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1. 发明授权

KR101832177B1 소자, 노광 장치 및 제조 방법 有权
公开(公告)号：KR101832177B1
公开(公告)日：2018-02-27
申请号：KR1020160047023
申请日：2016-04-18
申请人： 인텔 코포레이션
发明人： 야마다,아키오 , 스가타니,신지 , 쿠로카와,마사키 , 타키자와,마사히로 , 이와시타,류마
IPC分类号： G03F7/09 , G03F7/20 , H01L21/02 , H01L21/321
CPC分类号： H01J37/3174 , H01J37/045 , H01J37/3177 , H01J2237/0213 , H01J2237/0437 , H01J2237/1501 , H01J2237/20228 , H01J2237/31766
摘要： [과제] 컴플리멘터리·리소그래피로, 미세한라인패턴을안정적으로가공할수 있는멀티빔형성소자를실현한다. [해결수단] 빔을성형하여편향시키는소자로서, 소자의제1 면측으로부터입사되는빔을성형하여통과시키는제1 개공(開孔)을갖는어퍼처층과, 어퍼처층을통과한빔을통과시켜편향시키는편향층을구비하고, 편향층은, 제1 개공에대응하는편향층내의빔 통과공간에상대하는제1 전극을갖는제1 전극부와, 편향층내에있어서인접층과는독립적으로빔 통과공간을향해연신하는연신부및 단부에있어서빔 통과공간을사이에두고제1 전극에대향하는제2 전극을갖는제2 전극부를갖는소자및 이러한소자를적용한노광장치를제공한다.

2. 发明授权

KR101477557B1 하전 입자빔 묘화 장치 및 다중 묘화용의 하전 입자빔의 조사 시간 배분 방법 有权
标题翻译：充电粒子束写入装置和分散方法对多个写字符的充电颗粒光束的辐射时间
公开(公告)号：KR101477557B1
公开(公告)日：2014-12-30
申请号：KR1020130079669
申请日：2013-07-08
申请人： 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지
发明人： 야시마준 , 안포아키히토 , 카토야스오
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G06F17/5081 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/3026 , H01J37/3174 , H01J2237/31764 , H01J2237/31766
摘要： 본발명의일태양의하전입자빔묘화장치는, 동일위치에샷하는복수회의하전입자빔의총 조사시간(n)을위치를이동시키면서다중묘화를행하는복수의다중묘화단위영역의다중묘화단위영역수(m)와다중묘화단위영역마다의위치를이동시키지않고반복다중묘화를행하는반복수(r)를곱한값으로나눈정수값에반복수(r)를곱한값에, 복수의다중묘화단위영역중 미리설정된특정의다중묘화단위영역이아닌다중묘화단위영역으로서특정의다중묘화단위영역을제외한다중묘화단위영역번호가총 조사시간(n)을다중묘화단위영역수(m)와반복수(r)를곱한값으로나누었을경우의제1 나머지를반복수(r)로더 나눈값 이하인다중묘화단위영역의경우에는반복수(r)를가산한값을, 복수의다중묘화단위영역중 미리설정된특정의다중묘화단위영역이아닌다중묘화단위영역으로서특정의다중묘화단위영역을제외한다중묘화단위영역번호가제1 나머지를반복수(r)로나눈값 이하가아닌다중묘화단위영역의경우에는아무것도가산하지않은값을, 복수의다중묘화단위영역중 미리설정된특정의다중묘화단위영역의경우에는총 조사시간(n)을반복수(r)로나누었을경우의제2 나머지를가산한값을, 동일위치에샷하는복수회의하전입자빔중 당해다중묘화단위영역에서의하전입자빔의합계조사시간으로서산출하는합계조사시간산출부와다중묘화단위영역마다, 해당하는합계조사시간이되도록하전입자빔을조사하여시료에패턴을묘화하는묘화부를구비한것을특징으로한다.

