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1. 发明授权

KR101858280B1 열광원을 갖는 EUV 마이크로리소그래피 투영 노광 장치 有权
公开(公告)号：KR101858280B1
公开(公告)日：2018-05-15
申请号：KR1020137008560
申请日：2011-09-02
申请人： 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하
发明人： 피올카,다미안
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , G03F7/26
CPC分类号： G03F7/702 , G03F7/2004 , G03F7/70158 , G03F7/70891
摘要： 본발명은 5nm 내지 15nm의제 1 스펙트럼범위의방사선을생성하기위한노광광원및 1 내지 50 μm의제 2 스펙트럼범위의방사선을생성하기위한열 광원을갖는 EUV 마이크로리소그래피투영노광장치에관한것이다. 장치는광 경로를따라제 1 스펙트럼범위로부터의방사선을가이드하기위한미러들의제 1 그룹을가져서제 1 그룹의각각의미러가노광광원의동작동안제 1 스펙트럼범위에서각 미러에적용된제 1 관련된강도분포를가질수 있는광학시스템을또한포함한다. 이런경우에, 열광원은, 제 1 그룹의적어도하나의미러가열 광원의동작동안적어도하나의미러에적용된제 2 스펙트럼범위에서의제 2 관련된강도분포를가질수 있고, 여기서제 1 강도분포가위치독립적팩터에의해필수적으로제 1 강도분포와상이하도록배열된다.

2. 发明授权

KR101547077B1 노광 방법 및 장치, 그리고 디바이스 제조 방법 有权
标题翻译：曝光方法和装置制造方法
公开(公告)号：KR101547077B1
公开(公告)日：2015-08-25
申请号：KR1020147016570
申请日：2004-03-30
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 구도다케히토 , 히루카와시게루
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70191 , G03B27/42 , G03F7/70091 , G03F7/701 , G03F7/70108 , G03F7/70158 , G03F7/70566
摘要： 여러피치의패턴을동시에각각고해상도로전사할수 있는노광방법및 장치이다. 조명광학계의동공면상에서의광량분포를, 광축 (BX) 을포함하는제 1 영역 (28) 과, 이제 1 영역 (28) 을둘러싸는제 1 원주 (32A) 를따라배치되어각각그 제 1 영역보다작은 4개의제 2 영역 (29A∼29D) 과, 제 1 원주 (32A) 를둘러싸는제 2 원주 (32B) 를따라배치되어각각그 제 1 영역보다작은 4개의제 3 영역 (30A∼30D) 으로이루어지는 9개의영역에서거의일정광량이되고, 그이외의영역에서그보다작아지도록설정한다. 이광량분포는회절광학소자또는개구조리개등에의해설정한다.

3. 发明公开

KR1020150031493A 조명 광학계, 노광 장치 및 디바이스의 제조 방법 审中-实审
标题翻译：照明光学系统，曝光装置和装置制造方法
公开(公告)号：KR1020150031493A
公开(公告)日：2015-03-24
申请号：KR1020157005375
申请日：2008-10-10
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 히로타히로유키
IPC分类号： G02B26/08 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70116 , G02B26/02 , G03F7/70083 , G03F7/70158 , G03F7/70291 , G02B26/08 , G03F7/20 , G03F7/70833
摘要： 조명 광학 장치(13)는 광원(12)으로부터 출력된 노광광(EL)을 피조사 물체(R)로 유도한다. 조명 광학 장치(13)는 어레이 형상으로 배열되는 복수의 공간 광 변조 부재(22)를 갖고 있으며, 각각의 공간 광 변조 부재(22)는 각각이 이동 가능 반사면을 갖고 있는 복수의 반사 광학 소자가 어레이 형상으로 배열되도록 구성된다. 공간 광 변조 부재 중 적어도 하나는 광원으로부터 출력된 광의 광로 내에 배치된다.

4. 发明授权

KR101503992B1 노광 방법 및 장치, 그리고 디바이스 제조 방법 有权
公开(公告)号：KR101503992B1
公开(公告)日：2015-03-18
申请号：KR1020127034127
申请日：2004-03-30
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 구도다케히토 , 히루카와시게루
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70191 , G03B27/42 , G03F7/70091 , G03F7/701 , G03F7/70108 , G03F7/70158 , G03F7/70566
摘要： 여러 피치의 패턴을 동시에 각각 고해상도로 전사할 수 있는 노광 방법 및 장치이다. 조명 광학계의 동공면 상에서의 광량 분포를, 광축 (BX) 을 포함하는 제 1 영역 (28) 과, 이 제 1 영역 (28) 을 둘러싸는 제 1 원주 (32A) 를 따라 배치되어 각각 그 제 1 영역보다 작은 4개의 제 2 영역 (29A∼29D) 과, 제 1 원주 (32A) 를 둘러싸는 제 2 원주 (32B) 를 따라 배치되어 각각 그 제 1 영역보다 작은 4개의 제 3 영역 (30A∼30D) 으로 이루어지는 9개의 영역에서 거의 일정 광량이 되고, 그 이외의 영역에서 그보다 작아지도록 설정한다. 이 광량 분포는 회절 광학 소자 또는 개구 조리개 등에 의해 설정한다.

