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1. 发明授权

KR101619272B1 방사선 소스, 리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법 有权
标题翻译：辐射源，光刻设备和器件制造方法
公开(公告)号：KR101619272B1
公开(公告)日：2016-05-10
申请号：KR1020117004189
申请日：2009-07-15
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
发明人： 클라센,미첼 , 그로에네벨트,로지어 , 스트류켄,알렉산더 , 스빈켈스,게라르두스후베르투스
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/7085 , G03F7/70141 , G03F7/70175
摘要： 리소그래피장치(1)는컬렉터(CO) 및방사선소스(105)를포함하는소스모듈(SO) - 상기컬렉터(CO)는상기방사선소스(105)로부터방사선을수집하도록구성됨 - ; 상기컬렉터(CO)에의해수집된상기방사선을컨디셔닝하고, 방사선빔을제공하도록구성된일루미네이터(IL); 및상기일루미네이터(IL)에대해고정된위치관계에배치된검출기(301) - 상기검출기(301)는상기컬렉터(CO)에대한상기방사선소스(105)의위치및 상기일루미네이터(IL)에대한상기소스모듈(SO)의위치를결정하도록구성됨 - 를포함한다.
摘要翻译：光刻设备1包括源模块SO，其包括收集器CO和辐射源105，收集器CO被配置为收集来自辐射源105的辐射; 照射器（IL），配置成调节由收集器（CO）收集的辐射并提供辐射束; 其中，相对于所述检测器301位于与放射线源105的照射器（IL）与集电极（CO） - ，和布置在一个位置关系固定相对于所述照射器的检测器301（IL）并配置为确定源模块SO的位置。

2. 发明公开

KR1020160018817A 결상 광학 시스템 및 투영 노광 장치 无效
标题翻译：成像光学系统和投影曝光安装
公开(公告)号：KR1020160018817A
公开(公告)日：2016-02-17
申请号：KR1020167002267
申请日：2008-10-11
申请人： 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하
发明人： 만,한스-위르겐 , 울리히,빌헬름 , 뮐렌더,스테판 , 엔키쉬,하르트무트
IPC分类号： G03F7/20 , G02B17/06
CPC分类号： G02B5/0891 , G02B13/143 , G02B17/06 , G03F7/70175 , G03F7/70233
摘要： 결상광학시스템(7)은다수의미러들(M1 내지 M6)를갖는다. 이들은물체면(5) 내의물체필드(4)를이미지면(9) 내의이미지필드(8)로결상한다. 결상광학시스템(7)에서는, 미러들(M1 내지 M6)의반사면들상의결상광(15)의최대입사각과결상광학시스템(7)의이미지측 개구수의비가 33.8°미만이다. 이것은결상광이결상광학시스템을통과할때, 특히 10nm 미만의 EUV 영역내의파장들에있어서도낮은반사손실이얻어질수 있도록하는, 미러의반사코팅을위한양호한상태를제공하는결상광학시스템이라는결과를가져온다.

3. 发明公开

KR1020150143802A 방사선 수집기, 냉각 시스템 및 리소그래피 장치 审中-实审
标题翻译：辐射收集器，冷却系统和光刻设备
公开(公告)号：KR1020150143802A
公开(公告)日：2015-12-23
申请号：KR1020157032771
申请日：2014-03-24
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
发明人： 반데르할렌이보 , 스트루이켄알렉산더매티스 , 프란켄요한즈크리스티안레오나르두스
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G02B19/0023 , G02B5/09 , G02B5/10 , G02B7/1815 , G02B19/009 , G02B27/0006 , G03F7/70033 , G03F7/70175 , G03F7/70575 , G03F7/70891 , G03F7/7095
摘要： 복수개의반사면으로서, 상기복수개의반사면의각각은복수개의타원체중 하나의타원체의일부분과일치하는, 복수개의반사면을포함하고, 상기복수개의타원체는공통으로제 1 초점및 제 2 초점을가지며, 상기복수개의반사면의각각은상기복수개의타원체중 서로상이한것과일치하고, 상기복수개의반사면은상기제 1 초점으로부터나오는방사선을수광하고상기방사선을상기제 2 초점으로반사하도록구성되는, 방사선수집기.

