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1. 发明公开

KR1020160074131A 이미지 생성 방법 및 이를 수행하기 위한 이미징 시스템 审中-实审
标题翻译：图像创建METOHD和成像系统执行相同
公开(公告)号：KR1020160074131A
公开(公告)日：2016-06-28
申请号：KR1020140182994
申请日：2014-12-18
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김정환 , 김민국 , 양유신 , 이상길 , 전충삼
IPC分类号： H01L21/66 , G06T11/00
CPC分类号： H01J37/222 , H01J37/28 , H01J37/285 , H01J37/31 , H01J2237/226 , H01J2237/2445 , H01J2237/2527 , H01J2237/2561 , H01L21/00 , G06T11/00 , H01L22/10
摘要： 이미지생성방법에있어서, 시료의표면으로부터 2차원공간정보를갖는공간이미지를획득한다. 상기시료의표면을밀링하여상기밀링된표면으로부터물질정보를갖는물성이미지를획득한다. 상기공간이미지와상기물성이미지를합성하여 2차원공간적성분이미지를형성한다.
摘要翻译：图像创建方法包括以下步骤：从样本的表面获得具有二维空间信息的空间图像; 研磨样品的表面以获得具有来自铣削表面的材料信息的材料属性图像; 以及通过添加空间图像和材料图像来形成二维空间元素图像。根据本发明的实施例，可以获得具有高分辨率的三维空间元素图像。

2. 发明授权

KR101550921B1 단면 가공 방법 및 장치 有权
标题翻译：部分处理方法及其设备
公开(公告)号：KR101550921B1
公开(公告)日：2015-09-07
申请号：KR1020090015729
申请日：2009-02-25
申请人： 가부시키가이샤 히타치 하이테크 사이언스 , 에스아이아이 나노테크놀로지 유에스에이 아이엔시
发明人： 후지이토시아키 , 타시로쥰이치 , 마이크하셀-쉬어러
IPC分类号： H01L21/00 , H01L21/66
CPC分类号： H01J37/28 , H01J37/3056 , H01J37/31 , H01J2237/28 , H01J2237/31745 , H01J2237/31749 , H01L21/67282 , H01L23/544 , H01L2223/5442 , H01L2223/54426 , H01L2223/54453 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要： 본발명은단면가공방법및 장치에있어서, 단면가공의가공효율을향상할수 있도록하기위한것으로서, 상기과제를해결하기위한해결수단에있어서, 관찰목표단면(2), 또는관찰목표단면(2)을포함하는관찰영역에서, 시료(1)의단면을관찰하기위해, 시료(1)에대해순차제거가공을시행함에의해가공위치를이동시켜서가공면(1c)을형성하는단면가공방법으로서, 관찰목표단면(2)의부근에서가공면(1c)이형성가능한범위에, 제거가공에의해가공가능하고, 또한가공면(1c) 내에서마크형상이식별가능하게되는마크부(4A, 4B)를형성하는마크부형성공정과, 상기마크부형성공정에서형성된마크부(4A, 4B)를포함하는범위에서, 시료(1) 및마크부(4A, 4B)에대해제거가공을시행하여, 가공면(1c)을형성하는단면형성공정과, 상기단면형성공정에서형성중이거나또는형성후의시료(1)의단면의관찰상을취득하는관찰상취득공정을구비한다.