3. 发明公开

KR1020140007757A 하전 입자빔 묘화 장치 및 다중 묘화용의 하전 입자빔의 조사 시간 배분 방법 有权
标题翻译：充电粒子束写入装置和分散方法对多个写字符的充电颗粒光束的辐射时间
公开(公告)号：KR1020140007757A
公开(公告)日：2014-01-20
申请号：KR1020130079669
申请日：2013-07-08
申请人： 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지
发明人： 야시마준 , 안포아키히토 , 카토야스오
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G06F17/5081 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/3026 , H01J37/3174 , H01J2237/31764 , H01J2237/31766 , H01L21/0274 , G03F1/20
摘要： The present invention relates to a charged particle beam writing apparatus and a distribution method of the irradiation time of a charged particle beam for multiple writing. According to the embodiment of the present invention, the charged particle beam writing apparatus includes a time calculation part, a memory part memorizing a pattern data, and a shot data generation part for generating shot data. [Reference numerals] (11) n calculation part; (112) Memory; (12) Shot data generation part; (120) Control circuit; (142,140) Shot data; (23,24,26,29,34,37,42) Calculation part; (27,28,33,36,50,52,54) Determination part; (32,46,48) Copy processing part; (35,44) Setting part; (56) Exposing control part
摘要翻译：本发明涉及一种带电粒子束写入装置和一种用于多次写入的带电粒子束的照射时间的分布方法。根据本发明的实施例，带电粒子束写入装置包括时间计算部分，存储图案数据的存储部分和用于产生镜头数据的镜头数据生成部件。（11）n计算部; （112）内存; （12）拍摄数据生成部分; （120）控制电路; （142,140）射击数据; （23,24,26,29,34,37,42）计算部分; （27,28,33,36,50,52,54）确定部分; （32,46,48）复印处理部分; （35,44）设定部分; （56）公布控制部分

4. 发明公开

KR1020130025348A 멀티 하전 입자빔 묘화 장치 및 멀티 하전 입자빔 묘화 방법 有权
标题翻译：多电荷粒子束写入装置和多重粒子束写入方法
公开(公告)号：KR1020130025348A
公开(公告)日：2013-03-11
申请号：KR1020120096304
申请日：2012-08-31
申请人： 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지
发明人： 요시카와료이치 , 오가사와라무네히로
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： H01J37/3177 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/3026 , H01J37/3174 , H01J2237/31764 , H01J2237/31766 , H01L21/263 , H01L21/2633 , H01L21/3085 , H01L21/0275 , G03F7/2014 , G03F7/2026
摘要： PURPOSE: A multi-charged particle beam writing apparatus and a multi-charged particle beam writing method are provided to precisely write a pattern using a multi-beam by suppressing the change of a dimension or a shape of the pattern due to a multi-beam radiation dislocation. CONSTITUTION: An aperture member(203) includes an XY stage, an electron gun, and a plurality of holes, and generates a multi-beam. A blanking plate(204) performs a blanking deflection of a corresponding beam. A deflector(208) collects and deflects each beam on each radiation location of a sample. A writing process control unit(18) performs a writing process of a plurality of beams via different holes on the sample with a preset control grid interval. A radiation control unit(16) variably controls the radiation of the beam according to the amount of separated beams if an interval between written beams is out of the control grid interval. [Reference numerals] (10) Measuring unit; (110) Writing data processing unit; (12) Maximum radiation computing unit; (121) Memory; (130,132) Deflection controlling circuit; (138) Detector; (139) Stage position detector; (14) Radiation computing unit; (140) Writing data; (142) Deformation amount; (16) Radiation control unit; (18) Writing process control unit
摘要翻译：目的：提供多带电粒子束写入装置和多带电粒子束写入方法，通过抑制由于多光束而导致的图案的尺寸或形状的变化，使用多光束精确地写入图案辐射脱位。构成：孔部件（203）包括XY台，电子枪和多个孔，并产生多光束。消隐板（204）执行相应光束的消隐偏转。偏转器（208）收集并偏转样品的每个辐射位置上的每个光束。写入处理控制单元（18）通过预设的控制网格间隔在样本上经由不同的孔执行多个波束的写入处理。如果写入光束之间的间隔超出控制网格间隔，则辐射控制单元（16）根据分离光束的量可变地控制光束的辐射。（附图标记）（10）测量单元; （110）写入数据处理单元; （12）最大辐射计算单位; （121）内存; （130,132）偏转控制电路; （138）检测器; （139）舞台位置检测器; （14）辐射计算单元; （140）写数据; （142）变形量; （16）辐射控制单元; （18）书写过程控制单元

5. 发明授权

KR1019930003134B1 전자비임 노광(露光)방법과 그의 장치 失效
标题翻译：电子束曝光方法和装置
公开(公告)号：KR1019930003134B1
公开(公告)日：1993-04-22
申请号：KR1019890001300
申请日：1989-02-03
申请人： 후지쯔 가부시끼가이샤
发明人： 야스다히로시 , 가이쥰이찌 , 미야끼신지 , 다까하시야쓰시
IPC分类号： H01L21/00
CPC分类号： B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/3023 , H01J37/3174 , H01J2237/30411 , H01J2237/31766 , H01J2237/31767
摘要： 내용 없음.

