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71. 发明公开

KR1020110049821A 방사선 소스, 리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법 有权
标题翻译：辐射源，光刻设备和器件制造方法
公开(公告)号：KR1020110049821A
公开(公告)日：2011-05-12
申请号：KR1020117004189
申请日：2009-07-15
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
发明人： 클라센,미첼 , 그로에네벨트,로지어 , 스트류켄,알렉산더 , 스빈켈스,게라르두스후베르투스
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/7085 , G03F7/70141 , G03F7/70175 , H01L21/0275 , G03F7/2004
摘要： 리소그래피 장치(1)는 컬렉터(CO) 및 방사선 소스(105)를 포함하는 소스 모듈(SO) - 상기 컬렉터(CO)는 상기 방사선 소스(105)로부터 방사선을 수집하도록 구성됨 - ; 상기 컬렉터(CO)에 의해 수집된 상기 방사선을 컨디셔닝하고, 방사선 빔을 제공하도록 구성된 일루미네이터(IL); 및 상기 일루미네이터(IL)에 대해 고정된 위치 관계에 배치된 검출기(301) - 상기 검출기(301)는 상기 컬렉터(CO)에 대한 상기 방사선 소스(105)의 위치 및 상기 일루미네이터(IL)에 대한 상기 소스 모듈(SO)의 위치를 결정하도록 구성됨 - 를 포함한다.

72. 发明公开

KR1020070121113A 기판 엣지 노광 장치 有权
标题翻译：用于边缘边缘的接触装置
公开(公告)号：KR1020070121113A
公开(公告)日：2007-12-27
申请号：KR1020060055748
申请日：2006-06-21
申请人： 주식회사 코디엠 , 이우영 , 진경복
发明人： 지이권 , 박용규 , 이우영 , 진경복
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/2028 , G03F7/70175 , G03F7/702
摘要： An apparatus for exposing the edge of a substrate is provided to eliminate the necessity for a process for removing an edge photoresist layer by cleanly removing a photoresist layer deposited at the edge of a substrate. A reflection plate reflects the light emitted from a lamp downward. A first reflection mirror reflects the light transferred from the lamp and the reflection plate to modify a path. A second reflection mirror(230) reflects the light transferred from the first reflection mirror to modify a path. A slot plate has a slot through which more than part of the light transferred from the second reflection mirror passes. Light is transferred to the edge of the substrate positioned under the slot plate through the slot. A lens is disposed between the second reflection mirror and the slot plate, condensing the light transferred from the second reflection mirror and transferring the condensed light to the slot plate.
摘要翻译：提供了用于暴露基板边缘的装置，以消除通过干净地去除沉积在基板边缘处的光致抗蚀剂层来去除边缘光致抗蚀剂层的工艺的必要性。反射板将从灯发出的光向下反射。第一反射镜反射从灯传输的光和反射板来修改路径。第二反射镜（230）反射从第一反射镜传输的光以改变路径。狭槽板具有狭槽，多个部分从第二反射镜传递的光通过该狭槽通过。光通过槽转移到位于槽板下方的衬底的边缘。透镜设置在第二反射镜和狭槽板之间，将从第二反射镜传送的光聚焦并将聚光的光转移到狭槽板。

73. 发明公开

KR1020050075716A 리소그래피 장치, 콜렉터, 및 디바이스 제조 방법 有权
标题翻译：平面设备和设备制造方法，作为其制造的器件
公开(公告)号：KR1020050075716A
公开(公告)日：2005-07-21
申请号：KR1020050003675
申请日：2005-01-14
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
发明人： 무어스요한네스후베르투스요세피나 , 프란켄요한네스크리스티안레오나르두스 , 믹칸우베 , 부르마하름-얀
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： B82Y10/00 , G03F7/70166 , G03F7/70175 , G03F7/70891
摘要： 리소그래피 장치는 방사선의 투영빔(PB)을 제공하는 조명시스템(IL), 상기 투영빔(PB)의 단면에 패턴을 부여하는 역할을 하는 패터닝 수단(MA)을 지지하는 지지구조체(MT)를 포함한다. 상기 장치는, 기판(W)을 잡아주는 기판테이블(WT), 상기 기판(W)의 타겟부상에 상기 패터닝된 빔을 투영하는 투영시스템(PL), 및 제 1 방사선 소스(SO)로부터 수용된 방사선(R)을 상기 조명시스템(IL)으로 전달하도록 배치된 콜렉터(1; 101; 201)을 포함한다. 상기 장치는, 콜렉터가 상기 제 1 방사선 소스(SO)로부터 실질적으로 방사선을 수용하지 않는 때에 상기 콜렉터(1; 101; 201; 301)를 가열하는 히터(2; 102, 202)를 적어도 포함한다.
본 발명은 디바이스 제조방법 및 그 제조된 디바이스를 더욱 제공한다.

