뮌쯔홀거 , 에거라팰 , 데르스트게르하르트
IPC分类号： G02B27/09
CPC分类号： G02B27/0905 , B23K26/066 , G02B27/0972 , G02B27/0977 , G02B27/0988 , G02B1/11
摘要： The invention relates to a beam seperating optical element (26) for limiting an illuminating field of an incident optical beam (24) comprising: a first surface (28) and a second surface (30), said first surface and said second surface enclosing an angle and forming an edge (32), said edge spatially separating said incident optical beam into at least two sub-beam (34, 36), and having a deviation from a predetermined shape of not more than 20 mum/m length.
摘要翻译：本发明涉及一种用于限制入射光束（24）的照明场的光束分离光学元件（26），包括：第一表面（28）和第二表面（30），所述第一表面和所述第二表面包围并且形成边缘（32），所述边缘将所述入射光束空间分离成至少两个子光束（34,36），并且具有不大于20mum / m长度的预定形状的偏差。

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