5. 发明授权

KR101484435B1 노광 방법 및 장치, 그리고 디바이스 제조 방법 有权
标题翻译：曝光方法和装置，以及装置制造方法
公开(公告)号：KR101484435B1
公开(公告)日：2015-01-19
申请号：KR1020137026632
申请日：2004-03-30
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 구도다케히토 , 히루카와시게루
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/207
CPC分类号： G03F7/70191 , G03B27/42 , G03F7/70091 , G03F7/701 , G03F7/70108 , G03F7/70158 , G03F7/70566
摘要： 여러 피치의 패턴을 동시에 각각 고해상도로 전사할 수 있는 노광 방법 및 장치이다. 조명 광학계의 동공면 상에서의 광량 분포를, 광축 (BX) 을 포함하는 제 1 영역 (28) 과, 이 제 1 영역 (28) 을 둘러싸는 제 1 원주 (32A) 를 따라 배치되어 각각 그 제 1 영역보다 작은 4개의 제 2 영역 (29A∼29D) 과, 제 1 원주 (32A) 를 둘러싸는 제 2 원주 (32B) 를 따라 배치되어 각각 그 제 1 영역보다 작은 4개의 제 3 영역 (30A∼30D) 으로 이루어지는 9개의 영역에서 거의 일정 광량이 되고, 그 이외의 영역에서 그보다 작아지도록 설정한다. 이 광량 분포는 회절 광학 소자 또는 개구 조리개 등에 의해 설정한다.

6. 发明公开

KR1020130131473A 노광 방법 및 장치, 그리고 디바이스 제조 방법 有权
公开(公告)号：KR1020130131473A
公开(公告)日：2013-12-03
申请号：KR1020137026632
申请日：2004-03-30
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 구도다케히토 , 히루카와시게루
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/207
CPC分类号： G03F7/70191 , G03B27/42 , G03F7/70091 , G03F7/701 , G03F7/70108 , G03F7/70158 , G03F7/70566 , G03F7/70008
摘要： An exposure method and apparatus for simultaneously transferring patterns with various pitches with high resolution. On the pupil surface of an illumination system, nine areas are set. The nine areas are a first area (28) including the optical axis (BX), four second areas (29A to 29D) each smaller than the first area and arranged along a first circumference (32A) surrounding the first area (28), and four third areas (30A to 30D) each smaller than the first area and arranged along a second circumference (32B) surrounding the first circumference (32A) and arranged along a second circumference. The distribution of intensity of light over the pupil surface is so set that the intensities of light over the nine areas are approximately equal to one another, and the intensity of light over the other area is smaller than those over the nine areas. This distribution of intensity of light is set using a diffraction optical element or a diaphragm.

7. 发明授权

KR101095680B1 후면 위상 격자 마스크 및 그 제조 방법 失效
标题翻译：背面相位光栅掩模及其制造方法
公开(公告)号：KR101095680B1
公开(公告)日：2011-12-19
申请号：KR1020080134826
申请日：2008-12-26
申请人： 에스케이하이닉스 주식회사
发明人： 오성현 , 남병호
IPC分类号： G03F1/26 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70158 , G03F1/50
摘要： 투명 기판 전면에 직교 좌표계의 축에서 일정 방향으로 회전된 방향으로 연장되는 사선 패턴들의 레이아웃(layout)을 따르게 형성된 마스크 패턴들, 기판 후면에 마스크 패턴들의 연장 방향과 나란한 방향으로 연장된 라인(line) 형태의 위상 격자를 포함하는 마스크를 제시한다.
6F2, 다이폴 조명, 위상 격자, 1차광