74. 发明公开

KR1020050022016A 반사미러장치, 노광장치 및 디바이스제조방법 有权
标题翻译：反射镜装置，曝光装置和装置制造方法
公开(公告)号：KR1020050022016A
公开(公告)日：2005-03-07
申请号：KR1020047021039
申请日：2003-06-19
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 미야지마요시카즈
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G21K1/06 , G02B7/1815 , G03F7/70175 , G03F7/702 , G03F7/70233 , G03F7/70891 , G21K2201/065 , G21K2201/067 , G03F7/2041
摘要： 반사에 의해 노광광을 도입함으로써 노광처리를 행하는 노광장치의 반사광학계에 사용되는 반사미러장치는, 상기 노광광을 반사하는 반사면을 가진 미러와, 이 미러의 외표면으로부터 이간된 위치에 배치되는 복사냉각을 위한 복사판을 가진다. 상기 복사판은 미러의 반사면에 대해서 입사하고, 반사하는 노광광을 위한 통과영역을 확보하도록 배치된다. 또한, 각 복사판은 냉각관을 통하여 흐르는 냉각액에 의해 온도제어된다. 따라서 노광장치의 반사광학계에 사용되는 미러의 온도상승을 억제할 수 있어, 미러반사면의 면형상의 정밀도를 유지할 수 있다.

75. 发明公开

KR1020040108718A 극자외선 광원 失效
标题翻译：极端的紫外线光源
公开(公告)号：KR1020040108718A
公开(公告)日：2004-12-24
申请号：KR1020047016139
申请日：2003-04-09
申请人： 사이머 엘엘씨
发明人： 멜니츄크스티븐티. , 파르틀로윌리암엔. , 포멘코프이고르브이. , 올리버아이로저 , 네스리차드엠. , 보워링노버트 , 코디킨올레 , 레티그커티스엘. , 브루멘스톡게리엠 , 다이어티모시에스. , 시몬스로드니디. , 호프만저지알. , 존슨알마크
IPC分类号： H05H1/04 , H05H1/34 , G01J1/00
CPC分类号： H05G2/003 , B82Y10/00 , G03F7/70033 , G03F7/70166 , G03F7/70175 , G03F7/70916 , H01S3/005 , H05G2/005 , H05G2/008 , H05H1/06
摘要： 신뢰성있고, 고반복율을 갖는, 제조라인에 알맞는 고에너지 포톤 소스로서, 소망하는 극자외선(EUV) 파장 범위내의 방사 라인을 갖는 원자 엘리먼트를 함유하는 핫 플라즈마는 진공 펌프에서 산출된다. EUV 광원은 유닛은 스테퍼 머신과 같은 리소그래피에 직접적으로 통합된다. 통합된 부품들로는 부재 번호 120으로 표기된 것에 모두 나타난, 정류자, 고체-상태 펄스 파워 유닛의 압축 헤드 및 진공 베셀을 포함한다. 지원 장비는 지원 장비 캐비넷(122)에 위치되고, 러프 진공 펌프 및 고압 워터 펌프는 제3 캐비넷(124)에 위치된다. 상기 펄스 파워 유닛은 버스트 기준으로 20 와트를 초과하고 연속 기준으로 5 와트를 초과하는 비율로 EUV 광을 중간 포커스에 산출하기에 충분한 전위 및 충분한 에너지를 갖는 전기 펄스를 제공한다.

