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11. 发明公开

KR1020160127636A 노광 장치 및 노광 방법 无效
标题翻译：曝光装置和曝光方法
公开(公告)号：KR1020160127636A
公开(公告)日：2016-11-04
申请号：KR1020160024128
申请日：2016-02-29
申请人： 가부시키가이샤 어드밴티스트
发明人： 야마다,아키오 , 세야마,마사히로 , 나스노,히데키
IPC分类号： G03F7/20 , G03F1/20 , G03F1/44 , G03F1/50
CPC分类号： H01J37/3045 , H01J37/20 , H01J37/244 , H01J37/3177 , H01J2237/043 , H01J2237/0435 , H01J2237/15 , H01J2237/2025 , H01J2237/20285 , H01J2237/30455 , H01J2237/31766 , H01J2237/31774
摘要： [과제] 하전입자빔을이용하여, 스테이지의이동오차를저감시켜복잡하고미세한패턴을형성한다. [해결수단] 하전입자빔을발생하는빔 발생부와, 시료를탑재하고, 해당시료를빔 발생부에대하여상대적으로이동시키는스테이지부와, 스테이지부의위치를검출하는검출부와, 스테이지부의검출위치에기초하여, 스테이지부의구동량을예측한예측구동량을생성하는예측부와, 예측구동량에기초하여, 하전입자빔을시료에조사하는조사제어를행하는조사제어부를구비하는노광장치및 노광방법을제공한다.
摘要翻译：目的：通过减少阶段的运动误差，使用带电粒子束形成复杂和精细的图案。实现目的的手段：曝光装置，包括产生带电粒子束的光束产生部分; 具有安装在其上的样品（10）的台阶部（110），并使样本相对于束生成部移动; 检测部，其检测所述台部的位置; 预测部（1000），其基于所述舞台部的检测位置生成预测所述舞台部的驱动量而得到的预测驱动量; 以及照射控制部（170），其根据预测的驱动量进行照射带电粒子束的样品的照射控制。还提供了一种曝光方法。

12. 发明授权

KR101647343B1 하전 입자 현미경 시스템 및 그것을 사용한 계측 방법 有权
标题翻译：充电颗粒显微镜系统和使用相同的测量方法
公开(公告)号：KR101647343B1
公开(公告)日：2016-08-10
申请号：KR1020147036700
申请日：2013-08-07
申请人： 가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈
发明人： 오사키마유카 , 기무라마키 , 시시도지에 , 사사다가츠히로
IPC分类号： H01J37/244 , H01J37/28 , H01J37/22
CPC分类号： H01J37/28 , H01J37/22 , H01J37/244 , H01J37/3178 , H01J2237/221
摘要： 하전입자현미경에있어서는, 검출계특성의차이등에의해, 복수의검출광학계혹은복수의장치사이에있어서의출력신호의차분이, 입력신호의크기에따라다르다는과제를갖는다. 특히, 촬상대상으로부터얻어지는신호파형정보를이용하여촬상대상의치수를계측하는계측장치에있어서는, 이러한신호량의장치간 차가치수계측결과의장치간 차에연결되기때문에문제가된다. 이것을해결하는수단의일례는하전입자선을피검사대상물에조사하는조사부와, 상기조사부에의해조사된당해피검사대상물로부터의하전입자신호를검출하는검출기(109)를구비하는검출부를갖는하전입자현미경(10)과, 상기하전입자현미경의검출기(109)에서검출된당해하전입자신호를화상신호로변환하는신호처리부(11)와, 신호변환특성을사용하여상기신호처리부(11)에서변환된화상신호를보정하는연산처리부(132)와, 구비하는하전입자현미경시스템이다.

13. 发明授权

KR101616471B1 장애 조건하에서 균일한 선량 주입을 수행하기 위한 시스템 및 방법 有权
标题翻译：在不利条件下执行均匀剂量植入的系统和方法
公开(公告)号：KR101616471B1
公开(公告)日：2016-04-28
申请号：KR1020117028453
申请日：2009-05-29
申请人： 액셀리스 테크놀러지스, 인크.
发明人： 사토,슈
IPC分类号： H01J37/317 , H01J37/244 , H01J37/304
CPC分类号： H01J37/244 , H01J37/304 , H01J37/3171 , H01J2237/24405 , H01J2237/24507 , H01J2237/24564 , H01J2237/30405 , H01J2237/30455 , H01J2237/31703
摘要： 이온주입시스템(100) 및관련방법은리본형상이온빔(110) 내로연필형상이온빔을스캔하도록구성된스캐너, 및제 1 방향을가진리본형상이온빔을수신하고제 2 방향으로이동하도록상기리본형상이온빔을벤딩하도록구성된빔 벤딩엘리먼트(112)를포함한다. 시스템은빔 벤딩엘리먼트의하류에위치된엔드스테이션을더 포함하고, 엔드스테이션(102)은제 2 방향으로이동하는리본형상이온빔을수신하도록구성되며, 상기이온빔의주입을위해작업물을고정하도록더 구성된다. 또한, 시스템은상기빔 벤딩엘리먼트의출구개구에리본형상이온빔의빔 전류를측정하도록구성된빔 벤딩엘리먼트의출구개구에위치되는빔 전류측정시스템(122, 124, 106)을포함한다.