8. 发明公开

KR1020100109164A 조명 제어 모듈, 그것을 포함하는 회절 조명 시스템 및 포토리소그래피 시스템 无效
标题翻译：照明控制模块，衍射照明系统和包括它们的光刻系统
公开(公告)号：KR1020100109164A
公开(公告)日：2010-10-08
申请号：KR1020090027623
申请日：2009-03-31
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 심우석 , 전용진 , 이석주
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70108 , G03F7/70158 , G03F7/7055
摘要： PURPOSE: An illumination control module, a diffraction illumination system and a photolithography system including the same are provided to improve productivity in various photolithography processes by applying one diffraction lighting system to various photolithography process. CONSTITUTION: An illumination control module(100) comprises an upper lens(110) and a lower lens(120). The upper lens has a swollen ring shape. The lower lens has a concave ring shape. The absolute value of a focus distance of the lower lens is different to that of the upper lens. The circular constant of the lower lens is same as that of the upper lens. The horizontal width of the lower lens is smaller than the that of the upper lens. The upper lens and lower lens are independently moved up and down.
摘要翻译：目的：提供照明控制模块，衍射照明系统和包括其的光刻系统，以通过将一个衍射照明系统应用于各种光刻工艺来提高各种光刻工艺中的生产率。构成：照明控制模块（100）包括上透镜（110）和下透镜（120）。上透镜有一个肿胀的环形。下透镜具有凹环形状。下透镜的对焦距离的绝对值与上镜头的绝对值不同。下透镜的圆形常数与上透镜的圆形常数相同。下透镜的水平宽度小于上透镜的水平宽度。上透镜和下透镜独立上下移动。

9. 发明公开

KR1020100084699A 컴퓨터 생성 홀로그램 및 노광장치 失效
标题翻译：计算机生成的全息和曝光装置
公开(公告)号：KR1020100084699A
公开(公告)日：2010-07-27
申请号：KR1020107013652
申请日：2008-12-12
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 마츠바라이사오
IPC分类号： G03H1/04 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03H1/08 , G02B5/32 , G03F7/70158 , G03F7/70216 , G03F7/70566 , G03H1/0891 , G03H2001/2276 , G03H2001/303 , G03H2222/31 , G03H2223/20 , G03H2240/13 , G03H2240/15 , G03H2240/41 , G03H2240/55 , G03H2260/51 , G03F7/20 , H01L21/0274
摘要： The present invention provides a computer generated hologram which forms a light intensity distribution on a predetermined plane by giving a phase distribution to a wavefront of incident light, the hologram comprising a first anisotropic cell and second anisotropic cell configured to change a polarization state of the incident light, and a first isotropic cell and second isotropic cell configured not to change the polarization state of the incident light, wherein a direction of an optic axis of the first anisotropic cell is different from a direction of an optic axis of the second anisotropic cell, and a thickness of the first isotropic cell is different from a thickness of the second isotropic cell.
摘要翻译：本发明提供了一种计算机产生的全息图，其通过给入射光的波前赋予相位分布而在预定平面上形成光强分布，该全息图包括第一各向异性单元和第二各向异性单元，其被配置为改变事件的偏振状态光和第一各向同性电池，第二各向同性电池被配置为不改变入射光的偏振状态，其中第一各向异性单元的光轴的方向与第二各向异性单元的光轴的方向不同，并且第一各向同性电池的厚度与第二各向同性电池的厚度不同。

10. 发明公开

KR1020100076698A 후면 위상 격자 마스크 및 그 제조 방법 失效
标题翻译：背面相位掩模及其制造方法
公开(公告)号：KR1020100076698A
公开(公告)日：2010-07-06
申请号：KR1020080134826
申请日：2008-12-26
申请人： 에스케이하이닉스 주식회사
发明人： 오성현 , 남병호
IPC分类号： G03F1/26 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70158 , G03F1/50 , G03F1/44 , G03F1/0046 , G03F1/26 , G03F1/38 , G03F1/76
摘要： PURPOSE: A backside phase grating mask and a method for manufacturing thereof are provided to pattern transfer an oblique line pattern extended to the direction which rotated from the axial direction of a crossing coordinate system. CONSTITUTION: A backside phase grating mask comprises the following: a substrate(300); mask patterns formed along to a layout of an oblique line pattern extended to the direction which rotated from the axial direction of a crossing coordinate system; and a phase grating extended to the parallel direction to the extension direction of the mask patterns. The oblique line pattern follows the layout of active areas at 6F2 cell batch method.
摘要翻译：目的：提供一种背面相位光栅掩模及其制造方法，用于对从交叉坐标系的轴向旋转的方向延伸的斜线图案进行图案转印。构成：背面相位光栅掩模包括：衬底（300）; 沿着从交叉坐标系的轴向旋转的方向延伸的斜线图案的布局形成的掩模图案; 以及延伸到与掩模图案的延伸方向平行的方向的相位光栅。斜线图案按照6F2细胞批次法的有效面积布局。

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