6. 发明公开

KR20180025972A 작업물의 선택적 프로세싱 审中-公开
标题翻译：选择性加工工件
公开(公告)号：KR20180025972A
公开(公告)日：2018-03-09
申请号：KR20187004078
申请日：2016-07-06
申请人： VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASS INC
发明人： AMATO MARK R , LEE WILLIAM DAVIS , RENO JILLIAN
IPC分类号： H01L21/265 , H01L21/02 , H01L21/3065 , H01L21/324
CPC分类号： H01J37/3171 , C23C14/48 , H01J37/08 , H01J37/20 , H01J37/3026 , H01J2237/20214 , H01J2237/31761 , H01J2237/31766 , H01L21/265 , H01L21/425
摘要： 작업물의특정부분을선택적으로프로세싱하기위한시스템들및 방법들이개시된다. 예를들어, 외부부분은작업물상의제 1 위치를향해이온빔을보냄으로써프로세싱될수 있으며, 여기에서이온빔은 2개의제 1 위치들에서작업물의외부에지를넘어연장한다. 그런다음, 작업물은외부부분의특정영역들이이온빔에노출될수 있도록그것의중심에대해이온빔에대하여회전된다. 그런다음, 작업물은, 외부부분의모든영역들이이온빔에노출될수 있도록이온빔에대하여제 2 위치로이동되고반대방향으로회전된다. 이러한프로세스가복수회 반복될수 있다. 이온빔은임의의프로세스, 예컨대이온주입, 에칭또는증착을수행할수 있다.
摘要翻译：公开了用于选择性地处理工件的特定部分的系统和方法。例如，所述外部部分是由朝向物体到图像操作的第一位置，其中，所述离子束以外的纸张延伸到在所述两个第一位置在工件的外部发送的离子束经受处理。然后工件围绕离子束相对于其中心旋转，使得外部部分的某些区域可以暴露于离子束。然后，工件，所述外部分的全部区域已被移动到第二位置相对于所述离子束暴露于所述离子束在相反方向上旋转。该过程可以重复多次。离子束可以执行任何工艺，例如离子注入，蚀刻或沉积。

7. 发明公开

KR1020170032208A 멀티 하전 입자빔 묘화 방법 및 멀티 하전 입자빔 묘화 장치 审中-实审
标题翻译：多带电粒子束绘制方法和多带电粒子束绘制设备
公开(公告)号：KR1020170032208A
公开(公告)日：2017-03-22
申请号：KR1020160119094
申请日：2016-09-19
申请人： 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지
发明人： 마츠모토히로시
IPC分类号： H01J37/302 , H01J37/317 , H01L21/263 , B82Y10/00 , B82Y40/00
CPC分类号： H01J37/3023 , H01J37/045 , H01J37/3026 , H01J37/3177 , H01J2237/0435 , H01J2237/0453 , H01J2237/20285 , H01J2237/20292 , H01J2237/30422 , H01J2237/30438 , H01J2237/30472 , H01J2237/31762 , H01J2237/31764 , H01J2237/31774 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J2237/31766 , H01L21/263
摘要： 본발명의일 태양의멀티하전입자빔의묘화방법은, 멀티빔의 1 개의빔 당의시료의단위조사영역마다, 1 회의샷 당의최대조사시간의샷이분할된, 동일한단위조사영역에연속으로행해지는복수의분할샷의각 분할샷을멀티빔의일괄편향에의해전환가능한복수의빔 중적어도 1 개에할당하고, 단위조사영역마다상기단위조사영역에조사될빔의조사시간을연산하고, 단위조사영역마다합계조사시간이연산된빔의조사시간에상당하는조합이되도록복수의분할샷의각 분할샷을빔 ON으로할지빔 OFF로할지를결정하고, 멀티빔의일괄편향에의해복수의빔을전환하면서, 상기단위조사영역에, 동일한단위조사영역에연속으로행해지는복수의분할샷 중빔 ON이되는복수의대응분할샷을복수의빔을이용하여행하는것을특징으로한다.
摘要翻译：根据本发明的一个方面的绘制多电荷粒子束的方法是一种用于连续执行每次拍摄的多束样本的多个拍摄区域的多个拍摄区域的方法，针对每个单位照射区域计算照射到单位照射区域的射束的照射时间，并且针对每个单位照射区域计算要照射到单位照射区域的射束的照射时间，确定是否要将多个划分的镜头中的每个划分的镜头打开或关闭，使得每个照射区域的总照射时间是与计算出的射束的照射时间相对应的组合。在单位照射区域中使用多个射束执行在相同的单位照射区域中连续执行的多个分割照射之中成为射束ON的多个对应的分割照射。