3. 发明授权

KR101807896B1 모서리 라운딩부를 교정하는 전자빔 리소그래피 방법 有权
标题翻译：电子束光刻法修正圆角的方法
公开(公告)号：KR101807896B1
公开(公告)日：2017-12-11
申请号：KR1020127028137
申请日：2011-04-13
申请人： 꼼미사리아 아 레네르지 아토미끄 에뜨 옥스 에너지스 앨터네이티브즈
发明人： 마나클리,세다르
IPC分类号： H01J37/317 , G03F7/20
CPC分类号： H01J37/31 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F1/78 , G03F7/2061 , G03F7/2063 , H01J37/3174
摘要： 본발명은전자빔리소그래피방법에관한것이며, 특히, 35㎚의임계선폭을갖는식각될패턴의경우, 특히, 인접한패턴들의모서리라운딩의효과를갖고식각되는구성요소의디자인의신뢰도문제를해결하는직접-쓰기전자빔리소그래피방법에관한것이다. 본발명은임계패턴을결정하는단계와, 외부또는내부모서리라운딩효과에따라선택되는치수와사이트를갖는교정패턴의제거에의해교정패턴을결정하는단계와, 교정된디자인을식각하는단계를포함한다. 바람직하게는, 임계패턴의파라미터를고려하여교정모델을계산함으로써교정이이뤄질수 있다. 바람직하게는, 식각될블록의변부를리사이징하고, 이와함께, 에너지래티튜드에의한복사선량의변조의최적화에의해, 상기방법의근접효과의교정이수행된다. 바람직하게는, 리스케일링및 부정함수와 eRIF 함수가파라미터를최적화하고압출을구현하도록사용될수 있다.
摘要翻译：本发明涉及一种电子束平版印刷的方法，特别是，在图案的情况下，以与35㎚阈值线宽度进行蚀刻，特别是直接解决它被蚀刻以具有舍入相邻的图案设计的角部的作用的部件的可靠性的问题 - 写电子束光刻。本发明包括通过去除具有根据外部或内部边缘舍入效应选择的尺寸和位置的校准图案来确定校准图案，并且蚀刻校准设计。优选地，校准可以通过考虑临界图案的参数来计算校准模型来完成。优选地，待蚀刻的块的侧部和重新调整尺寸，另外，通过优化从能量纬度的辐射剂量的调制中，该方法的邻近效应校正被执行。优选地，可以使用重新缩放和否定功能以及eRIF功能来优化参数并实现挤出。

4. 发明公开

KR1020170021786A 자동 시료 제작 장치 审中-实审
标题翻译：自动制样装置
公开(公告)号：KR1020170021786A
公开(公告)日：2017-02-28
申请号：KR1020167035061
申请日：2015-06-29
申请人： 가부시키가이샤 히다치 하이테크 사이언스
发明人： 우에모토아츠시 , 아사하타다츠야 , 사토마코토 , 야마모토요
IPC分类号： G01N1/28 , H01J37/31 , H01J37/317
CPC分类号： G01N1/44 , G01N1/28 , H01J37/31 , H01J37/317
摘要： 하전입자빔 장치(10a)는, 적어도시료편홀더(P), 니들(18), 및시료편(Q)의미리취득한복수의하전입자빔에의한화상을기초로하여, 시료편(Q)을미리정한시료편홀더(P)의위치에이설하도록복수의하전입자빔 조사광학계와니들(18)과가스공급부(17)를제어하는컴퓨터(21)를구비한다.
摘要翻译：带电粒子束装置10a具有这样的结构，其中至少基于带电粒子保持器P的图像，针18和多个充电粒子保持件20形成样本片Q. 以及计算机21，用于控制多个带电粒子束照射光学系统棒18和气体供给单元17，以便将其放置在样本架P的预定位置处，