14. 发明公开

KR1020160018427A 이온주입장치, 이온주입방법 및 빔계측장치 审中-实审
标题翻译：离子植入装置，离子注入方法和光束测量装置
公开(公告)号：KR1020160018427A
公开(公告)日：2016-02-17
申请号：KR1020150111353
申请日：2015-08-07
申请人： 스미도모쥬기가이 이온 테크놀로지 가부시키가이샤
发明人： 사노마코토 , 츠키하라미츠쿠니 , 사사키하루카 , 이나다고우지
IPC分类号： H01J37/317 , G01J1/42 , G02B26/08
CPC分类号： H01J37/244 , H01J37/3171 , H01J2237/057 , H01J2237/24405 , H01J2237/24535 , H01J2237/303
摘要： 소정궤도를가지는빔성분을양호한정밀도로계측한다. 이온주입장치는, 전단빔경로(P1)를통과하는이온빔을편향시키고, 웨이퍼(40)를향하여후단빔경로(P2)를통과하도록빔을출사시키는빔편향장치(42)와, 빔편향장치(42)와웨이퍼(40)의사이에위치하여, 후단빔경로(P2) 내를진행하는빔을부분적으로차폐하여소정궤도를가지는빔성분을웨이퍼(40)를향하여통과시키는빔필터슬릿(52)과, 빔편향장치(42)와빔필터슬릿(52)의사이에위치하여, 빔편향장치(42)로부터출사되는빔의일부를빔전류로서계측하는도스컵(50)과, 빔편향장치(42)와도스컵(50)의사이에위치하여, 빔편향장치(42)로부터출사하여도스컵(50)을향하는빔 중소정궤도로부터일탈한궤도를가지는빔성분이도스컵(50)의계측영역에입사하는것을방지하는궤도제한기구(60)를구비한다.
摘要翻译：本发明的目的是测量具有精确度的具有特定轨道的光束。离子注入装置技术领域本发明涉及一种离子注入装置，其包括以下部件：用于偏转穿过前束通道（P1）的离子束并用于发射射束以使它们穿过后射束路径（P2）的光束偏转装置（42）晶片（40）; 放置在光束偏转装置（42）和晶片（40）之间的光束滤光器狭缝（52），用于部分屏蔽通过后光束通路（P2）的光束，用于具有一定轨迹的光束通过晶片（40）; 放置在光束偏转装置（42）和光束滤光器狭缝（52）之间的用于测量作为光束电流从光束偏转装置（42）偏转的光束的部分的数据杯（50）; 以及放置在所述光束偏转装置（42）和所述灭火杯（50）之间的轨道限制装置（60），用于防止从所述光束偏转装置（42）发射的面向所述剂量杯（50）的光束材料，并且具有与预定轨道相比的出轨轨迹，从而被引入到所述喷射杯（50）的可测量区域。

15. 发明公开

KR1020150142606A 리소그래피 장치 및 물품의 제조 방법 审中-实审
标题翻译： LITHOGRAPHY APPARATUS，AND METHOD OF MANUFACTURING ARTICLE
公开(公告)号：KR1020150142606A
公开(公告)日：2015-12-22
申请号：KR1020150078967
申请日：2015-06-04
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 오가와시게키 , 이나히데키 , 오이시사토루
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/66 , H01L23/544
CPC分类号： H01J37/304 , H01J37/244 , H01J37/3045 , H01J37/3174 , H01J37/3177 , H01J2237/20 , H01J2237/30433
摘要： 본발명은기판상의제1 영역및 제2 영역에빔을순차적으로조사함으로써패턴을형성하는리소그래피장치를제공하며, 상기장치는, 상기빔을검출하도록구성되는빔 검출기와, 상기제1 영역의빔의조사이전의상기빔 검출기로부터의출력에기초하여상기제2 영역의제1 위치정보에가중치를부여하고, 상기조사이후의상기빔 검출기로부터의출력에기초하여상기제2 영역의제2 위치정보에가중치를부여함으로써, 상기제2 영역의위치정보를얻도록구성되는프로세서를포함한다.
摘要翻译：本发明提供一种通过将光束依次照射到基板的第一区域和第二区域而形成图案的光刻设备。该装置包括检测光束的光束检测器和基于来自第一区域的光束照射之前的光束检测器的输出，允许对第二区域的第一位置信息的加权值的处理器，并且允许基于来自光束检测器的照射后的输出，对第二区域的第二位置信息进行加权值，从而获得第二区域的位置信息。