4. 发明公开

KR1020110108246A 광 조사 장치 无效
标题翻译：光照射装置
公开(公告)号：KR1020110108246A
公开(公告)日：2011-10-05
申请号：KR1020110014533
申请日：2011-02-18
申请人： 우시오덴키 가부시키가이샤
发明人： 스즈키가즈요시 , 이노마타요시하루
IPC分类号： G03F7/20 , G02B27/18
CPC分类号： G03F7/2004 , G02B27/18 , G03F7/70166 , G03F7/70175 , G03F7/70233 , G03F7/70991 , G03F9/7096
摘要： (과제) 램프를 과냉각으로 하지 않고, 집광경에 대해서 충분한 냉각풍을 공급할 수 있는 구조를 실현하는 것이다.
(해결수단) 램프와, 이 램프로부터의 광을 반사하는 곡면의 반사면을 가지는 집광경과, 이 집광경을 상향으로 지지하는 집광경 지지 기구와, 램프와 집광경을 냉각시키는 냉각풍을 도입하는 냉각풍 도입구 램프와 집광경을 냉각시킨 후의 냉각풍을 배기하는 냉각풍 배기구를 구비한 광 조사 장치에 있어서, 집광경 지지 기구는, 집광경을 이면측으로부터 집광경의 곡면에 대해서 법선 방향으로 탄성체에 의해 들어올리는 지지봉을 설치한 복수개의 지지체와, 지지체가 부착되는 프레임과, 집광경의 광 출사구의 둘레 가장자리가 가압되는 집광경 가압판을 구비한다. 집광경의 광 출사구의 둘레 가장자리는, 집광경 가압판의 개구와 이 개구의 주변에 형성한 통풍공의 사이에 가압한다.
摘要翻译：本发明提供了一种光照射装置，其包括灯，冷凝器支撑机构，冷却空气入口和冷却空气排出口。冷凝器支撑机构包括多个支撑体，框架和冷凝器压板。喷出口的周边被压在冷凝器压板的开口和开口周边的通风口之间。因此，防止灯的过冷，并且冷凝器具有足够的冷却空气。

5. 发明公开

KR1020110031292A 리소그래피 장치용 광학 요소 마운트 有权
标题翻译：光学元件的光学元件安装
公开(公告)号：KR1020110031292A
公开(公告)日：2011-03-25
申请号：KR1020107028987
申请日：2009-07-16
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
发明人： 테겐보쉬헨리쿠스게라르두스 , 스트루이켄알렉산더마테이스 , 클레인야곱 , 비렌스루드안토니우스카타리나마리아 , 반데르할렌이보
IPC分类号： G03F7/20 , G02B7/00
CPC分类号： G03F7/70891 , G03F7/70175 , G03F7/70783 , G03F7/70825 , G03F7/20 , G02B7/00 , H01L21/027
摘要： 마운트는 리소그래피 장치용 모듈(70, 170) 내에 광학 요소(1)를 장착하도록 구성되어 있다. 이 마운트는 광학 요소(1)를 원주 방향으로 지지하도록 구성 및 배치된 복수의 탄성 부재(12)를 포함한다. 각 탄성 부재(2)는 광학 요소(1)와 그 주위에서 결합하도록 구성된 복수의 탄성 서브섹션(4'. 4", 4"')을 포함한다. 각 탄성 서브섹션은 다른 탄성 서브섹션과 독립적으로 구부러지도록 구성된다.

6. 发明公开

KR1020080015048A 리소그래피 장치 및 그 세정 방법 无效
标题翻译：光刻设备及其清洁方法
公开(公告)号：KR1020080015048A
公开(公告)日：2008-02-15
申请号：KR1020087000702
申请日：2006-06-13
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
发明人： 반헤르펜마르텐마리누스요하네스빌헬무스 , 바니너바딤예브제너비치 , 무어스요하네스후베르투스요세피나 , 쿨룬더데르크잔빌프레드
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70925 , B82Y10/00 , G03F7/70166 , G03F7/70916 , G03F7/70008 , G03F7/70175 , G03F7/70191 , G03F7/70241
摘要： A lithographic apparatus is disclosed. The apparatus includes a source (5) for supplying hydrogen radicals (1), a guide (2) for use in conjunction with the source, for directing hydrogen radicals to an application surface (4) to be targeted by the hydrogen radicals. The guide is provided with a coating (8) having a hydrogen radical recombination constant of less than 0.2. In this way, the radicals can be transported with reduced losses and are able to better interact with remaining contaminants on application surfaces, such as mirror surfaces.
摘要翻译：公开了一种光刻设备。该设备包括用于供应氢原子的源（5），用于与源结合使用的引导件（2），用于将氢自由基引导到由氢基团靶向的施加表面（4）。引导件设置有具有小于0.2的氢自由基复合常数的涂层（8）。以这种方式，可以以较少的损失运输自由基，并且能够更好地与应用表面（例如镜面）上的剩余污染物相互作用。

7. 发明授权

KR100696736B1 오목 및 볼록거울을 포함하는 컬렉터를 구비한 리소그래피투영장치 失效
标题翻译：具有收集器的平版投影仪，包括凹凸镜
公开(公告)号：KR100696736B1
公开(公告)日：2007-03-20
申请号：KR1020040026057
申请日：2004-04-16
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
发明人： 바니네바딤예프예비치
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70175
摘要： 본 발명의 리소그래피 투영장치는, 수렴하는 EUV방사선 빔을 얻기 위하여, 오목면상에 제1반사기 및 볼록면상에 제2반사기를 갖는 컬렉터를 구비한 EUV소스를 포함한다. 이들 표면들은 거울을 장착하는데 사용된다. 이것은 컬렉터의 하류에서는 거울이 생략될 수도 있음을 의미한다.