5. 发明公开

KR1020150064190A 경사진 밀링 보호를 위한 벌크 증착 审中-实审
标题翻译：用于倾斜式铣刀保护的大块沉积
公开(公告)号：KR1020150064190A
公开(公告)日：2015-06-10
申请号：KR1020157011682
申请日：2013-10-07
申请人： 에프이아이 컴파니
发明人： 스톤스테이시 , 이상훈 , 블랙우드제프리 , 슈미트마이클
IPC分类号： B23K15/00 , B23K15/08
CPC分类号： H01J37/3005 , G01N1/32 , G01N23/2255 , G01N2223/104 , G01N2223/611 , H01J37/3007 , H01J37/3053 , H01J37/3056 , H01J37/31 , H01J2237/063 , H01J2237/08 , H01J2237/2813 , H01J2237/31732 , H01J2237/31745 , H01J2237/31749
摘要： 보기위해서집속이온빔에의해노출된표면에서아티팩트들을줄이기위해서, 관심영역옆의트렌치가밀링되며, 그리고그 트렌치는채워져서벌크헤드를생성한다. 상기이온빔은보기위해서상기관심영역의일부를노출시키기위해서상기벌크헤드를통해서방향이정해진다. 상기트렌치는, 예를들면, 하전입자빔-유도증착에의해서채워진다. 상기트렌치는위에서부터아래로밀링되고채워지는것이일반적이며, 그리고상기이온빔은상기샘플표면에대하여각도를이루어서상기관심영역을노출시킨다.

6. 发明授权

KR101873462B1 하전 입자빔의 조사량 보정용 파라미터의 취득 방법, 하전 입자빔 묘화 방법 및 하전 입자빔 묘화 장치 有权
公开(公告)号：KR101873462B1
公开(公告)日：2018-07-02
申请号：KR1020160153930
申请日：2016-11-18
申请人： 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지
发明人： 노무라하루유키
IPC分类号： G03F1/36 , G03F1/72 , G03F1/20 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/2061 , G03F7/70516 , H01J37/31
摘要： 본발명의일 태양의하전입자빔의조사량보정용파라미터의취득방법은, 하전입자빔을이용하여레지스트가도포된기판상에복수의평가패턴을묘화하고, 평가패턴마다묘화조건을가변으로하면서, 묘화조건마다, 복수의평가패턴중 상이한어느하나의평가패턴의주변에, 상기평가패턴의묘화에의한레지스트의온도상승의영향을무시할수 있는시간이경과한후, 하전입자빔의복수의샷을이용하여대응되는묘화조건에따라주변패턴을묘화하고, 상기묘화조건마다, 주변에상기주변패턴이묘화된상기평가패턴의폭 치수를측정하고, 상기묘화조건마다, 상기복수의샷의각 샷으로부터상기평가패턴에도달하는후방산란도스량을연산하고, 상기묘화조건마다, 상기복수의샷의각 샷시에서의상기샷 시보다전의샷으로부터의열 전달에의한상기평가패턴의온도상승량을연산하고, 상기묘화조건마다의평가패턴의폭 치수와, 상기묘화조건마다의각 샷시에서의상기평가패턴의온도상승량과, 상기묘화조건마다의각 샷으로부터의평가패턴으로의후방산란도스량을이용하여, 평가패턴의폭 치수변동량과평가패턴의온도상승량과평가패턴에도달하는후방산란도스량의상관관계를정의하는상관파라미터를연산하고, 출력하는것을특징으로한다.

7. 发明公开

KR1020170108804A 복합 하전 입자 빔 장치 审中-实审
标题翻译：复合带电粒子束装置
公开(公告)号：KR1020170108804A
公开(公告)日：2017-09-27
申请号：KR1020170009732
申请日：2017-01-20
申请人： 가부시키가이샤 히다치 하이테크 사이언스
发明人： 오오니시츠요시 , 하스다마사카츠
IPC分类号： G03F1/20 , G03F1/78 , G03F1/64 , G03F7/20
CPC分类号： H01J37/09 , H01J37/023 , H01J37/20 , H01J37/28 , H01J37/30 , H01J37/3005 , H01J37/3056 , H01J37/31 , H01J2237/022 , H01J2237/2809 , H01J2237/2813 , H01J2237/31745
摘要： (과제)집속이온빔 경통과전자빔 경통을모두구비한복합하전입자빔 장치에있어서, 전자빔 경통의오손을방지하여, 고정밀도로전자빔을조사가능한복합하전입자빔 장치를제공한다. (해결수단)시료를올려놓는시료대와, 상기시료에집속이온빔을조사하는집속이온빔 경통과, 상기시료에전자빔을조사하는전자빔 경통과, 상기시료대, 상기집속이온빔 경통, 및전자빔 경통을수용하는시료실과, 상기전자빔 경통의출사면과상기시료대의사이에삽입된삽입위치, 및상기출사면과상기시료대의사이로부터퇴출한개방위치의사이에서변위가능하게형성된방오판과, 상기방오판을상기삽입위치및 상기개방위치사이에서변위시키는조작수단을구비했다.
摘要翻译：（任务）在聚焦离子束柱和包含两种电子束柱的复合带电粒子束的装置，以防止电子束柱的结垢，并提供带电粒子束照射能够复杂且高度精确的电子束的装置。 [解决问题的手段]和以装载样品试样台，接收到该聚焦离子束柱用于照射聚焦离子束的样品和用于照射电子束到样品中，样品台，其中，所述聚焦离子束柱的电子束柱，和电子束柱样品室，及电子束柱的出射面之间的插入位置和所述样品单元，并且形成出射表面，并从样品条带之间抽出的打开位置之间房间错误的决定进行位移，用于放电误判那以及用于在插入位置和打开位置之间移位的操作装置。