16. 发明授权

KR101542022B1 하전 입자선 장치, 하전 입자선 장치의 조정 방법, 및 시료의 관찰 방법 有权
标题翻译：充电颗粒光束装置，用于调整充电颗粒光束装置的方法和观察样品的方法
公开(公告)号：KR101542022B1
公开(公告)日：2015-08-04
申请号：KR1020147004411
申请日：2012-07-04
申请人： 가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈
发明人： 오미나미,유스께 , 오따끼,도모히사 , 이또,스께히로
IPC分类号： H01J37/28 , H01J37/18 , H01J37/20 , G21K5/04
CPC分类号： H01J37/18 , H01J37/06 , H01J37/244 , H01J37/28 , H01J2237/164 , H01J2237/166 , H01J2237/18 , H01J2237/202 , H01J2237/2445 , H01J2237/2608
摘要： 대기압공간과감압공간을분리하기위한박막주변부의구성을최적화함으로써, 시료(6)를대기분위기또는가스분위기에서관찰하는것이가능한하전입자선장치를제공한다. 제1 하우징(7)을배기하는진공배기펌프(4)와, 제1 하우징(7) 내에서, 조사에의해얻어지는하전입자선을검출하는검출기(3)와, 적어도제1 하우징(7) 또는제2 하우징(8)의어느일부이거나, 또는별체로서구성되고, 제1 하우징(7) 내와제2 하우징(8) 내와의사이의적어도일부를이격하는격벽부와, 격벽부에설치되고, 하전입자조사부측의개구면적이시료(6)측의개구면적보다도큰 개구부(10a)와, 개구부(10a)의시료(6)측을덮고, 1차하전입자선및 하전입자선을투과또는통과시키는박막(13)을구비하는하전입자선장치를제공한다.

17. 发明公开

KR1020150071330A 검사장치 및 검사방법 审中-实审
标题翻译：检查装置和检查方法
公开(公告)号：KR1020150071330A
公开(公告)日：2015-06-26
申请号：KR1020130158223
申请日：2013-12-18
申请人： 삼성전기주식회사
发明人： 차진욱 , 김규석 , 정희석 , 양은주 , 김미양 , 함석진
IPC分类号： G01N23/225 , G01N21/88 , B23K15/08 , G01R31/26
CPC分类号： H01J37/28 , G01N23/2255 , G01N2223/418 , H01J37/20 , H01J37/244 , H01J37/30 , H01J2237/202
摘要： 본발명은검사장치에관한것으로, 챔버; 상기챔버내부에배치되고, 샘플을고정하고이송하도록형성된스테이지; 상기챔버내부에배치되고, 상기샘플표면에이온빔을조사하여적어도 1개이상의샘플홈을형성하는이온빔장치; 상기이온빔장치의일측에형성되고, 상기샘플홈에대하여기울기를갖도록형성된전자현미경장치; 상기전자현미경장치의타측에형성되고, 상기샘플의내부를광원으로관찰하도록상기샘플상부에형성된광학장치를포함하는검사장치를제공한다.
摘要翻译：本发明涉及一种检查装置，包括：一个室; 设置在所述室内的阶段以固定和转移样品; 离子束装置，其设置在所述室内，以通过将离子束照射到所述样品的表面来形成一个或多个样品槽; 形成在离子束装置一侧的电子显微镜装置倾斜到样品槽; 以及形成在电子显微镜装置的另一侧并形成在样品顶部以允许通过光源观察样品内部的光学装置。

18. 发明公开

KR1020150053798A 패턴 검사·계측 장치 및 프로그램 有权
标题翻译：模式检查和测量设备和程序
公开(公告)号：KR1020150053798A
公开(公告)日：2015-05-18
申请号：KR1020157008960
申请日：2013-10-11
申请人： 가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈
发明人： 미나까와,쯔요시 , 히로이,다까시 , 요시다,다께유끼 , 니노미야,다꾸 , 야마모또,다꾸마 , 신도,히로유끼 , 후꾸나가,후미히꼬 , 도요다,야스따까 , 시노다,신이찌
IPC分类号： G01N23/225 , G01B15/04 , H01J37/244 , G06T1/00 , H01L21/66
CPC分类号： G06T7/001 , G01B2210/56 , G06K9/4604 , G06K9/52 , G06T7/0002 , G06T7/13 , G06T2207/30168 , H01J37/244 , H01J2237/24592 , H01J2237/2817
摘要： 검사또는계측대상의패턴을촬상해서얻어진화상데이터로부터추출한에지의위치를사용한검사또는계측에있어서, 노이즈등의영향을저감해서검사또는계측결과의신뢰성을향상시키는패턴검사·계측장치를제공한다. 이를 위해서, 검사또는계측대상패턴을촬상해서얻어진화상데이터로부터에지추출파라미터를사용해서추출한에지의위치를사용하여검사또는계측대상패턴의검사또는계측을행하는패턴검사·계측장치에있어서, 검사또는계측의기준이되는형상을나타내는기준패턴과상기화상데이터를사용해서상기에지추출파라미터를생성하는것을특징으로한다.
摘要翻译：提供了一种模式检查和测量装置，其减少了噪声等的影响，并且使用从通过将图案成像作为对象获得的图像数据提取的边缘的位置来增加检查或测量结果的可靠性检查或测量。为此，在图案检查和测量装置中，使用边缘提取参数，通过使用边缘提取参数来执行检查或测量对象图案的检查或测量，从通过成像获得的图像数据检查或测量对象图案，使用具有形状作为检查或测量参考的参考图案和图像数据来生成边缘提取参数。

