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1. 发明公开

KR1020160018427A 이온주입장치, 이온주입방법 및 빔계측장치 审中-实审
标题翻译：离子植入装置，离子注入方法和光束测量装置
公开(公告)号：KR1020160018427A
公开(公告)日：2016-02-17
申请号：KR1020150111353
申请日：2015-08-07
申请人： 스미도모쥬기가이 이온 테크놀로지 가부시키가이샤
发明人： 사노마코토 , 츠키하라미츠쿠니 , 사사키하루카 , 이나다고우지
IPC分类号： H01J37/317 , G01J1/42 , G02B26/08
CPC分类号： H01J37/244 , H01J37/3171 , H01J2237/057 , H01J2237/24405 , H01J2237/24535 , H01J2237/303
摘要： 소정궤도를가지는빔성분을양호한정밀도로계측한다. 이온주입장치는, 전단빔경로(P1)를통과하는이온빔을편향시키고, 웨이퍼(40)를향하여후단빔경로(P2)를통과하도록빔을출사시키는빔편향장치(42)와, 빔편향장치(42)와웨이퍼(40)의사이에위치하여, 후단빔경로(P2) 내를진행하는빔을부분적으로차폐하여소정궤도를가지는빔성분을웨이퍼(40)를향하여통과시키는빔필터슬릿(52)과, 빔편향장치(42)와빔필터슬릿(52)의사이에위치하여, 빔편향장치(42)로부터출사되는빔의일부를빔전류로서계측하는도스컵(50)과, 빔편향장치(42)와도스컵(50)의사이에위치하여, 빔편향장치(42)로부터출사하여도스컵(50)을향하는빔 중소정궤도로부터일탈한궤도를가지는빔성분이도스컵(50)의계측영역에입사하는것을방지하는궤도제한기구(60)를구비한다.
摘要翻译：本发明的目的是测量具有精确度的具有特定轨道的光束。离子注入装置技术领域本发明涉及一种离子注入装置，其包括以下部件：用于偏转穿过前束通道（P1）的离子束并用于发射射束以使它们穿过后射束路径（P2）的光束偏转装置（42）晶片（40）; 放置在光束偏转装置（42）和晶片（40）之间的光束滤光器狭缝（52），用于部分屏蔽通过后光束通路（P2）的光束，用于具有一定轨迹的光束通过晶片（40）; 放置在光束偏转装置（42）和光束滤光器狭缝（52）之间的用于测量作为光束电流从光束偏转装置（42）偏转的光束的部分的数据杯（50）; 以及放置在所述光束偏转装置（42）和所述灭火杯（50）之间的轨道限制装置（60），用于防止从所述光束偏转装置（42）发射的面向所述剂量杯（50）的光束材料，并且具有与预定轨道相比的出轨轨迹，从而被引入到所述喷射杯（50）的可测量区域。

2. 发明公开

KR1020150059119A 고에너지 이온주입장치, 빔전류조정장치, 및 빔전류조정방법 审中-实审
标题翻译：高能离子注入装置，光束电流调节装置和光束电流调节方法
公开(公告)号：KR1020150059119A
公开(公告)日：2015-05-29
申请号：KR1020140162660
申请日：2014-11-20
申请人： 스미도모쥬기가이 이온 테크놀로지 가부시키가이샤
发明人： 이나다고우지 , 가토오고우지
IPC分类号： H01J37/317
CPC分类号： H01J37/304 , H01J37/04 , H01J37/3171 , H01J2237/0455 , H01J2237/08 , H01J2237/24535 , H01J2237/304 , H01J2237/30472 , H01J2237/31701
摘要： 예를들면고에너지이온주입장치에있어서주입빔전류를조정한다. 이온주입장치를위한빔전류조정장치(300)는, 이온빔의수렴점(P) 또는그 근방에배치되어있는가변애퍼추어(302)를구비한다. 가변애퍼추어(302)는, 주입빔전류를제어하기위하여, 수렴점(P)에있어서의이온빔의수렴방향에수직인방향의빔폭을조정하도록구성되어있다. 가변애퍼추어(302)는, 질량분석슬릿(22b)의바로뒤쪽에배치되어있어도된다. 빔전류조정장치(300)는, 고에너지다단직선가속유닛(14)을가지는고에너지이온주입장치(100)에설치되어있어도된다.
摘要翻译：本发明涉及高能离子注入装置，束电流调节装置和束电流调节方法。例如，在高能离子注入装置中调节注入束电流。用于离子注入装置的束流调节装置（300）包括：设置在会聚点（P）中或离离子束的会聚点附近的可变孔径（302）。可变孔径（302）调节垂直于会聚点（P）中的离子束的会聚方向的方向的波束的宽度，以调节注入束电流。可变孔径（302）布置在质量分析狭缝（22b）的后面。束电流调节装置（300）安装在包括高能多级线性加速装置（14）的高能离子注入装置（100）中。

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