8. 发明公开

KR1020160127636A 노광 장치 및 노광 방법 无效
标题翻译：曝光装置和曝光方法
公开(公告)号：KR1020160127636A
公开(公告)日：2016-11-04
申请号：KR1020160024128
申请日：2016-02-29
申请人： 가부시키가이샤 어드밴티스트
发明人： 야마다,아키오 , 세야마,마사히로 , 나스노,히데키
IPC分类号： G03F7/20 , G03F1/20 , G03F1/44 , G03F1/50
CPC分类号： H01J37/3045 , H01J37/20 , H01J37/244 , H01J37/3177 , H01J2237/043 , H01J2237/0435 , H01J2237/15 , H01J2237/2025 , H01J2237/20285 , H01J2237/30455 , H01J2237/31766 , H01J2237/31774
摘要： [과제] 하전입자빔을이용하여, 스테이지의이동오차를저감시켜복잡하고미세한패턴을형성한다. [해결수단] 하전입자빔을발생하는빔 발생부와, 시료를탑재하고, 해당시료를빔 발생부에대하여상대적으로이동시키는스테이지부와, 스테이지부의위치를검출하는검출부와, 스테이지부의검출위치에기초하여, 스테이지부의구동량을예측한예측구동량을생성하는예측부와, 예측구동량에기초하여, 하전입자빔을시료에조사하는조사제어를행하는조사제어부를구비하는노광장치및 노광방법을제공한다.
摘要翻译：目的：通过减少阶段的运动误差，使用带电粒子束形成复杂和精细的图案。实现目的的手段：曝光装置，包括产生带电粒子束的光束产生部分; 具有安装在其上的样品（10）的台阶部（110），并使样本相对于束生成部移动; 检测部，其检测所述台部的位置; 预测部（1000），其基于所述舞台部的检测位置生成预测所述舞台部的驱动量而得到的预测驱动量; 以及照射控制部（170），其根据预测的驱动量进行照射带电粒子束的样品的照射控制。还提供了一种曝光方法。

9. 发明公开

KR1020160113005A 양방향 더블 패스 멀티빔 기록 审中-实审
标题翻译：双向双通道多波束写入
公开(公告)号：KR1020160113005A
公开(公告)日：2016-09-28
申请号：KR1020160031822
申请日：2016-03-17
申请人： 아이엠에스 나노패브릭케이션 아게
发明人： 플라츠굼머엘마
IPC分类号： G03F1/44 , G03F1/20 , G03F7/20
CPC分类号： H01J37/3026 , G03F7/70358 , G03F7/70425 , H01J37/20 , H01J37/3177 , H01J2237/202 , H01J2237/20221 , H01J2237/31766
摘要： 하전입자의빔으로타겟을조사하기위해, 화소로구성된패턴이미지를생성하는빔이타겟에형성되고이미지화된다. 이러한패턴이미지는노출되는영역(R2) 위로타겟위의경로를따라이동되고, 이러한이동은순차노출로상기영역(R2)을덮고각각의폭(y0, x0)을갖는다수의스트라이프(181-183, 187-189)를형성한다. 이러한다수의스트라이프는각각의일반적인방향(d1, d2)을각각갖지만상기일반적인방향은상이한스위프에대해상이한, 예를들어, 서로수직인적어도 2개의스위프로기록된다. 각각의스트라이프(181-183, 187-189)는정확히하나의스위프에속하고동일한스위프의다른스트라이프에거의평행하게, 즉, 각각의일반적인방향을따라달린다. 각각의스위프에대해, 하나의스위프의스트라이프의, 상기주 방향을따라측정된폭(y0, x0)은영역의전체폭(Ry, Rx)의커버로결합된다.
摘要翻译：产生包括像素的图案图像的光束被形成并在目标上成像以用带电粒子束照射目标。这样的图案图像沿着目标上的路径移动到暴露区域（R2）上，并且这种移动通过顺序曝光覆盖区域（R2），并且形成具有每个宽度（y0）的多个条纹（181-183,187-189），x0）。每个条纹具有一般的方向（d1，d2），但是对于不同的扫描，一般方向被写为不同的扫描，例如彼此垂直的至少两个扫描。每个条纹（181-183,187-189）精确地属于一个扫描，并且沿着基本平行于另一个条纹的每个大体方向以相同的扫描方向延伸。对于每个扫描，沿着主方向测量的一次扫描的条纹的宽度（y0，x0）以该区域的整个宽度（Ry，Rx）的盖的形式耦合。