8. 发明授权

KR100627167B1 노광장치 및 이것을 이용한 디바이스의 제조방법 失效
标题翻译：曝光装置及其装置制造方法
公开(公告)号：KR100627167B1
公开(公告)日：2006-09-25
申请号：KR1020047017241
申请日：2003-04-11
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 히우라미츠루 , 츠지토시히코
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , G21K5/02 , G21K1/06
CPC分类号： G03F7/70916 , B82Y10/00 , G02B17/0663 , G03F7/70033 , G03F7/70175 , G03F7/70941 , H05G2/001
摘要： 표적상에 여기 레이저를 조사하고, 생성된 플라즈마로부터, 극자외선 영역 또는 X선 영역의 조명광을 생성하기 위한 광원을 생성시키는 노광장치에 있어서, 상기 조명광을 이용해서, 전사될 패턴을 형성하는 반사형 레티클을 조명하고, 상기 광원에 인접한 제 1미러를 포함하는 조명광학계와, 상기 조명광학계의 제 1미러의 앞쪽에서 조명광을 집광하는 타원형 미러와, 상기 레티클상에 반사된 패턴을 피노광체상에 축소투영하는 투영광학계를 구비하고, 상기 여기 레이저의 광축방향이 해당 여기 레이저에 의해 플라즈마를 생성하는 위치를 넘어서 진행하는 광은, 상기 조명광학계, 상기 투영광학계 및 상기 타원형 미러를 포함하는 해당 노광장치의 구성소자와 간섭하지 않는 것을 특징으로 한다.

9. 发明公开

KR1020060058678A 집광 광학계, 광원 유닛, 조명 광학 장치 및 노광 장치 有权
标题翻译：聚焦光学系统，光源单元，照明光学设备和曝光设备
公开(公告)号：KR1020060058678A
公开(公告)日：2006-05-30
申请号：KR1020067000854
申请日：2004-07-14
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 무라카미가츠히코
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027 , G21K1/06
CPC分类号： G03F7/70175 , G03F7/70033 , G02B19/0047
摘要： A light source unit of EUV light is disclosed which comprises a plasma light source emitting EUV lights, a collector mirror having a spheroidal reflecting surface, and an auxiliary collector mirror having a spherical reflecting surface. The collector mirror is arranged so that the plasma light source is on the first focal point of the collector mirror, while the auxiliary collector mirror is arranged so that the plasma light source is not on the spherical center of the auxiliary collector mirror.
摘要翻译：公开了一种EUV光源的光源单元，其包括发射EUV灯的等离子体光源，具有球形反射面的集光镜和具有球面反射面的辅助收集镜。集电镜被布置成使得等离子体光源位于集光镜的第一焦点上，而辅助聚光镜被布置成等离子体光源不在辅助收集镜的球面中心。

10. 发明授权

KR100572098B1 반사미러장치, 노광장치 및 디바이스제조방법 有权
标题翻译：反射镜装置，曝光装置和装置制造方法
公开(公告)号：KR100572098B1
公开(公告)日：2006-04-17
申请号：KR1020047021039
申请日：2003-06-19
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 미야지마요시카즈
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G21K1/06 , G02B7/1815 , G03F7/70175 , G03F7/702 , G03F7/70233 , G03F7/70891 , G21K2201/065 , G21K2201/067
摘要： 반사에 의해 노광광을 도입함으로써 노광처리를 행하는 노광장치의 반사광학계에 사용되는 반사미러장치는, 상기 노광광을 반사하는 반사면을 가진 미러와, 이 미러의 외표면으로부터 이간된 위치에 배치되는 복사냉각을 위한 복사판을 가진다. 상기 복사판은 미러의 반사면에 대해서 입사하고, 반사하는 노광광을 위한 통과영역을 확보하도록 배치된다. 또한, 각 복사판은 냉각관을 통하여 흐르는 냉각액에 의해 온도제어된다. 따라서 노광장치의 반사광학계에 사용되는 미러의 온도상승을 억제할 수 있어, 미러반사면의 면형상의 정밀도를 유지할 수 있다.

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