8. 发明公开

KR1020170058310A 하전 입자빔의 조사량 보정용 파라미터의 취득 방법, 하전 입자빔 묘화 방법 및 하전 입자빔 묘화 장치 审中-实审
标题翻译：带电粒子束获取方法，带电粒子束的描绘方法和带电粒子束描绘设备的剂量校正参数
公开(公告)号：KR1020170058310A
公开(公告)日：2017-05-26
申请号：KR1020160153930
申请日：2016-11-18
申请人： 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지
发明人： 노무라하루유키
IPC分类号： G03F1/36 , G03F1/72 , G03F1/20 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/2061 , G03F7/70516 , H01J37/31
摘要： 본발명의일 태양의하전입자빔의조사량보정용파라미터의취득방법은, 하전입자빔을이용하여레지스트가도포된기판상에복수의평가패턴을묘화하고, 평가패턴마다묘화조건을가변으로하면서, 묘화조건마다, 복수의평가패턴중 상이한어느하나의평가패턴의주변에, 상기평가패턴의묘화에의한레지스트의온도상승의영향을무시할수 있는시간이경과한후, 하전입자빔의복수의샷을이용하여대응되는묘화조건에따라주변패턴을묘화하고, 상기묘화조건마다, 주변에상기주변패턴이묘화된상기평가패턴의폭 치수를측정하고, 상기묘화조건마다, 상기복수의샷의각 샷으로부터상기평가패턴에도달하는후방산란도스량을연산하고, 상기묘화조건마다, 상기복수의샷의각 샷시에서의상기샷 시보다전의샷으로부터의열 전달에의한상기평가패턴의온도상승량을연산하고, 상기묘화조건마다의평가패턴의폭 치수와, 상기묘화조건마다의각 샷시에서의상기평가패턴의온도상승량과, 상기묘화조건마다의각 샷으로부터의평가패턴으로의후방산란도스량을이용하여, 평가패턴의폭 치수변동량과평가패턴의온도상승량과평가패턴에도달하는후방산란도스량의상관관계를정의하는상관파라미터를연산하고, 출력하는것을특징으로한다.
摘要翻译：使用带电粒子束获得本发明的带电粒子束一个方面的剂量校正参数，以及与所述成像条件的每个时间，并绘制多个评价图案和评价模式的到抗蚀剂涂覆的基材的方法是可变的，成像每个条件，其中不同的一个的多个评价图案的一个评估图案的，时间后可以覆盖抗蚀剂的温度上升的效果，由于评估图案的描绘已经经过外围，使用多个带电粒子束的拍摄张在根据相应的成像条件和摄像条件的从每个图像的外围图案，测量周边图案的宽度是围绕绘制的评价图案，并且对于每个的摄像条件，所述多个镜头的各镜头每个计算反向散射剂量达到评估图案和成像条件下，计算由所述拍摄时刻信号的评价图案的温度增加量从先前拍摄eseoui传热窗扇每个多个拍摄的和，而在各摄像条件的评估图案，使用该评价图形的反向散射剂量从eseoui的每个镜头的每个的用于评价图案的每个的温度增加量的摄像条件中的每个框格的宽度，所述摄像条件，它的特征在于计算相关参数，其定义了评价图案和评估图案温度增加量的变化幅度及评价量后向散射剂量之间的关系达到的图案，并输出。