19. 发明公开

KR1020150022907A 하전 입자선 장치 및 시료 관찰 방법 有权
标题翻译：充电颗粒光束装置和样品观测方法
公开(公告)号：KR1020150022907A
公开(公告)日：2015-03-04
申请号：KR1020147036503
申请日：2013-06-28
申请人： 가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈
发明人： 오미나미유스케 , 이토스케히로
IPC分类号： H01J37/244 , H01J37/20 , H01J37/16 , H01J37/18
CPC分类号： H01J37/16 , H01J37/00 , H01J37/18 , H01J37/20 , H01J37/244 , H01J37/26 , H01J37/28 , H01J2237/2002 , H01J2237/24455 , H01J2237/2605
摘要： 일차 하전 입자선을 시료 상에 조사해서, 상기 조사에 의해 얻어지는 이차 하전 입자 신호를 검출하여, 상기 시료를 관찰하는 시료 관찰 방법에 있어서, 진공 상태로 유지된 하전 입자 광학 경통 내에서 발생하는 상기 일차 하전 입자선을, 상기 시료가 재치된 공간과 상기 하전 입자 광학 경통을 격리하도록 배치된 격막을 투과 또는 통과시키고, 대기압 또는 대기압보다 약간의 부압 상태의 소정의 가스 분위기에 놓여진 상기 시료에 상기 일차 하전 입자선을 조사하는 것에 의하여 얻어지는 투과 하전 입자선을 검출하는 것을 특징으로 한다.

20. 发明公开

KR1020150015437A 전하 캐리어 빔의 빔 매개변수 측정 방법, 측정 장치 및 전하 캐리어 빔 장치 审中-实审
标题翻译：用于确定充电载波波束，测量装置和充电载波波束装置的波束参数的方法
公开(公告)号：KR1020150015437A
公开(公告)日：2015-02-10
申请号：KR1020147028508
申请日：2013-03-11
申请人： 알더블유티에이치 아헨 , 엑삭트 시스템스 게엠베하
发明人： 라이스겐,우베 , 드브리스,옌스 , 박하우스,알렉산더 , 바우어,한스-페터 , 우퍼,세바스티안 , 라이헨베륵,베른트 , 슈미츠-켐펜,토어스텐
IPC分类号： B23K15/00 , G01T1/29 , H01J37/244 , H01J37/31
CPC分类号： G01R19/0061 , B23K15/0013 , B23K15/0026 , G21K1/04 , H01J37/244 , H01J37/3007 , H01J37/3053 , H01J37/31 , H01J37/315 , H01J2237/24514 , H01J2237/24542 , H01J2237/303
摘要： 본 발명은 전하 캐리어 빔의 빔 매개변수 측정 방법, 측정 장치 및 전하 캐리어 빔 장치에 관한 것이다. 전하 캐리어 빔 장치(1)의 전하 캐리어 빔(4)은, 다이어프램 장치(7)에 제공되어 있으며 하나 이상의 슬릿 다이어프램(8)을 갖는 슬릿 다이어프램 시스템에서, 빔 편향 유닛(3)에 의해 가이드된다. 슬릿 다이어프램 시스템을 통과하는 빔 성분의 측정 면-좌표를 측정한다. 측정 면-좌표에 기초하여, 다이어프램 장치에 배열된 측정 다이어프램(9)이 미리 정해진 측정 기준점으로 이동되도록, 다이어프램 장치는 자동으로 이동된다. 빔 매개변수는 측정 다이어프램을 통해 측정된다. 상술한 방법을 실시하는 측정 장치(5)에서, 슬릿 다이어프램 시스템은 서로 평행하지 않는 적어도 두 개의 슬릿 다이어프램 섹션(12, 13, 15, 16)을 구비하며, 이 섹션은 하나의 연속하는 슬릿 다이어프램에 해당 될 수 있다.

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