10. 发明公开

KR1020150139463A 멀티 하전 입자빔 묘화 방법 및 멀티 하전 입자빔 묘화 장치 有权
标题翻译：多重粒子束写入方法和多重粒子束写入装置
公开(公告)号：KR1020150139463A
公开(公告)日：2015-12-11
申请号：KR1020150078148
申请日：2015-06-02
申请人： 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지
发明人： 마츠모토히로시
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/033
CPC分类号： H01J37/1472 , G11B9/10 , H01J37/06 , H01J37/20 , H01J37/3023 , H01J37/3174 , H01J37/3177 , H01J2237/30483 , H01J2237/31762 , H01J2237/31766
摘要： 본발명의일태양의멀티하전입자빔묘화방법은, 멀티하전입자빔의각 빔의묘화위치를모아서함께스테이지의이동에추종하도록빔 편향에의한트래킹제어를개시하여, 트래킹제어를행하면서, 각빔의묘화위치에멀티하전입자빔중 ON 빔의각각대응하는빔을조사하는공정과, 트래킹제어를계속하면서, 트래킹제어를위한빔 편향과는별도로, 멀티하전입자빔을편향함으로써각 빔의묘화위치를다음의각 빔의묘화위치에시프트하는공정과, 트래킹제어를계속하면서, 시프트된각 빔의묘화위치에멀티하전입자빔중 ON 빔의각각대응하는빔을조사하는공정과, 트래킹제어를계속하면서적어도 1 회이상시프트된후의각 빔의묘화위치에각각대응하는빔을조사한후, 트래킹제어용의빔 편향을리셋함으로써, 트래킹위치를스테이지이동방향과역방향으로되돌리는공정을구비하고, 트래킹제어의개시부터리셋까지의이러한각 공정을 1 개의조로하여, 조를사전에설정된횟수반복함으로써, 소정영역의묘화를완료시키고, 이러한횟수의조 중, 적어도 1 회의조에있어서의트래킹개시부터리셋까지의트래킹시간이다른조에있어서의트래킹시간보다길어지는것을특징으로한다.
摘要翻译：本发明的实施例的多电荷粒子束写入方法包括以下处理：收集多个带电粒子束的每个光束的写入位置，以通过光束偏转开始跟踪控制，以跟踪a 执行跟踪控制，并且在每个光束的写入位置从多个带电粒子束中照射与ON光束对应的光束; 继续执行跟踪控制以使跟踪控制的光束偏转分开地使多带电粒子束偏转，并将每个光束的写入位置移动到每个光束的写入的下一个位置; 继续执行跟踪控制，以在每个光束移动的写入位置处从多个带电粒子束中照射对应于ON光束的光束; 并且继续执行跟踪控制以在移动至少一次之后对与每个光束的写入位置相对应的光束进行照射，以重新设定用于跟踪控制的光束偏转，并且将跟踪位置返回到舞台的运动方向。从跟踪控制开始到复位的过程被制成一个组，并且重复该组以预设的频率来完成某个区域的写入。从频率开始的至少第一次的组中的跟踪开始到重置的跟踪时间变得比另一组的跟踪时间长。

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