9. 发明公开

KR1020150047567A 전자 비임 및 비임 스캐닝 속도의 범위를 이용한 초-경질 재료를 절삭하는 방법 有权
标题翻译：使用电子束切割超硬材料的方法和光束扫描速度范围
公开(公告)号：KR1020150047567A
公开(公告)日：2015-05-04
申请号：KR1020157007288
申请日：2013-08-14
申请人： 엘리먼트 씩스 테크놀로지스 리미티드
发明人： 워트크리스토퍼존하워드
IPC分类号： B23K15/08 , B23K15/10 , B28D5/00
CPC分类号： B23K15/08 , B23K15/00 , B23K15/0006 , B23K15/10 , B23K2203/08 , B23K2203/50 , B23K2203/52 , B26D5/00 , B28D5/00 , C30B33/08 , H01J37/31
摘要： 전자비임(6)을이용하여초-경질재료(8)를절삭하는방법으로서, 전자비임(6)은초-경질재료(8)의표면상으로지향되고, 전자비임(6)이 100 내지 5000 mms범위의전자비임스캐닝속도로초-경질재료(8)의표면에걸쳐서이동하여초-경질재료(8)를절삭하도록, 초-경질재료(8)의표면에걸쳐서이동된다.
摘要翻译：一种使用电子束（6）切割超硬材料（8）的方法，其中电子束（6）被引导到超硬材料（8）的表面上并相对于表面移动，使得电子束（6）以100-5000mms-1的电子束扫描速度跨过超硬材料（8）的表面移动，以切割超硬材料（8）。

10. 发明公开

KR1020090093839A 단면 가공 방법 및 장치 有权
标题翻译：部分处理方法及其设备
公开(公告)号：KR1020090093839A
公开(公告)日：2009-09-02
申请号：KR1020090015729
申请日：2009-02-25
申请人： 가부시키가이샤 히타치 하이테크 사이언스 , 에스아이아이 나노테크놀로지 유에스에이 아이엔시
发明人： 후지이토시아키 , 타시로쥰이치 , 마이크하셀-쉬어러
IPC分类号： H01L21/00 , H01L21/66
CPC分类号： H01J37/28 , H01J37/3056 , H01J37/31 , H01J2237/28 , H01J2237/31745 , H01J2237/31749 , H01L21/67282 , H01L23/544 , H01L2223/5442 , H01L2223/54426 , H01L2223/54453 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要： A section processing method and its apparatus is provided to detect the mark part which reaches the fixed distance from the target cross section. The cross section(1c) for observation is moved to observe the cross section of the sample(1). The mark part(4A,4B) is formed near the cross section for observation. The cross section for observation is formed by moving the mark part to predetermined observation target in a removing process within the range including the mark part in the exclusion processing. The mark part corresponds to the processing location for forming the cross section. The observation image acquisition process of the cross section is performed. The processing location information acquisition process for the cross section is performed.
摘要翻译：提供了一种部分处理方法及其装置，用于检测从目标横截面到达固定距离的标记部分。移动用于观察的横截面（1c）以观察样品（1）的横截面。标记部分（4A，4B）形成在用于观察的横截面附近。用于观察的横截面通过在除去处理中的包括标记部分的范围内的移除处理中将标记部移动到预定观察目标而形成。标记部分对应于用于形成横截面的处理位置。执行横截面的观察图像获取处理。执行横截面的处理位置信息获取处理。

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