76. 发明公开

KR1020030079960A 193 나노미터 이하의 파장을 사용하는 조명시스템에 있어비사용 영역을 갖는 콜렉터 有权
标题翻译：照明系统中使用波长小于193纳米的未使用区域的收集器
公开(公告)号：KR1020030079960A
公开(公告)日：2003-10-10
申请号：KR1020037009728
申请日：2002-01-23
申请人： 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하
发明人： 싱어,볼프강 , 이글,윌헬름 , 웨이스,마쿠스 , 하인즈,요아크잉 , 비아죠렉,요크헨 , 멜제르,프랭크 , 방글러,요하네스
IPC分类号： G21K1/06
CPC分类号： G21K1/06 , B82Y10/00 , G02B5/09 , G02B17/006 , G02B19/0014 , G02B19/0019 , G02B19/0023 , G02B19/0047 , G02B19/0095 , G03F7/70108 , G03F7/70158 , G03F7/70166 , G03F7/70175 , G03F7/702 , G03F7/70233 , G03F7/70825 , G21K2201/065 , G21K2201/067
摘要： 본 발명은 193nm이하, 바람직하게는 126nm보다 작은, 특히 바람직하게는 극자외선(EUV: Extreme Ultra-Violet) 범위의 파장을 사용하는 마이크로 리소그라피를 위한 조명시스템에 있어서의 콜렉터에 관한 것으로서, 조명광학에 있어 고도의 균일성과 텔레센트리시티(telecentricity)의 요구를 충족시켜 주며, 디커플링 거울(decoupling mirror)들, 검출기(detector)들, 또는 쉴딩장치들, 냉각장치들, 검출장치들, 부착장치들과 같은 광학효과가 없는 요소들과 같은 추가적 구성들의 설치가 가능하며, 이러한 추가적인 구성에 의하여 이미지 평면에서의 균일한 조명이 가능한한 영향을 받지 않고 유지될 수 있도록 하는 조명시스템에 있어서의 콜렉터를 제공함을 목적으로 한다.
이를 위하여 본 발명에 따른 콜렉터는 공유 회전축 주위로 하나가 다른 하나의 안쪽에 위치하도록 배열된 다수의 회전대칭 거울 쉘들을 구비하며 물체쪽 구경의 한 링 구경요소는 각 거울 쉘에 할당된다. 또한, 회전축 방향으로의 거울 쉘들의 크기, 그 표면 파라미터들, 거울 쉘들의 위치는 비사용 영역이 인접한 두 개의 거울 쉘 즉, 바깥쪽 거울 쉘과 안쪽 거울쉘 사이에 형성되는 방식으로 선택된다.

77. 发明公开

KR1020000067516A 사진식각 공정을 위한 노광 장치 无效
标题翻译：照相蚀刻工艺曝光装置
公开(公告)号：KR1020000067516A
公开(公告)日：2000-11-25
申请号：KR1019990015400
申请日：1999-04-29
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 하호철
IPC分类号： G03F7/20 , G03F9/02
CPC分类号： G03F7/2004 , G03F7/091 , G03F7/70008 , G03F7/70175
摘要： PURPOSE: An exposure device for a photo etching process is provided to easily set optimal light source condition without complication. CONSTITUTION: An exposure device for a photo etching process includes an illumination sensing part(10) equally divided into a plurality of areas, and a light source setting control part(12) automatically setting the position of a light source by a signal input from the illumination sensing part, wherein the illumination sensing part includes a signal converting part converting an optical signal into an electric signal for transmitting the converted signal to the light source setting control part, and the signal converting part formed with a photomultiplier converting the optical signal into the electric signal, and an electric signal pre amplifier amplifying the electric signal.
摘要翻译：目的：提供一种用于光蚀刻工艺的曝光装置，以便容易地设定最佳的光源条件而不会出现并发症。构成：用于光蚀刻工艺的曝光装置包括均匀分成多个区域的照明感测部件（10），以及光源设定控制部件（12），通过从光源的输入信号自动设定光源的位置照明感测部，其中，所述照明感测部包括信号转换部，将光信号转换为用于将所述转换后的信号发送到所述光源设定控制部的电信号，所述信号转换部由光电倍增管形成，所述光电倍增器将所述光信号转换为电信号和放大电信号的电信号前置放大器。

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